升降臺式樣品池送進定位及環(huán)境光遮蔽系統(tǒng)，使光子相關(guān)譜探測系統(tǒng)不只體積小，而且具有很強的抗干擾能力。高精度的測試溫度控制系統(tǒng)：單獨的循環(huán)溫控槽可在2-95℃范圍內(nèi)任意設(shè)定，其控制精度達0.1℃。微量樣品池/標準樣品池：可以使用3.5ML的標準樣品池外，還有適應于稀有貴重樣品的0.3ML微樣池。環(huán)境溫度：在5-35℃的環(huán)境中，本儀器都能正常使用。納米粒度儀樣品池恒溫箱及恒溫DI水供應系統(tǒng)：有利于提高測試溫度控制精度同時減少等待樣品池熱平衡的時間，提高儀器的實際測試精度和工作效率。誠摯的歡迎業(yè)界新朋老友走進馳光機電科技有限公司！湖北激光粒度粒形分析儀廠家

CPS納米粒度分析儀樣本分散系統(tǒng)：自動液體循環(huán)、干粉分散器、粉料送樣器、溫度控制器、氣溶膠控制器。粒度儀的較佳選擇：EyeTech可以提供顆粒系統(tǒng)粒徑、形狀和濃度等方面的總體信息。具有多樣化的功能，可以：監(jiān)測動力學過程；提供標準的體積和數(shù)量分布的結(jié)果。激光和圖像通道的結(jié)合：對球形、非球形及細長顆粒的精確定性分析；可同時測量粒徑、粒形和濃度；多種模塊配置可滿足不同類型的干法及濕法檢測需求；測量過程中可實時觀察樣品顆粒。天津高精度納米粒度分析儀價格馳光機電科技有限公司團隊從用戶需求出發(fā)。

CMP(化學機械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對CMP工藝起著至關(guān)重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題！

CPS分析儀基本原理：CPS納米粒度分析儀依據(jù)Stokes定律，V=D2(ρP-ρF)G/18η，即顆粒沉降的速度與顆粒的尺寸平方成正比來進行粒度的測量。待測樣品從圓盤中心進入高速旋轉(zhuǎn)的圓盤，在離心力的作用下發(fā)生沉降，沉降的速度遵循Stokes公式，在距離圓盤的邊緣固定位置設(shè)有激光檢測器，顆粒按尺寸大小依次通過探測器，儀器記錄顆粒通過探測器的時間，由于所有顆粒走過的路程都一樣，因此，顆粒運動所需的時間與顆粒本身尺寸的平方成反比，激光檢測器同時檢測顆粒對光的散射程度。馳光機電科技有限公司以快的速度提供前列的產(chǎn)品質(zhì)量和好的價格及完善的售后服務。

系統(tǒng)配有沖洗系統(tǒng)，減少了由于系統(tǒng)污染引起的計劃外停機維護時間。樣品預處理系統(tǒng)：正確設(shè)計和操作樣品調(diào)節(jié)系統(tǒng)是分析儀成功運行的關(guān)鍵。該系統(tǒng)基于現(xiàn)場經(jīng)驗針對這種復雜的工藝樣品，專門為低維護操作而設(shè)計。低維護的固體顆粒分離器。不帶過濾元件可將顆粒去除達到2-3微米，減少了維護量。先進的安全系統(tǒng)，保護分析儀免受高壓影響和防止產(chǎn)品泄漏。簡單校準。標準的引入是一種手工操作，只需使用注射器即可，不需要定期重新校準，無樣本回收系統(tǒng)。馳光機電科技有限公司團結(jié)、創(chuàng)新、合作、共贏。寧夏高靈敏度納米粒度分析儀

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應用實例：測量高純氧化鋁粉。一般來說，含量大于99%的氧化鋁稱為高純氧化鋁，其特性有耐化學腐蝕、耐高溫(正常使用在1600℃，短期1800℃)、耐驟冷驟熱、密度高等。99.995%高純氧化鋁粉主要用于LED人造藍寶石晶體、高級陶瓷、PDP熒光粉及其他高性能材料；99.99%高純氧化鋁粉用于高壓鈉燈、新型發(fā)光材料、特殊陶瓷、高級涂層、三基色、催化劑及其他高性能材料。粒度是高純氧化鋁粉產(chǎn)品的重要指標，CPS納米粒度分析儀能給您帶來確切穩(wěn)定的測量結(jié)果。使用CPS分析儀平行測定3次高純氧化鋁粉得到的疊加圖。湖北激光粒度粒形分析儀廠家