低維護(hù)配置允許安裝分析儀在常壓下將樣品返回的合適位置,進(jìn)一步減少維護(hù)需求。C-Quand在線EDXRF分析儀的優(yōu)勢:1.帶有十五個測量通道,可以同時分析15種元素的含量。2.沒有運動部件,不需要更換動力窗模塊。3.運行維護(hù)成本低,無后期耗材成本。4.維護(hù)操作簡單,帶有全自動樣品池清洗模塊,每次維護(hù)時間多數(shù)十分鐘,宕機(jī)時間短。5.內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)樣品,不需要停機(jī)校準(zhǔn),實現(xiàn)真正的完全在線測量。6.測量結(jié)果不受樣品密度和原料種類影響,直接測量元素含量。馳光機(jī)電過硬的產(chǎn)品質(zhì)量、完善的售后服務(wù)、認(rèn)真嚴(yán)格的企業(yè)管理,贏得客戶的信譽。貴州二氧化鈦粒度分析儀報價
高靈敏度:即使只有1微克樣品,CPS也能得到一個準(zhǔn)確的粒度分布結(jié)果??焖?、高精度數(shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換:可用信號分辨率(即軟件操作的數(shù)據(jù)對象)決定于數(shù)模轉(zhuǎn)換(A/D)過程。CPS系統(tǒng)使用的數(shù)模轉(zhuǎn)換可以實現(xiàn)在每秒31次取樣時保持20位以上的精度,即百萬分之一的誤差??焖贆z測頭響應(yīng):CPS系統(tǒng)的檢測頭和電路設(shè)計允許在95%精度下0.1秒的響應(yīng)速度,而同類產(chǎn)品的響應(yīng)時間為1-4秒。這一出眾的快速移動峰值檢測能力較大地擴(kuò)展了測量的動態(tài)范圍,比同類型產(chǎn)品提供高出4倍多的分析速度。寧夏CPS高精度納米粒度分析儀廠家山東馳光機(jī)電科技有限公司以創(chuàng)百年企業(yè)、樹百年品牌為使命,傾力為客戶創(chuàng)造更大利益!
CPS納米粒度儀測量金剛石的粒徑:金剛石微粉是指顆粒度細(xì)于36/54微米的金剛石顆粒,金剛石微粉硬度高、耐磨性好。大量用于機(jī)械、航天、光學(xué)儀器、玻璃、陶瓷、電子、石油、地質(zhì)、工業(yè)部門,用于制作PCD(聚晶金剛石)、 PDC(金剛石復(fù)合片)、陶瓷結(jié)合劑、金屬結(jié)合劑、電鍍產(chǎn)品;制作拉絲模、電鍍磨具,陶瓷、金屬結(jié)合劑磨具等;制造金剛石樹脂結(jié)合劑彈性磨塊等;用于精密機(jī)械、光學(xué)玻璃、精細(xì)陶瓷、寶石及半導(dǎo)體等產(chǎn)品的研磨拋光。CPS納米粒度分析儀測量金剛石微粉的粒徑。
技術(shù)優(yōu)勢:CPS系統(tǒng)優(yōu)良性能的基礎(chǔ)是它先進(jìn)的示差沉降技術(shù)。高轉(zhuǎn)速:CPS可以支持的較高轉(zhuǎn)速為24,000轉(zhuǎn)/分。對于超細(xì)顆粒,其分析速度比其它產(chǎn)品快倍。使用速度調(diào)節(jié)技術(shù),可以對粒度分布范圍較廣的樣品進(jìn)行分析。對于在其它分析儀上很多非常耗時(數(shù)小時或更長)的樣品,CPS可以快速得到結(jié)果。高精度標(biāo)定:CPS系統(tǒng)使用已知的標(biāo)定顆粒進(jìn)行標(biāo)定,與美國國家標(biāo)準(zhǔn)和技術(shù)研究院(NIST)相兼容的標(biāo)準(zhǔn)保證了分析結(jié)果的一致性和精確度。使用內(nèi)標(biāo)法,也即把已知標(biāo)定顆粒與待分析樣品相混合,所得的峰值結(jié)果可以達(dá)到±0.25%的精度。山東馳光機(jī)電科技有限公司產(chǎn)品銷往國內(nèi)。
水泥的粒度分布如何將較大的影響混凝土的強(qiáng)度。粒度分布的測量對產(chǎn)品的質(zhì)量控制,降低生產(chǎn)成本,提高產(chǎn)品質(zhì)量,減少能耗方面均有較大的作用。對于水泥生產(chǎn)的實時控制,就需要粒度儀這樣的監(jiān)控儀器,保證數(shù)據(jù)的輸出連續(xù)性,確保質(zhì)量的可靠。納米粒度儀采用動態(tài)光散射原理和光子相關(guān)光譜技術(shù),根據(jù)顆粒在液體中的布朗運動的速度測定顆粒大小。小顆粒布朗運動速度快,大顆粒布朗運動速度慢,激光照射這些顆粒,不同大小的顆粒將使散射光發(fā)生快慢不同的漲落起伏。馳光機(jī)電品牌價值不斷提升。CPS高精度納米粒度分析儀報價
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對于粒徑分布范圍很寬的樣品,通過可選的速度調(diào)節(jié)功能圓盤,只需常規(guī)圓盤分析時間的1/20。經(jīng)過CPS納米粒度儀對裂解后炭黑進(jìn)行粒徑測試后的結(jié)果所示:與掃描電鏡所顯示的結(jié)果基本一致,裂解后的炭黑較小粒徑為3um,較大可至50多微米,并且出現(xiàn)很多峰值,證明樣液中具有不同粒徑且含量不同的的炭黑。峰值粒徑處于30um左右。真實反映了不同炭黑粒徑的分布狀態(tài)。隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展,電子器件尺寸縮小,要求晶片表面平整度達(dá)到納米級。作為芯片制造不可或缺的一環(huán),CMP工藝在設(shè)備和材料領(lǐng)域歷來是受歡迎的。貴州二氧化鈦粒度分析儀報價