二、2DU型硅光電二極管：2DU型硅光電二極管是用P型硅單晶制作的，從外形上分有2DUA，2DUB等類型，其中2DUA型管子體積較小些（見圖1（b））。2DU型硅光電二極管目前多采用陶瓷樹脂封裝，入射光的窗口不帶透鏡。這類管子引線共有三條，分別稱作前極、后極、環(huán)極（見圖1（b））。前極即光敏區(qū)（N型區(qū)）的引線；后極為襯底（P型區(qū)）的引線；環(huán)極是為了減小光電管的暗電流和提高管子的穩(wěn)定性而設(shè)計(jì)的另一電極。光電管的暗電流是指光電二極管在無光照、高工作電壓下的反向漏電流。我們要求暗電流越小越好。這樣的管子性能穩(wěn)定，同時(shí)對(duì)檢測(cè)弱光的能力也越強(qiáng)。為什么加了環(huán)極后就可以減小2DU型硅光電二極管的暗電流呢？這要從硅光電二極管的制造工藝談起。在制造硅光電二極管的管心時(shí)，將硅單晶片經(jīng)過研磨拋光后在高溫下先生長(zhǎng)一層二氧化硅氧化層，然后利用光刻工藝在氧化層上刻出光敏面的窗口圖形，利用擴(kuò)散工藝在圖形中擴(kuò)散進(jìn)去相應(yīng)的雜質(zhì)以形成P－N結(jié)。然后再利用蒸發(fā)、壓焊、燒結(jié)等工藝引出電極引線。由于2DU型硅光電二極管是用P型硅單晶制造的，在高溫生長(zhǎng)氧化層的過程中，容易在氧化層下面的硅單晶表面形成一層薄薄的N型層。世華高硅光電二極管讓你體驗(yàn)許多智能化功能！湖州硅光電硅光電二極管批發(fā)

    其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過十余年的發(fā)展，世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu)，分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。實(shí)施例一一種sr摻雜batio3/znte光陰極材料的制備方法，具體步驟如下：稱取、，依次加入2ml乙酸、6ml乙醇和6ml水，攪拌一定時(shí)間，使固體粉末完全溶解；然后，加入，攪拌24h，得到紡絲溶液；移取7ml紡絲溶液到10ml注射器中，設(shè)置靜電紡絲工藝參數(shù)：注射器推進(jìn)速度3mm/h，紡絲電壓18kv，接收距離8cm，滾筒轉(zhuǎn)速200r/min，在固定于滾筒上的fto玻璃上接收固化的復(fù)合纖維，150℃烘箱中干燥過夜，烘干后置于600℃馬弗爐中煅燒2h，熱分解后即可獲得sr摻雜batio3薄膜電極；配制30ml濃度為5mmol/l硝酸鋅、5mmol/l碲酸鈉和，攪拌均勻，轉(zhuǎn)入50ml水熱反應(yīng)釜中；將sr摻雜batio3薄膜電極放入反應(yīng)釜內(nèi)，fto導(dǎo)電面朝下，密封水熱反應(yīng)釜，置于恒溫干燥箱中，160℃水熱反應(yīng)10h；反應(yīng)結(jié)束，取出fto電極，水洗3次，60℃下真空干燥8h；干燥后，將薄膜放入管式爐內(nèi)，氮?dú)獗Ｗo(hù)條件下煅燒。佛山硅光電二極管接法硅光電池就找深圳世華高。

    技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明解決的技術(shù)問題在于提供高速高響應(yīng)度的硅基光電二極管及其制備方法，在不影響光電二極管響應(yīng)度的前提下，解決了硅基光電二極管響應(yīng)速度慢的問題，實(shí)現(xiàn)硅基光電二極管高響應(yīng)度與高響應(yīng)速度同時(shí)提升。本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)：一種高速高響應(yīng)度的硅基光電二極管，包括背面設(shè)有背面電極的襯底；襯底正面依次設(shè)有高反層、外延層、注入層、氧化硅層、氮化硅層和正面金屬電極；所述的高反層上開設(shè)有用于形成電流路徑的刻蝕孔，以及與正面金屬電極相對(duì)應(yīng)的刻蝕區(qū)；所述的注入層包括保護(hù)環(huán)以及設(shè)在其內(nèi)的有源區(qū)；所述的正面金屬電極還貫穿氧化硅層、氮化硅層與有源區(qū)相連接。所述的襯底為電阻率20～100為ohm·cm的硅基襯底，襯底背面直接做金屬化處理形成背面電極。所述的高反層由折射率～～；高反層上開設(shè)的刻蝕孔為矩陣排列的圓形孔，或者為同心環(huán)形孔。所述的刻蝕孔為均勻分布的圓形孔時(shí)，孔直徑為10～50um，孔間距為15～50um，圓形孔的總面積為結(jié)面積的1/2；所述的刻蝕孔為同心環(huán)形孔時(shí)，同心環(huán)中心與正面金屬電極的中心重合，同心環(huán)中心為刻蝕區(qū)，相鄰環(huán)間距5～20um。所述的外延層淀積在高反層上；在外延層上分別以n型離子注入形成保護(hù)環(huán)。

    2CU-3-型管子二條引線中較長(zhǎng)一根是“＋”極。2CU型硅光電二極管使用時(shí)電原理圖見圖⑤（b）。圖中E為反向工作電壓的電源，R-L-是負(fù)載電阻，電信號(hào)就從它的兩端輸出。當(dāng)無光照時(shí)，R-L-兩端的電壓很??；當(dāng)有光照時(shí)，R-L-兩端的電壓增高，R-L-兩端電壓大小隨光照強(qiáng)弱作相應(yīng)的變化，這樣就將光信號(hào)變成了電信號(hào)。圖⑥所示是實(shí)際應(yīng)用中的簡(jiǎn)單的光電控制線路。其中圖⑥（a）是亮通的光控線路。圖中2CU管是光電接收元件，三極管BG-1-和BG-2-直接耦合組成一級(jí)射極跟隨器?！癑”表示繼電器，它的型號(hào)是JRXB－1型。圖中D-1-是2CP-10-型二極管，它的作用是保護(hù)BG-2-三極管的。當(dāng)有光照射到光電管上時(shí)，光電管內(nèi)阻變小，因此使通過2CU、R-1-、R-2-的電流變大則R-2-兩端的電壓增大，使BG-1-導(dǎo)通。BG-1-發(fā)射極電流大部分流入BG-2-基極，使BG-2-導(dǎo)通并飽和，這樣繼電器線圈中流過較大的電流，使繼電器觸點(diǎn)吸合；當(dāng)無光照時(shí)2CU內(nèi)阻增大，通過2CU、R-1-、R-2-的電流很小，因此R-2-兩端電壓很小，使BG-1-截止。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設(shè)在深圳。濱松光電二極管選世華高半導(dǎo)體。

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    世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu)，分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。高反層109由高折射率薄膜與低折射率薄膜交替疊加組成；2)利用等離子刻蝕機(jī)在高反層109上以干法刻蝕開設(shè)刻蝕孔，并刻蝕掉與正面金屬電極106相對(duì)的高反層109；3)刻蝕完成后，在高反層109上以化學(xué)氣相淀積的方法生長(zhǎng)電阻率500～1000ohm·cm的n-外延層，其厚度與耗盡區(qū)寬度相當(dāng)；4)在外延層101上以as離子源進(jìn)行n型離子注入，注入劑量1e15～2e15，形成保護(hù)環(huán)102。與保護(hù)環(huán)102間距12～20um，在外延層101上以b離子源進(jìn)行p型離子注入，注入劑量1e15～2e15，形成有源區(qū)103；5)在保護(hù)環(huán)102和有源區(qū)103上通過熱氧化法生成sio2層104，在sio2層上方淀積生長(zhǎng)si3n4層105；6)接連刻穿si3n4層和sio2層形成接觸孔，然后濺射al，并將濺射層刻蝕形成正面金屬電極106；7)在襯底107背面直接進(jìn)行金屬化處理形成背面電極108。下面給出具體的實(shí)施例。實(shí)施例11)在n+重?fù)诫s的襯底107上濺射生成厚度3～5um的高反層109，2)利用等離子刻蝕機(jī)干法刻蝕工藝在高反層109刻孔；3)高反層109上通過淀積的方法生長(zhǎng)n-外延層101。湖州硅光電硅光電二極管批發(fā)