晶體管內(nèi)部載流子的運(yùn)動(dòng)=0時(shí)，晶體管內(nèi)部載流子運(yùn)動(dòng)示意圖如下圖所示。1．發(fā)射結(jié)加正向電壓，擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)形成發(fā)射極電流因?yàn)榘l(fā)射結(jié)加正向電壓，發(fā)射區(qū)雜質(zhì)濃度高，所以大量自由電子因擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)越過(guò)發(fā)射結(jié)到達(dá)基區(qū)。與此同時(shí)，空穴也從基區(qū)向發(fā)射區(qū)擴(kuò)散，由于基區(qū)雜質(zhì)濃度低，空穴形成的電流非常小，忽略不計(jì)?？梢?jiàn)，擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)形成了發(fā)射極電流。2．?dāng)U散到基區(qū)的自由電子與空穴的復(fù)合運(yùn)動(dòng)形成基極電流由于基區(qū)很薄，雜質(zhì)濃度很低，集電結(jié)又加反向電壓，所以擴(kuò)散到基區(qū)的電子中只有極少部分與空穴復(fù)合，其余部分均作為基區(qū)的非平衡少子達(dá)到集電結(jié)。又由于電壓的作用，電子與空穴的復(fù)合運(yùn)動(dòng)將源源不斷進(jìn)行，形成基極電流。3．集電結(jié)加反向電壓，漂移運(yùn)動(dòng)形成集電極電流由于集電結(jié)加反向電壓且其結(jié)面積較大，基區(qū)的非平衡少子在外電場(chǎng)作用下越過(guò)集電結(jié)到達(dá)集電區(qū)，形成漂移電流vt是一個(gè)npn型三極管，起放大作用。特點(diǎn)晶體管平臺(tái)

δvz---穩(wěn)壓管電壓漂移di/dt---通態(tài)電流臨界上升率dv/dt---通態(tài)電壓臨界上升率PB---承受脈沖燒毀功率PFT（AV）---正向?qū)ㄆ骄纳⒐β蔖FTM---正向峰值耗散功率PFT---正向?qū)偹矔r(shí)耗散功率Pd---耗散功率PG---門極平均功率PGM---門極峰值功率PC---控制極平均功率或集電極耗散功率Pi---輸入功率PK---比較大開(kāi)關(guān)功率PM---額定功率。硅二極管結(jié)溫不高于150度所能承受的最大功率PMP---比較大漏過(guò)脈沖功率PMS---比較大承受脈沖功率Po---輸出功率PR---反向浪涌功率Ptot---總耗散功率Pomax---最大輸出功率Psc---連續(xù)輸出功率PSM---不重復(fù)浪涌功率PZM---最大耗散功率。在給定使用條件下，穩(wěn)壓二極管允許承受的最大功率。出口晶體管制造商晶體管就是在晶圓上直接雕出來(lái)的，晶圓越大，芯片制程越??；

參見(jiàn)晶體三極管特性曲線2-18圖所示：圖2-18晶體三極管特性曲線3、晶體三極管共發(fā)射極放大原理如下圖所示：A、vt是一個(gè)npn型三極管，起放大作用。B、ecc集電極回路電源（集電結(jié)反偏）為輸出信號(hào)提供能量。C、rc是集電極直流負(fù)載電阻，可以把電流的變化量轉(zhuǎn)化成電壓的變化量反映在輸出端。D、基極電源ebb和基極電阻rb，一方面為發(fā)射結(jié)提供正向偏置電壓，同時(shí)也決定了基極電流ib.圖2-19共射極基本放大電路E、cl、c2作用是隔直流通交流偶合電容。F、rl是交流負(fù)載等效電阻。

晶體管的結(jié)構(gòu)及類型用不同的摻雜方式在同一個(gè)硅片上制造出三個(gè)摻雜區(qū)域，并形成兩個(gè)PN結(jié)，就構(gòu)成了晶體管。結(jié)構(gòu)如圖(a)所示，位于中間的P區(qū)稱為基區(qū)，它很薄且雜質(zhì)濃度很低；位于上層的N區(qū)是發(fā)射區(qū)，摻雜濃度很高；位于下層的N區(qū)是集電區(qū)，面積很大；它們分別引出電極為基極b,發(fā)射極e和集電極c。晶體管的電流放大作用如下圖所示為基本放大電路，為輸入電壓信號(hào)，它接入基極-發(fā)射極回路，稱為輸入回路；放大后的信號(hào)在集電極-發(fā)射極回路，稱為輸出回路。由于發(fā)射極是兩個(gè)回路的公共端，故稱該電路為共射放大電路。晶體管工作在放大狀態(tài)的外部條件是發(fā)射結(jié)正偏且集電結(jié)反向偏置，所以輸入回路加的基極電源和輸出回路加的集電極電源晶體管按工作頻率可分為低頻晶體管、高頻晶體管和超高頻晶體管等。

按功能結(jié)構(gòu)分類：集成電路按其功能、結(jié)構(gòu)的不同，可以分為模擬集成電路和數(shù)字集成電路兩大類。按制作工藝分類：集成電路按制作工藝可分為半導(dǎo)體集成電路和膜集成電路。膜集成電路又分類厚膜集成電路和薄膜集成電路。按導(dǎo)電類型不同分類：集成電路按導(dǎo)電類型可分為雙極型集成電路和單極型集成電路。雙極型集成電路的制作工藝復(fù)雜，功耗較大，集成電路有TTL、ECL、HTL、LST-TL、STTL等類型。單極型集成電路的制作工藝簡(jiǎn)單，功耗也較低，易于制成大規(guī)模集成電路，集成電路有CMOS、NMOS、PMOS等類型。按用途分類：集成電路按用途可分為電視機(jī)用集成電路。音響用集成電路、影碟機(jī)用集成電路、錄像機(jī)用集成電路、電腦(微機(jī))用集成電路、電子琴用集成電路、通信用集成電路、照相機(jī)用集成電路、遙控集成電路、語(yǔ)言集成電路、報(bào)警器用集成電路及各種集成電路。IC由于體積小、功能強(qiáng)大、功耗低等優(yōu)點(diǎn)，現(xiàn)在幾乎所有的電子產(chǎn)品都離不開(kāi)IC，從身份證到公交乘車卡，從家用電器到兒童電子玩具，從個(gè)人電腦到巨型計(jì)算機(jī)……沒(méi)有IC是不可想像的。晶體管按功能和用途可分為低噪聲放大晶體管、中高頻放大晶體管、光敏晶體管和磁敏晶體管等多種類型。特點(diǎn)晶體管平臺(tái)

金屬半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管（MESFET）之所以被稱為這個(gè)名稱是因?yàn)闁艠O接觸是由金屬-半導(dǎo)體結(jié)形成的.特點(diǎn)晶體管平臺(tái)

IRM---反向峰值電流IRR---晶閘管反向重復(fù)平均電流IDR---晶閘管斷態(tài)平均重復(fù)電流IRRM---反向重復(fù)峰值電流IRSM---反向不重復(fù)峰值電流（反向浪涌電流）Irp---反向恢復(fù)電流Iz---穩(wěn)定電壓電流（反向測(cè)試電流）。測(cè)試反向電參數(shù)時(shí)，給定的反向電流Izk---穩(wěn)壓管膝點(diǎn)電流IOM---比較大正向（整流）電流。在規(guī)定條件下，能承受的正向比較大瞬時(shí)電流；在電阻性負(fù)荷的正弦半波整流電路中允許連續(xù)通過(guò)鍺檢波二極管的最大工作電流IZSM---穩(wěn)壓二極管浪涌電流IZM---比較大穩(wěn)壓電流。在最大耗散功率下穩(wěn)壓二極管允許通過(guò)的電流iF---正向總瞬時(shí)電流iR---反向總瞬時(shí)電流ir---反向恢復(fù)電流Iop---工作電流Is---穩(wěn)流二極管穩(wěn)定電流f---頻率n---電容變化指數(shù)；電容比Q---優(yōu)值。特點(diǎn)晶體管平臺(tái)