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浙江陶瓷靶材

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-08-11

靶材安裝注意事項(xiàng)靶材安裝過程中非常重要的注意事項(xiàng)是一定要確保在靶材和濺射腔體冷卻壁之間建立很好的導(dǎo)熱連接。如果冷卻壁的翹曲程度嚴(yán)重或背板翹曲嚴(yán)重會造成靶材安裝時(shí)發(fā)生開裂或彎曲,背靶到靶材的導(dǎo)熱性能就會受到很大的影響,導(dǎo)致在濺射過程中熱量無法散發(fā)**終會造成靶材開裂或脫靶。為確保足夠的導(dǎo)熱性,可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請注意要仔細(xì)檢查和明確所使用濺射***冷卻壁的平整度,同時(shí)確保密封圈始終在位置上。由于所使用冷卻水的潔凈程度和設(shè)備運(yùn)行過程中可能會產(chǎn)生的污垢會沉積在陰極冷卻水槽內(nèi),所以在安裝靶材時(shí)需要對陰極冷卻水槽進(jìn)行檢查和清理,確保冷卻水循環(huán)的順暢和進(jìn)出水口不會被堵塞。有些陰極設(shè)計(jì)與陽極的空隙較小,所以在安裝靶材時(shí)需要確保陰極與陽極之間沒有接觸也不能存在導(dǎo)體,否則會產(chǎn)生短路。靶材開裂影響因素裂紋形成通常發(fā)生在陶瓷濺射靶材和脆性材料濺射靶材(如鉻、銻、鉍等)中。浙江陶瓷靶材

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從ITO靶材的發(fā)展趨勢來看:1)大尺寸化,在需要大面積鍍膜時(shí),通常將小尺寸靶材拼接焊接成大尺寸靶材,由于具有焊縫,靶材鍍膜質(zhì)量將降低;2)高密度化,在濺射過程中ITO靶材表面會出現(xiàn)結(jié)瘤現(xiàn)象,如果繼續(xù)濺射,所制備的薄膜光學(xué)性能以及電學(xué)性能將降低。高密度的靶材具有較好的熱傳導(dǎo)性以及較小的界面電阻,因此結(jié)瘤現(xiàn)象出現(xiàn)的概率較小,所制備的ITO薄膜的質(zhì)量較高,且生產(chǎn)效率、成本較低;3)提高靶材利用率,由于平面靶材在濺射過程中,中間部分難以被侵蝕,因此靶材利用效率相對較低。通過改變靶材形狀,可以提高靶材的利用效率,從而降低備ITO薄膜的成本。廣東氧化物陶瓷靶材價(jià)格咨詢ITO靶材被廣泛應(yīng)用于各大行業(yè)之中。

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靶材由“靶坯”和“背板”焊接而成。(1)靶坯是高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料,屬于濺射靶材的主要部分,涉及高純金屬、晶粒取向調(diào)控。在濺射鍍膜過程中,靶坯被離子撞擊后,其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜。(2)背板起到主要起到固定濺射靶材的作用,涉及焊接工藝。由于高純度金屬強(qiáng)度較低,而濺射靶材需要安裝在機(jī)臺內(nèi)完成濺射過程。機(jī)臺內(nèi)部為高電壓、高真空環(huán)境,因此,超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進(jìn)行接合,背板需要具備良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。

ITO靶材被廣泛應(yīng)用于各大行業(yè)之中,其主要應(yīng)用分為:平板顯示器(FPD)產(chǎn)業(yè),薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、液晶顯示器(LCD)、電激發(fā)光顯示器(EL)、電致有機(jī)發(fā)光平面顯示器(OELD)、場發(fā)射顯示器(FED)、等離子顯示器(PDP)等;光伏產(chǎn)業(yè),如薄膜太陽能電池;功能性玻璃,如紅外線反射玻璃、抗紫外線玻璃如幕墻玻璃、汽車、飛機(jī)上的防霧擋風(fēng)玻璃、光罩和玻璃型磁盤等三大域。但主要應(yīng)用于還是在平板顯示器中,它是濺射ITO導(dǎo)電薄膜的主要原料,沒有它的存在,諸多的材料將無法實(shí)現(xiàn)正常加工以及設(shè)計(jì)。ITO薄膜由于對可見光透明和導(dǎo)電性良好的性,還被廣泛應(yīng)用于液晶顯示玻璃、幕墻玻璃和飛機(jī)、汽車上的防霧擋風(fēng)玻璃等。


ITO靶材是當(dāng)前太陽能電池主要的濺射靶材。

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主要PVD方法的特點(diǎn):半導(dǎo)體、顯示面板使用濺射鍍膜法(1)金屬提純:靶材純度要求高。金屬提純的主要方式有化學(xué)提純與物理提純,化學(xué)提純主要分為濕法提純與火法提純,通過電解、熱分解等方式析出主金屬。物理提純則是通過蒸發(fā)結(jié)晶、電遷移、真空熔融法等步驟提純得到主金屬。(2)制造加工:塑性變形、熱處理、控制晶粒取向:需要根據(jù)下游應(yīng)用領(lǐng)域的性能需求進(jìn)行工藝設(shè)計(jì),然后進(jìn)行反復(fù)的塑性變形、熱處理,需要精確地控制晶粒、晶向等關(guān)鍵指標(biāo),再經(jīng)過焊接、機(jī)械加工、清洗干燥、真空包裝等工序。靶材制造涉及的工序精細(xì)繁多,技術(shù)門檻高、設(shè)備投資大,具有規(guī)模化生產(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對較少。靶材制造的方法主要有熔煉法與粉末冶金法。熔煉法主要有真空感應(yīng)熔煉、真空電弧熔煉、真空電子束熔煉等方法,通過機(jī)械加工將熔煉后的鑄錠制備成靶材,該方法得到的靶材雜質(zhì)含量低、密度高、可大型化、內(nèi)部無氣孔,但若兩種合金熔點(diǎn)、密度差異較大則無法形成均勻合金靶材。粉末冶金法主要有熱等靜壓法、熱壓法、冷壓-燒結(jié)法三種方法,通過將各種原料粉混合再燒結(jié)成形的方式得到靶材,該方法優(yōu)點(diǎn)是靶材成分較為均勻、機(jī)械性能好,缺點(diǎn)為含氧量較高。靶材相對密度對大面積鍍膜的影響靶材的相對密度是靶材的實(shí)際密度與理論密度之比。寧夏鍍膜陶瓷靶材價(jià)格咨詢

AZO薄膜是一種透明導(dǎo)電膜,與ITO薄膜相似的光學(xué)和電學(xué)特性,制備工藝簡單、價(jià)格低、無毒和穩(wěn)定性好等特點(diǎn)。浙江陶瓷靶材

磁控濺射鍍膜是一種新型的氣相鍍膜方式,就是用電子槍系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上,使其被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在真空中經(jīng)過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導(dǎo)體集成電路、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣的應(yīng)用。制程反應(yīng)室內(nèi)部的高溫與高真空環(huán)境,可使這些金屬原子結(jié)成晶粒,再透過微影圖案化與蝕刻,終一層層金屬導(dǎo)線,而芯片的數(shù)據(jù)傳輸全靠這些金屬導(dǎo)線。濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、裝飾用品等行業(yè)。浙江陶瓷靶材

江蘇迪納科精細(xì)材料股份有限公司總部位于南京市江寧區(qū)芳園西路10號九龍湖國際企業(yè)園創(chuàng)新中心A座8層,是一家2011年成立,一直專注于PVD磁控濺射靶材的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、應(yīng)用推廣以及靶材回收再利用。產(chǎn)品涵蓋陶瓷靶材、高純金屬靶材、合金靶材、貴金屬靶材、等離子噴涂靶材、蒸發(fā)鍍顆粒及高純陶瓷粉末。20年專注專業(yè),1站式靶材供應(yīng)。的公司。迪納科材料深耕行業(yè)多年,始終以客戶的需求為向?qū)В瑸榭蛻籼峁└哔|(zhì)量的濺射靶材,陶瓷靶材,金屬靶材,等離子噴涂靶材。迪納科材料始終以本分踏實(shí)的精神和必勝的信念,影響并帶動團(tuán)隊(duì)取得成功。迪納科材料創(chuàng)始人孔偉華,始終關(guān)注客戶,創(chuàng)新科技,竭誠為客戶提供良好的服務(wù)。

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