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靶材由“靶坯”和“背板”焊接而成。(1)靶坯是高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料,屬于濺射靶材的主要部分,涉及高純金屬、晶粒取向調(diào)控。在濺射鍍膜過(guò)程中,靶坯被離子撞擊后,其表面原子被濺射飛散出來(lái)并沉積于基板上制成電子薄膜。(2)背板起到主要起到固定濺射靶材的作用,涉及焊接工藝。由于高純度金屬?gòu)?qiáng)度較低,而濺射靶材需要安裝在機(jī)臺(tái)內(nèi)完成濺射過(guò)程。機(jī)臺(tái)內(nèi)部為高電壓、高真空環(huán)境,因此,超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過(guò)不同的焊接工藝進(jìn)行接合,背板需要具備良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。陶瓷靶材的種類(lèi)很多,應(yīng)用范圍廣,主要用于微電子領(lǐng)域,顯示器用,存儲(chǔ)等領(lǐng)域.貴州濺射陶瓷靶材
磁控濺射鍍膜是一種新型的氣相鍍膜方式,就是用電子槍系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上,使其被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在真空中經(jīng)過(guò)加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換,使固體表面的原子離開(kāi)固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱(chēng)為濺射靶材。各種類(lèi)型的濺射薄膜材料無(wú)論在半導(dǎo)體集成電路、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣的應(yīng)用。制程反應(yīng)室內(nèi)部的高溫與高真空環(huán)境,可使這些金屬原子結(jié)成晶粒,再透過(guò)微影圖案化與蝕刻,終一層層金屬導(dǎo)線,而芯片的數(shù)據(jù)傳輸全靠這些金屬導(dǎo)線。濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、裝飾用品等行業(yè)。山東顯示行業(yè)陶瓷靶材靶材是半導(dǎo)體、顯示面板、異質(zhì)結(jié)光伏領(lǐng)域等的關(guān)鍵材料,存在工藝不可替代性。
濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項(xiàng)雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物(氧化物)含量與尺寸、導(dǎo)磁率、超高密度與超細(xì)晶粒等等。磁控濺射鍍膜是一種新型的鍍膜方式,就是用電子槍系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上,使其被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。 濺射靶材有金屬,合金,陶瓷化合物等。
靶材預(yù)濺射建議采用純氬氣進(jìn)行濺射,可以起到清潔靶材表面的作用。靶材進(jìn)行預(yù)濺射時(shí)建議慢慢加大濺射功率,陶瓷類(lèi)靶材的功率加大速率建議為1.5W小時(shí)/平方厘米。金屬類(lèi)靶材的預(yù)濺射速度可以比陶瓷靶材快,一個(gè)合理的功率加大速率為1.5W小時(shí)/平方厘米。在進(jìn)行預(yù)濺射的同時(shí)需要檢查靶材起弧狀況,預(yù)濺射時(shí)間一般為10分鐘左右。如沒(méi)有起弧現(xiàn)象,繼續(xù)提升濺射功率到設(shè)定功率。根據(jù)經(jīng)驗(yàn),一般應(yīng)確保冷卻水出水口的水溫應(yīng)低于35攝氏度,但非常重要的是確保冷卻水的循環(huán)系統(tǒng)能有效工作,通過(guò)冷卻水的快速循環(huán)帶走熱量,是確保能以較高功率連續(xù)濺射的一項(xiàng)重要保障。陶瓷靶材和金屬靶材各自優(yōu)缺點(diǎn);
主要PVD方法的特點(diǎn):(3)濺射鍍膜:在濺射鍍膜過(guò)程中,濺射靶材需要安裝在機(jī)臺(tái)中完成濺射反應(yīng),濺射機(jī)臺(tái)專(zhuān)業(yè)性強(qiáng)、精密度高,市場(chǎng)長(zhǎng)期被美國(guó)、日本跨國(guó)集團(tuán)壟斷。(4)終端應(yīng)用:1)半導(dǎo)體芯片:?jiǎn)卧骷械慕橘|(zhì)層、導(dǎo)體層與保護(hù)層需要鉭、鎢、銅、鋁、鈦等金屬。2)平板顯示器件:為了保證大面積膜層的均勻性,提高生產(chǎn)率和降低成本,濺射技術(shù)鍍膜需要鉬、鋁、ITO等材料;3)薄膜太陽(yáng)能電池——第三代,濺射鍍膜工藝是被優(yōu)先選用的制備方法,靶材是不可或缺的原材料;4)計(jì)算機(jī)儲(chǔ)存器:磁信息存儲(chǔ)、磁光信息存儲(chǔ)和全光信息存儲(chǔ)等。在光盤(pán)、機(jī)械硬盤(pán)等記錄媒體,需要用鉻基、鈷基合金等金屬材料。透明導(dǎo)電薄膜的種類(lèi)很多,主要有 ITO,TCO,AZO 等,其中 ITO的性能比較好。黑龍江鍍膜陶瓷靶材
如何制成良好的陶瓷靶材也是需要注意的地方。貴州濺射陶瓷靶材
靶材清潔的目的及方法:靶材清潔的目的是去除靶材表面可能存在的灰塵或污垢。金屬靶材可以通過(guò)四步清潔:第一步用浸泡過(guò)的無(wú)絨軟布清潔;第二步與第一步類(lèi)似用酒精清潔;第三步用去離子水清洗。在用去離子水清洗過(guò)后再將靶材放置在烘箱中以100攝氏度烘干30分鐘。氧化物及陶瓷靶材的清洗建議用“無(wú)絨布”進(jìn)行清潔。第四步用高壓低水氣的氬氣沖洗靶材,以除去所有可能在濺射系統(tǒng)中會(huì)造成起弧的雜質(zhì)微粒。
我們建議用戶將靶材無(wú)論是金屬或陶瓷類(lèi)保存在真空包裝中,尤其是貼合靶材更需要保存在真空條件下,以避免貼合層氧化影響貼合質(zhì)量。 貴州濺射陶瓷靶材
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