久久青青草视频,欧美精品v,曰韩在线,不卡一区在线观看,中文字幕亚洲区,奇米影视一区二区三区,亚洲一区二区视频

浙江光伏行業(yè)陶瓷靶材價錢

來源: 發(fā)布時間:2023-08-13

ITO陶瓷靶材在磁控濺射過程中,靶材表面受到Ar轟擊和被濺射原子再沉積的多重作用而發(fā)生復(fù)雜的物理化學(xué)變化,ITO靶材表面會產(chǎn)生許多小的結(jié)瘤,這個現(xiàn)象被稱為ITO靶材的毒化現(xiàn)象。靶材結(jié)瘤毒化后.靶材的濺射速率降低,孤光放電頻率增加,所制備的薄膜電阻增加,透光率降低且均一性變差,此時必須停止濺射,清理靶材表面或更換靶材,這嚴(yán)重降低濺射鍍膜效率。目前對于結(jié)瘤形成機(jī)理尚未有統(tǒng)一定論,如孔偉華研究了不同密度ITO陶瓷材磁控射后的表面形貌,認(rèn)為結(jié)瘤是In2O3、分解所致,導(dǎo)電導(dǎo)熱性能不好的In2O3又成為熱量聚集的中心,使結(jié)瘤進(jìn)一步發(fā)展;姚吉升等研究了結(jié)瘤物相組成及化學(xué)組分,認(rèn)為結(jié)瘤是偏離了化學(xué)計量的ITO材料在靶材表面再沉積的結(jié)果;Nakashima等采用In2O3和SnO2,的混合粉末制備ITO靶材,研究了SnO2,分布狀態(tài)對靶材表面結(jié)瘤形成速率的影響,認(rèn)為低濺射速率的SnO2,在ITO靶材中的不均勻分布是結(jié)瘤的主要原因。盡管結(jié)瘤機(jī)理尚不明確,但毋庸置疑的是,結(jié)瘤的產(chǎn)生嚴(yán)重影響ITO陶瓷靶材的濺射性能,因此,對結(jié)瘤的形成機(jī)理進(jìn)行深入研究具有重要意義。靶材主要由靶坯、背板等部分組成。浙江光伏行業(yè)陶瓷靶材價錢

浙江光伏行業(yè)陶瓷靶材價錢,陶瓷靶材

從ITO靶材制備方法來看,制備方法多樣,冷等靜壓優(yōu)勢突出。ITO靶材的制備方法主要有4種,分別為熱壓法、熱等靜壓法、常溫?zé)Y(jié)法、冷等靜壓法。冷等靜壓法制備ITO靶材優(yōu)點(diǎn):1)冷等靜壓法壓力較大,工件受力相對更加均勻,尤其適用于壓制大尺寸粉末制品,符合ITO靶材大尺寸的發(fā)展趨勢;2)產(chǎn)品的密度相對更高,更加地均勻;3)壓粉不需要添加任何潤滑劑;4)生產(chǎn)成本低,適合大規(guī)模生產(chǎn)。從冷等靜壓法主要制備流程看:1)制備粉末,選取氧化銦與二氧化錫(純度99.99%)進(jìn)行乳化砂磨。其中加入2%—4%的聚乙烯醇(PVA)和30%的純水進(jìn)行砂磨。然后進(jìn)行噴霧干燥,調(diào)節(jié)噴霧干燥塔參數(shù),噴霧制備不同松裝密度的ITO粉末。再將ITO粉末進(jìn)行篩網(wǎng)篩分,獲得合格的ITO粉末;2)制備素胚,將ITO粉末裝入橡膠模具中振實(shí),密封投料口,進(jìn)行冷等靜壓,得到靶材素坯;3)結(jié)燒,將素坯放置于常壓燒結(jié)爐中,保溫溫度為1450—1600℃,采用多個階段保溫?zé)Y(jié),燒結(jié)過程中通入氧氣。吉林顯示行業(yè)陶瓷靶材ITO靶材是將氧化銦和氧化錫粉末按比例混合后經(jīng)過生產(chǎn)加工成型,再高溫氣氛燒結(jié)形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體。

浙江光伏行業(yè)陶瓷靶材價錢,陶瓷靶材

氧化鋅(ZnO)屬于第三代半導(dǎo)體材料,室溫下禁帶寬度約為3.37eV,其激子束縛能高達(dá)60mev,比室溫?zé)犭x化能(26mev)大得多。第三代半導(dǎo)體材料是指寬禁帶半導(dǎo)體材料,它們的發(fā)光波長短(近紫外),具有耐高溫、抗輻照、制備方法多、毒性小等特點(diǎn)。自1997 年發(fā)現(xiàn)ZnO薄膜的室溫紫外光發(fā)射以來,ZnO薄膜的制備技術(shù)及其光電特性成為人們研究的熱點(diǎn)。ZnO薄膜可以在低于500C的溫度下生長,比ZnSe和GaN的生長溫度低得多。ZnO作為一種新型的光電材料在光波導(dǎo)、半導(dǎo)體紫外激光器、發(fā)光器件,透明電極等方面應(yīng)用大面積。Zno 也是一種十分有用的壓電薄膜材料,高質(zhì)量的單晶或c軸擇優(yōu)取向的多晶ZnO薄膜具有良好的壓電性質(zhì),能夠用來制備高頻纖維聲光器件及聲光調(diào)制器等壓電轉(zhuǎn)換器,在光電通信領(lǐng)域得到大面積的應(yīng)用。

ITO靶材就是氧化銦和氧化錫粉末按一定比例混合后經(jīng)過一系列的生產(chǎn)工藝加工成型,再高溫氣氛燒結(jié)(1600度,通氧氣燒結(jié))形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體。ito薄膜是利用ito材作為原材料,通過磁控濺射把ito氣化濺渡到玻璃基板或柔性有機(jī)薄膜上ito材主要是在平板顯示器中得到廣的運(yùn)用,靶材主用是在半導(dǎo)體中運(yùn)用廣??萍及l(fā)展的迅速,讓電子行業(yè)在市場中占據(jù)很大的份額,直接影響到了人們的工作和生活I(lǐng)TO濺射靶材是一種由氧化銦錫制成的陶瓷射材料。氧化銦錫(ITO)是氧化銦(In203)和氧化錫(SnO2)的固溶體,通常按重量計90%In203、10%SnO2。銦錫氧化物(ITO)因其導(dǎo)電性和光學(xué)透明性而成為應(yīng)用廣的透明導(dǎo)電氧化物之一。銦錫氧化物薄膜常通過氣相沉積(PVD)沉積在表面上。ITO靶材被廣泛應(yīng)用于各大行業(yè)之中,其主要應(yīng)用分為:顯示行業(yè)、薄膜太陽能電池、功能性玻璃,等三大領(lǐng)域。

浙江光伏行業(yè)陶瓷靶材價錢,陶瓷靶材

氧化鈮靶材根據(jù)其鍍膜工藝的不同分為平面靶材和旋轉(zhuǎn)靶材兩種,所需的氧化鈮純度均要求達(dá)到99.95%,但對氧化鈮的物理性能指標(biāo)要求不同。平面靶材的生產(chǎn)使用熱壓法,要求氧化鈮粉末粒度細(xì)且均勻,成形性能好;旋轉(zhuǎn)靶材采用熱噴涂法生產(chǎn),要求氧化鈮具有良好的流動性及嚴(yán)格的粒度范圍。旋轉(zhuǎn)靶材是近些年新發(fā)展的一種靶材,與傳統(tǒng)的平面靶材相比,旋轉(zhuǎn)靶材相對于平面靶材具有很多的優(yōu)點(diǎn): 1、利用率高(70%以上),甚至可以達(dá)到90%; 2、濺射速度快,為平面靶的2-3倍; 3、有效地減少打弧和表面掉渣,工藝穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn),因此近年來逐步替代了平面靶材。 針對國內(nèi)尚未能生產(chǎn)靶材級高純氧化鈮的現(xiàn)狀,在現(xiàn)有氧化鈮濕法冶金生產(chǎn)工藝的基礎(chǔ)上,以高純鈮液為原料,通過噴霧干燥造粒的方法實(shí)現(xiàn)對氧化鈮產(chǎn)品粒度和粒形的控制,制取滿足氧化鈮靶材尤其是氧化鈮旋轉(zhuǎn)靶材生產(chǎn)要求的球形高純氧化鈮產(chǎn)品。產(chǎn)品純度為99.95%、粒形為球形、粒度大小范圍為50-150μm的高純氧化鈮產(chǎn)品。與國外同行生產(chǎn)廠家以高純氧化鈮產(chǎn)品為原料,需經(jīng)過球磨、制漿、造粒、焙燒的工藝流程相比,具有工藝流程簡單,生產(chǎn)成本低,粒度可控,產(chǎn)品成品率高的特點(diǎn)。產(chǎn)品完全能夠滿足生產(chǎn)氧化鈮旋轉(zhuǎn)靶材的要求。濺射靶材綁定背板流程;四川氧化鋅陶瓷靶材廠家

陶瓷靶材和金屬靶材各自優(yōu)缺點(diǎn)。浙江光伏行業(yè)陶瓷靶材價錢

主要PVD方法的特點(diǎn):(3)濺射鍍膜:在濺射鍍膜過程中,濺射靶材需要安裝在機(jī)臺中完成濺射反應(yīng),濺射機(jī)臺專業(yè)性強(qiáng)、精密度高,市場長期被美國、日本跨國集團(tuán)壟斷。(4)終端應(yīng)用:1)半導(dǎo)體芯片:單元器件中的介質(zhì)層、導(dǎo)體層與保護(hù)層需要鉭、鎢、銅、鋁、鈦等金屬。2)平板顯示器件:為了保證大面積膜層的均勻性,提高生產(chǎn)率和降低成本,濺射技術(shù)鍍膜需要鉬、鋁、ITO等材料;3)薄膜太陽能電池——第三代,濺射鍍膜工藝是被優(yōu)先選用的制備方法,靶材是不可或缺的原材料;4)計算機(jī)儲存器:磁信息存儲、磁光信息存儲和全光信息存儲等。在光盤、機(jī)械硬盤等記錄媒體,需要用鉻基、鈷基合金等金屬材料。浙江光伏行業(yè)陶瓷靶材價錢

江蘇迪納科精細(xì)材料股份有限公司致力于電子元器件,以科技創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量管理的追求。公司自創(chuàng)立以來,投身于濺射靶材,陶瓷靶材,金屬靶材,等離子噴涂靶材,是電子元器件的主力軍。迪納科材料不斷開拓創(chuàng)新,追求出色,以技術(shù)為先導(dǎo),以產(chǎn)品為平臺,以應(yīng)用為重點(diǎn),以服務(wù)為保證,不斷為客戶創(chuàng)造更高價值,提供更優(yōu)服務(wù)。迪納科材料始終關(guān)注電子元器件市場,以敏銳的市場洞察力,實(shí)現(xiàn)與客戶的成長共贏。

標(biāo)簽: 陶瓷靶材 靶材