透明導(dǎo)電薄膜的種類很多,主要有 ITO,TCO,AZO 等,其中 ITO的性能比較好,ITO具有高透光率,低電阻率。目前 ITO 的制備方法主要是磁控濺射,要獲得高質(zhì)量的 ITO薄膜,制備高密度、高純度和高均勻性的 ITO 靶材是關(guān)鍵。高質(zhì)量的成品 ITO 濺射靶應(yīng)具有99%的相對密度。這樣的靶材才具有較低電阻率、較高導(dǎo)熱率及較高的機械強度。高密度靶可以在溫度較低條件下在玻璃基片上濺射,獲得較低電阻率和較高透光率的導(dǎo)電薄膜。甚至可以在有機材料上濺射 ITO 導(dǎo)電膜。目前ITO靶材的制備方法主要有熱壓法、冷等靜壓-燒結(jié)法、熱等靜壓法。其中采用冷等靜壓-燒結(jié)法,其相對密度能達到 99%以上,燒結(jié)溫度高,保溫時間長,制備工藝復(fù)雜。放電等離子燒結(jié)(SPS)是在脈沖電流作用下,粉末顆粒間放電,產(chǎn)生瞬間高溫進行燒結(jié)。SPS技術(shù)具有快速、低溫、高效率等優(yōu)點。能在很低的燒結(jié)溫度下,保溫很短的時間制備高密度的材料。
靶材間隙對大面積鍍膜的影響除了致密化,如果靶材在生產(chǎn)過程中出現(xiàn)異常,大顆粒會因受熱而脫落或縮孔。河南氧化物陶瓷靶材價格咨詢
濺射靶材開裂原因生產(chǎn)中使用的冷卻水溫度與鍍膜線實際水溫存在差異,導(dǎo)致使用過程中靶材開裂。一般來說,輕微的裂紋不會對鍍膜生產(chǎn)產(chǎn)生很大的影響。但當(dāng)靶材有明顯裂紋時,電荷很容易集中在裂紋邊緣,導(dǎo)致靶材表面異常放電。放電會導(dǎo)致落渣、成膜異常、產(chǎn)品報廢增加。陶瓷或脆性材料靶材始終含有固有應(yīng)力。這些內(nèi)應(yīng)力是在靶材制造發(fā)展過程中可以產(chǎn)生的。此外,這些應(yīng)力不會被退火過程完全消除,因為這是這些材料的固有特性。在濺射過程中,氣體離子被轟擊以將它們的動量傳遞給目標(biāo)原子,提供足夠的能量使其從晶格中逃逸。這種放熱動量轉(zhuǎn)移使靶材溫度升高,在原子水平上可能達到極高的溫度。這些熱沖擊將靶材中已經(jīng)發(fā)展存在的內(nèi)應(yīng)力將會增加到許多倍。在這種情況下,如果不適當(dāng)散熱,靶材就可能會斷裂。二、濺射靶材開裂應(yīng)對事項為了防止靶材開裂,需要著重考慮的是散熱。需要水冷卻機構(gòu)以從靶去除不需要的熱能。另一個需要考慮的問題是功率的增加。短時間內(nèi)施加過大的功率也會對目標(biāo)造成熱沖擊。此外,我們建議將靶材粘合到背板上,這不僅為靶材提供了支撐,而且促進了靶材與水之間更好的熱交換。如果目標(biāo)有一個裂紋,但它是粘接到背板上,仍可以正常使用。陜西ITO陶瓷靶材陶瓷靶材按化學(xué)組成,分為氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物靶材和硫化物靶材等。
陶瓷靶材和金屬靶材各自優(yōu)缺點:1.導(dǎo)電性:金屬靶材都具有導(dǎo)電性,可以適應(yīng)各種不同電源類型機臺,而陶瓷靶材因為大部分不具備導(dǎo)電性,只能使用射頻電源. 2.導(dǎo)熱性:金屬靶材導(dǎo)熱性能好,濺射時可以大功率運行.陶瓷靶材導(dǎo)熱性較差,濺射時功率不宜過高.復(fù)合性:3. 金屬靶材內(nèi)很難摻入其他陶瓷類物質(zhì),濺射后膜層功能比較單一.陶瓷靶材可以根據(jù)需要摻入不同金屬及陶瓷類物質(zhì),濺射后可以形成多種物質(zhì)組成的復(fù)合膜層,這點陶瓷靶材比金屬靶材占優(yōu).
從整體上看,ITO在光電綜合性能上高于AZO靶材,但AZO靶材的優(yōu)勢或?qū)榘胁膸斫当究臻g。在相關(guān)實驗中利用AZO靶材和ITO靶材制備了3組實驗薄膜(共6份樣品)。實驗中主要從光學(xué)性能和電學(xué)性能上對AZO薄膜和ITO薄膜進行了對比。在特定情況下AZO靶材與ITO靶材電學(xué)性能差距縮小。根據(jù)比較終實驗數(shù)據(jù)來看,AZO薄膜和ITO薄膜的方塊電阻以及電阻率隨著薄膜的厚度增加而降低,并且隨著薄膜厚度的增加,AZO薄膜與ITO薄膜方塊電阻以及電阻率之間的差距逐步縮小。當(dāng)AZO薄膜厚度為640nm時,方塊電阻以及電阻率為32Ω?sq-1和20.48*10-4Ω?cm。AZO薄膜光學(xué)性能優(yōu)于ITO薄膜。ITO薄膜的光學(xué)性能隨著厚度的增加明顯變差,但是對于AZO薄膜,透射率并沒有隨著厚度的增加而明顯下降,在厚度為395nm時,高透射率光譜范圍比較寬,可見光區(qū)平均透射率比較高,光學(xué)總體性能比較好,可充當(dāng)透射率要求在85%以上的寬光譜透明導(dǎo)電薄膜的光學(xué)器件陶瓷靶材的制備工藝難點;
氧化鋅(ZnO)屬于第三代半導(dǎo)體材料,室溫下禁帶寬度約為3.37eV,其激子束縛能高達60mev,比室溫?zé)犭x化能(26mev)大得多。第三代半導(dǎo)體材料是指寬禁帶半導(dǎo)體材料,它們的發(fā)光波長短(近紫外),具有耐高溫、抗輻照、制備方法多、毒性小等特點。自1997 年發(fā)現(xiàn)ZnO薄膜的室溫紫外光發(fā)射以來,ZnO薄膜的制備技術(shù)及其光電特性成為人們研究的熱點。ZnO薄膜可以在低于500C的溫度下生長,比ZnSe和GaN的生長溫度低得多。ZnO作為一種新型的光電材料在光波導(dǎo)、半導(dǎo)體紫外激光器、發(fā)光器件,透明電極等方面應(yīng)用大面積。Zno 也是一種十分有用的壓電薄膜材料,高質(zhì)量的單晶或c軸擇優(yōu)取向的多晶ZnO薄膜具有良好的壓電性質(zhì),能夠用來制備高頻纖維聲光器件及聲光調(diào)制器等壓電轉(zhuǎn)換器,在光電通信領(lǐng)域得到大面積的應(yīng)用。在顯示面板和觸控屏兩個產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)節(jié)需要使用靶材,主要用于ITO玻璃及觸控屏電極,用量比較大的是ITO靶材。內(nèi)蒙古氧化物陶瓷靶材
ITO靶材是當(dāng)前太陽能電池主要的濺射靶材。河南氧化物陶瓷靶材價格咨詢
平板顯示行業(yè)主要在顯示面板和觸控屏面板兩個產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)節(jié)需要使用靶材濺射鍍膜,主要用于制作ITO玻璃及觸控屏電極,用量比較大的是氧化銦錫(ITO)靶材,其次還有鉬、鋁、硅等金屬靶材。1)平板顯示面板的生產(chǎn)工藝中,玻璃基板要經(jīng)過多次濺射鍍膜形成ITO 玻璃,然后再經(jīng)過鍍膜,加工組裝用于生產(chǎn)LCD 面板、PDP 面板及OLED 面板等;2)觸控屏的生產(chǎn)則還需將ITO 玻璃進行加工處理、經(jīng)過鍍膜形成電極,再與防護屏等部件組裝加工而成。采用硅靶材濺鍍形成的二氧化硅膜則主要起增加玻璃與ITO 膜的附著力和平整性、表面鈍化和保護等作用,MoAlMo(鉬鋁鉬)靶材鍍膜后蝕刻主要起金屬引線搭橋的作用。此外,為了實現(xiàn)平板顯示產(chǎn)品的抗反射、消影等功能,還可以在鍍膜環(huán)節(jié)中增加相應(yīng)膜層的鍍膜。河南氧化物陶瓷靶材價格咨詢
江蘇迪納科精細(xì)材料股份有限公司是一家2011年成立,一直專注于PVD磁控濺射靶材的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、應(yīng)用推廣以及靶材回收再利用。產(chǎn)品涵蓋陶瓷靶材、高純金屬靶材、合金靶材、貴金屬靶材、等離子噴涂靶材、蒸發(fā)鍍顆粒及高純陶瓷粉末。20年專注專業(yè),1站式靶材供應(yīng)。的公司,致力于發(fā)展為創(chuàng)新務(wù)實、誠實可信的企業(yè)。公司自創(chuàng)立以來,投身于濺射靶材,陶瓷靶材,金屬靶材,等離子噴涂靶材,是電子元器件的主力軍。迪納科材料致力于把技術(shù)上的創(chuàng)新展現(xiàn)成對用戶產(chǎn)品上的貼心,為用戶帶來良好體驗。迪納科材料始終關(guān)注電子元器件行業(yè)。滿足市場需求,提高產(chǎn)品價值,是我們前行的力量。