江蘇迪納科精細材料股份有限公司是一家主要生產(chǎn)和銷售陶瓷,金屬,合金等各類型靶材。陶瓷靶材以氧化銦基和氧化鋅基為主,金屬和合金靶材以各種熔煉工藝和擠壓鍛造工藝為主。ITO靶材應用領(lǐng)域1、平板顯示器(純度4N)在平板顯示領(lǐng)域,ITO靶材主要用于制作ITO導電玻璃及觸控屏電極平板,是LCD、PDP、OLED、觸摸屏等各類平板顯示器件制備的主要材料。顯示面板一般涉及上下兩層ITO導電膜,用量較大,ITO靶材是平板顯示領(lǐng)域用量比較大的靶材之一。2、薄膜太陽能電池(純度4N)ITO是一種透明導電層,在太陽能電池中作為透光層,同時作為電極,一般為正極,另一個電極一般以金屬銀或鋁作為背電極使用。ITO靶材主要用于生成太陽能薄膜電池的背電極。3、保溫透光領(lǐng)域ITO透明導電膜玻璃作為發(fā)熱體,通電后可以除冰霜,用于飛機擋風玻璃、飛機防眩窗、激光測距儀、潛望鏡觀察窗等多年來已得到了大規(guī)模的應用。ITO透明導電膜玻璃正反面具有相反的紅外線通過及反射性能,玻璃正面具有優(yōu)良的紅外線通性,衰減量極小,而反面又具有紅外線阻擋反射作用,因而該種玻璃具有優(yōu)良的保溫透光性能,已大量用于制造冷藏柜,隨著成本的降低將有望用于房屋節(jié)能。透明導電薄膜的種類很多,主要有ITO,TCO,AZO等,其中ITO的性能比較好,ITO具有高透光率,低電阻率。四川濺射陶瓷靶材市場價
從整體上看,ITO在光電綜合性能上高于AZO靶材,但AZO靶材的優(yōu)勢或?qū)榘胁膸斫当究臻g。在相關(guān)實驗中利用AZO靶材和ITO靶材制備了3組實驗薄膜(共6份樣品)。實驗中主要從光學性能和電學性能上對AZO薄膜和ITO薄膜進行了對比。在特定情況下AZO靶材與ITO靶材電學性能差距縮小。根據(jù)比較終實驗數(shù)據(jù)來看,AZO薄膜和ITO薄膜的方塊電阻以及電阻率隨著薄膜的厚度增加而降低,并且隨著薄膜厚度的增加,AZO薄膜與ITO薄膜方塊電阻以及電阻率之間的差距逐步縮小。當AZO薄膜厚度為640nm時,方塊電阻以及電阻率為32Ω?sq-1和20.48*10-4Ω?cm。AZO薄膜光學性能優(yōu)于ITO薄膜。ITO薄膜的光學性能隨著厚度的增加明顯變差,但是對于AZO薄膜,透射率并沒有隨著厚度的增加而明顯下降,在厚度為395nm時,高透射率光譜范圍比較寬,可見光區(qū)平均透射率比較高,光學總體性能比較好,可充當透射率要求在85%以上的寬光譜透明導電薄膜的光學器件山東氧化鋅陶瓷靶材價錢ITO靶材被廣泛應用于各大行業(yè)之中。
主要PVD方法的特點:(3)濺射鍍膜:在濺射鍍膜過程中,濺射靶材需要安裝在機臺中完成濺射反應,濺射機臺專業(yè)性強、精密度高,市場長期被美國、日本跨國集團壟斷。(4)終端應用:1)半導體芯片:單元器件中的介質(zhì)層、導體層與保護層需要鉭、鎢、銅、鋁、鈦等金屬。2)平板顯示器件:為了保證大面積膜層的均勻性,提高生產(chǎn)率和降低成本,濺射技術(shù)鍍膜需要鉬、鋁、ITO等材料;3)薄膜太陽能電池——第三代,濺射鍍膜工藝是被優(yōu)先選用的制備方法,靶材是不可或缺的原材料;4)計算機儲存器:磁信息存儲、磁光信息存儲和全光信息存儲等。在光盤、機械硬盤等記錄媒體,需要用鉻基、鈷基合金等金屬材料。
鍍膜的主要工藝有PVD和化學氣相沉積(CVD)。(1)PVD技術(shù)是目前主流鍍膜方法,其中的濺射工藝在半導體、顯示面板應用廣。PVD技術(shù)分為真空蒸鍍法、濺鍍法和離子鍍法。三種方法各有優(yōu)劣勢:真空蒸鍍法對于基板材質(zhì)沒有限制;濺鍍法薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜好;離子鍍法的繞鍍能力強,清洗過程簡化,但在高功率下影響鍍膜質(zhì)量。不同方法的選擇主要取決于產(chǎn)品用途與應用場景。(2)CVD技術(shù)主要通過化學反應生成薄膜。在高溫下把含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質(zhì)引入反應室,在襯底表面上進行化學反應生成薄膜。IGZO由In2O3、Ga2O3和ZnO相互摻雜得到,是一種透明金屬氧化物半導體材料。
ITO靶材被廣泛應用于各大行業(yè)之中,其主要應用分為:平板顯示器(FPD)產(chǎn)業(yè),薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、液晶顯示器(LCD)、電激發(fā)光顯示器(EL)、電致有機發(fā)光平面顯示器(OELD)、場發(fā)射顯示器(FED)、等離子顯示器(PDP)等;光伏產(chǎn)業(yè),如薄膜太陽能電池;功能性玻璃,如紅外線反射玻璃、抗紫外線玻璃如幕墻玻璃、汽車、飛機上的防霧擋風玻璃、光罩和玻璃型磁盤等三大域。但主要應用于還是在平板顯示器中,它是濺射ITO導電薄膜的主要原料,沒有它的存在,諸多的材料將無法實現(xiàn)正常加工以及設(shè)計。ITO薄膜由于對可見光透明和導電性良好的性,還被廣泛應用于液晶顯示玻璃、幕墻玻璃和飛機、汽車上的防霧擋風玻璃等。如果化合物的形成速率大于化合物被剝離的速率,則化合物覆蓋面積增加。青海氧化鋅陶瓷靶材廠家
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ITO靶材生產(chǎn)過程包括金屬提純和靶材制造兩個主要環(huán)節(jié)。因高純金屬原料的品質(zhì)影響靶材的導電性能等性狀,對成膜的質(zhì)量有較大影響,且靶材種類繁多,客戶需求非標,定制屬性明顯。故而金屬提純環(huán)節(jié)技術(shù)壁壘及附加值均較高。其中銦屬于稀散金屬,因其具有可塑性、延展性、光滲透性和導電性等特點,而以化合物、合金的形式被廣泛應用。目前,銦的主要應用領(lǐng)域是平板顯示領(lǐng)域,包括ITO靶材及新興的銦鎵鋅氧化物(IGZO)靶材,占全球銦消費量的80%;其次是半導體領(lǐng)域、焊料和合金領(lǐng)域、太陽能發(fā)電領(lǐng)域等。生產(chǎn)ITO靶材對于銦的純度要求一般在4N5及以上,生產(chǎn)化合物半導體材料對于銦的純度要求則更高,一般在6N及以上。四川濺射陶瓷靶材市場價