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四川AZO陶瓷靶材售價

來源: 發(fā)布時間:2024-10-18

磁控濺射鍍膜是一種新型的氣相鍍膜方式,就是用電子槍系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上,使其被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在真空中經(jīng)過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導(dǎo)體集成電路、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣的應(yīng)用。制程反應(yīng)室內(nèi)部的高溫與高真空環(huán)境,可使這些金屬原子結(jié)成晶粒,再透過微影圖案化與蝕刻,終一層層金屬導(dǎo)線,而芯片的數(shù)據(jù)傳輸全靠這些金屬導(dǎo)線。濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、裝飾用品等行業(yè)。靶材由“靶坯”和“背板”焊接而成。四川AZO陶瓷靶材售價

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鍍膜的主要工藝有PVD和化學(xué)氣相沉積(CVD)。(1)PVD技術(shù)是目前主流鍍膜方法,其中的濺射工藝在半導(dǎo)體、顯示面板應(yīng)用廣。PVD技術(shù)分為真空蒸鍍法、濺鍍法和離子鍍法。三種方法各有優(yōu)劣勢:真空蒸鍍法對于基板材質(zhì)沒有限制;濺鍍法薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜好;離子鍍法的繞鍍能力強(qiáng),清洗過程簡化,但在高功率下影響鍍膜質(zhì)量。不同方法的選擇主要取決于產(chǎn)品用途與應(yīng)用場景。(2)CVD技術(shù)主要通過化學(xué)反應(yīng)生成薄膜。在高溫下把含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質(zhì)引入反應(yīng)室,在襯底表面上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成薄膜。吉林智能玻璃陶瓷靶材廠家ITO(氧化銦錫)靶材是濺射靶材中陶瓷靶材(化合物靶材)的一種,在顯示靶材中占比將近60%。

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江蘇東玖光電科技有限公司,成立于2020年10月,業(yè)務(wù)范圍是研發(fā)、生產(chǎn)、銷售高性能陶瓷靶材、有色金屬靶材、及合金靶材。

主營產(chǎn)品:ITO、IZO、IGZO、NiO、SnO、AZO、ZnO等氧化物陶瓷靶材;高純銅、鉬、鈦、鉭、鈮、鋁、鋯、金、銀、稀有金屬等金屬靶材,以及鋅合金和銦合金等合金靶材。行業(yè)覆蓋平面顯示、光伏發(fā)電、觸摸屏、智能玻璃、信息存儲、能源存儲等領(lǐng)域。

東玖科技致力于為我們的客戶提供穩(wěn)定、高性價比、一站式濺射靶材制造服務(wù),協(xié)同合作伙伴的研發(fā)體系,合力推廣新材料,新工藝,新技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。

從ITO靶材的發(fā)展趨勢來看:1)大尺寸化,在需要大面積鍍膜時,通常將小尺寸靶材拼接焊接成大尺寸靶材,由于具有焊縫,靶材鍍膜質(zhì)量將降低;2)高密度化,在濺射過程中ITO靶材表面會出現(xiàn)結(jié)瘤現(xiàn)象,如果繼續(xù)濺射,所制備的薄膜光學(xué)性能以及電學(xué)性能將降低。高密度的靶材具有較好的熱傳導(dǎo)性以及較小的界面電阻,因此結(jié)瘤現(xiàn)象出現(xiàn)的概率較小,所制備的ITO薄膜的質(zhì)量較高,且生產(chǎn)效率、成本較低;3)提高靶材利用率,由于平面靶材在濺射過程中,中間部分難以被侵蝕,因此靶材利用效率相對較低。通過改變靶材形狀,可以提高靶材的利用效率,從而降低備ITO薄膜的成本。ITO靶材中氧化銦:氧化錫的配比分為90:10,93:7,95:5, 97:3, 99:1。

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靶材主要由靶坯、背板等部分組成:其中,靶坯是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源,即高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料,屬于濺射靶材的重要部分部分,在濺射鍍膜過程中,靶坯被離子撞擊后,其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上,制成電子薄膜;由于高純度金屬強(qiáng)度較低,而濺射靶材需要安裝在特定的機(jī)臺內(nèi)完成濺射過程,機(jī)臺內(nèi)部為高電壓、高真空環(huán)境。因此,超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進(jìn)行接合,背板主要起到固定濺射靶材的作用,需要具備良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。在反應(yīng)濺射過程中,靶材表面的濺射通道區(qū)域被反應(yīng)產(chǎn)物覆蓋或反應(yīng)產(chǎn)物被剝離,金屬表面重新暴露。中國香港陶瓷靶材咨詢報價

透明導(dǎo)電薄膜的種類很多,主要有 ITO,TCO,AZO 等,其中 ITO的性能比較好。四川AZO陶瓷靶材售價

磁控濺射時靶材表面變黑我們可以想到的1、可能靶材是多孔的,(細(xì)孔)在孔中有一些有機(jī)污染物(極端可能性);2、可能靶材有點(diǎn)粗糙,用紙巾用異丙醇擦拭,粗糙的表面在目標(biāo)表面保留了一些細(xì)薄的組織纖維,這可能是碳污染的來源;3、沉積速率可能相當(dāng)高,并產(chǎn)生非常粗糙的沉積物;4、基板與靶材保持非常接近,在目前的濺射條件下(功率、壓力、子靶材距離)有一些發(fā)熱,氣體中有一些污染;5、真空室漏氣或漏水,真空室內(nèi)有揮發(fā)的成分,沒有充入氬氣,充入空氣或其他氣體,可能引起中毒,這些成分與靶材反應(yīng),變成黑色物質(zhì)覆蓋靶材表面。四川AZO陶瓷靶材售價

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