光伏濕法設(shè)備包括濕法制絨設(shè)備（Perc 工藝）、制絨設(shè)備（Topcon工藝）、濕法刻蝕設(shè)備（Perc 工藝）、RCA槽式清洗設(shè)備（Topcon工藝）、電池濕法背拋清洗設(shè)備（Topcon工藝）、濕法制絨設(shè)備（HJT工藝）、電池濕法背拋清洗設(shè)備（XBC工藝）、制絨清洗設(shè)備（XBC工藝）等；釜川生產(chǎn)制造的濕法設(shè)備能與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在設(shè)備結(jié)構(gòu)、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了升級(jí)。其作用是對(duì)太陽(yáng)能電池用硅片進(jìn)行清洗制絨處理，從而提升電池的質(zhì)量和效率。電池濕法設(shè)備的生產(chǎn)過(guò)程中，需要進(jìn)行多次溝通和協(xié)調(diào)，保持生產(chǎn)和管理的順暢。蘇州全自動(dòng)濕法設(shè)備供應(yīng)商

電池濕法去PSG設(shè)備主要是對(duì)太陽(yáng)能電池用硅片進(jìn)行清洗處理，2022年成功研發(fā)雙六道大產(chǎn)能去PSG清洗設(shè)備，并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性、產(chǎn)能、安全性升級(jí)。去PSG工藝首先將繞擴(kuò)層PSG進(jìn)行去除，利用背面PSG保護(hù)，在槽式清洗中完成去繞度工藝。為尋求更為穩(wěn)定的硅片傳輸，整機(jī)設(shè)計(jì)為雙五道/雙六道分布結(jié)構(gòu)，料臺(tái)歸正寬度可調(diào)，兼容更多規(guī)格的硅片，并為后續(xù)18X硅片更大產(chǎn)能改造提供了預(yù)留窗口；去PSG設(shè)備布局前后通透，給設(shè)備使用者提供了便捷性；上料臺(tái)搭配了大流量全新滴液泵；北京HJT濕法設(shè)備XBC工藝電池濕法設(shè)備的生產(chǎn)過(guò)程中，需要進(jìn)行多次培訓(xùn)和教育，提高員工技能和安全意識(shí)。

光伏濕法工藝設(shè)備主要包括以下幾種：1.溶液制備設(shè)備：包括反應(yīng)釜、攪拌器、加熱器等，用于制備太陽(yáng)能電池的溶液。2.沉積設(shè)備：包括電化學(xué)沉積設(shè)備和物理的氣相沉積設(shè)備，用于將溶液中的材料沉積在襯底上。3.烘烤設(shè)備：用于將沉積在襯底上的材料進(jìn)行烘烤，使其形成薄膜。4.光刻設(shè)備：用于將薄膜進(jìn)行光刻，形成電極和通道等結(jié)構(gòu)。5.清洗設(shè)備：用于清洗襯底和薄膜，保證太陽(yáng)能電池的質(zhì)量。6.測(cè)量設(shè)備：包括光電流譜儀、電學(xué)測(cè)試儀等，用于測(cè)試太陽(yáng)能電池的性能。以上是光伏濕法工藝設(shè)備的主要種類，不同的設(shè)備在太陽(yáng)能電池的制備過(guò)程中扮演著不同的角色，共同完成太陽(yáng)能電池的制備。

光伏電池濕法XBC工藝制絨清洗設(shè)備，功能是硅片正面絨面產(chǎn)生，背面區(qū)域打開(kāi)。優(yōu)勢(shì)進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。l可配套無(wú)金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆颍蹆?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。光伏電池濕法制絨設(shè)備，與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在設(shè)備結(jié)構(gòu)、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了升級(jí)。其作用是對(duì)太陽(yáng)能電池用硅片進(jìn)行清洗制絨處理，從而提升電池的質(zhì)量和效率。濕法刻蝕設(shè)備（Perc 工藝）工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式。

電池濕法設(shè)備的成本因設(shè)備規(guī)模、生產(chǎn)能力、設(shè)備品質(zhì)等因素而異。一般來(lái)說(shuō)，電池濕法設(shè)備的成本包括設(shè)備本身的采購(gòu)費(fèi)用、安裝調(diào)試費(fèi)用、運(yùn)行維護(hù)費(fèi)用等。設(shè)備本身的采購(gòu)費(fèi)用是影響成本的主要因素之一，一般來(lái)說(shuō)，設(shè)備規(guī)模越大，生產(chǎn)能力越高，設(shè)備品質(zhì)越好，成本也就越高。此外，設(shè)備的運(yùn)行維護(hù)費(fèi)用也是影響成本的重要因素之一，包括能源消耗、人工維護(hù)費(fèi)用、設(shè)備壽命等。因此，在選擇電池濕法設(shè)備時(shí)，需要綜合考慮設(shè)備的采購(gòu)費(fèi)用、運(yùn)行維護(hù)費(fèi)用等因素，以確保設(shè)備的成本合理、經(jīng)濟(jì)。電池濕法制絨設(shè)備（Perc 工藝）使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對(duì)太陽(yáng)光的吸收。廣州晶片濕法去PSG

濕法刻蝕設(shè)備（Perc 工藝）閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。蘇州全自動(dòng)濕法設(shè)備供應(yīng)商

濕法設(shè)備HJT工藝功能是去除切割損傷層和表面臟污l使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對(duì)太陽(yáng)光的吸收，降低反射率l增加硅片表面積，進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加。設(shè)備優(yōu)勢(shì)是進(jìn)口PLC控制，兼容MES，UPS和RFID功能。機(jī)械手分配合理，有效避免藥液交叉污染和槽體反應(yīng)超時(shí)。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。所有與液體接觸的材料均采用進(jìn)口材質(zhì)，避免材料雜質(zhì)析出；引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。斜拉式慢提拉結(jié)構(gòu)，有效提升脫水能力，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。采用低溫烘干技術(shù)，保證槽內(nèi)的潔凈度和溫度均勻性。蘇州全自動(dòng)濕法設(shè)備供應(yīng)商

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