HJT電池生產(chǎn)流程,HJT電池生產(chǎn)設(shè)備,制絨清洗的主要目的。1去除硅片表面的污染和損傷層;2利用KOH腐蝕液對n型硅片進行各項異性腐蝕,將Si(100)晶面腐蝕為Si(111)晶面的四方椎體結(jié)構(gòu)(“金字塔結(jié)構(gòu)”),即在硅片表面形成絨面,可將硅片表面反射率降低至12.5%以下,從而產(chǎn)生更多的光生載流子;3形成潔凈硅片表面,由于HJT電池中硅片襯底表面直接為異質(zhì)結(jié)界面的一部分,避免不潔凈引進的缺陷和雜質(zhì)而帶來的結(jié)界面處載流子的復(fù)合。堿溶液濃度較低時,單晶硅的(100)與(111)晶面的腐蝕速度差別比較明顯,速度的比值被稱為各向異性因子(anisotropicfactorAF);因此改變堿溶液的濃度及溫度,可以有效地改變AF,使得在不同方向上的速度不同,在硅片表面形成密集分布的“金字塔”結(jié)構(gòu)的減反射絨面;在制絨工序,絨面大小為主要指標(biāo),一般可通過添加劑的選擇、工藝配比的變化、工藝溫度及工藝時間等來進行調(diào)節(jié)控制。中國在光伏異質(zhì)結(jié)技術(shù)的研發(fā)和應(yīng)用方面處于優(yōu)勢地位,擁有眾多出名企業(yè)和研究機構(gòu)。成都新型異質(zhì)結(jié)設(shè)備廠家
異質(zhì)結(jié)電池具備光電轉(zhuǎn)化效率提升潛力高、更大的降成本空間、更高的雙面率、可有效降低熱損失、更低的光致衰減、制備工藝簡單等特點,為光伏領(lǐng)域帶來了新的希望。釜川(無錫)智能科技有限公司,以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品,打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強大的科研團隊,憑借技術(shù)競爭力,在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨特優(yōu)勢;以高效加工制造、快速終端交付的能力,為客戶提供整線工藝設(shè)備的交付服務(wù)。江蘇釜川異質(zhì)結(jié)設(shè)備零界高效異質(zhì)結(jié)電池整線解決方案疊加了雙面微晶、無銀或低銀金屬化工藝,明顯提升了太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率。
太陽能異質(zhì)結(jié)是一種由兩種不同材料組成的結(jié)構(gòu),其中一種材料是n型半導(dǎo)體,另一種是p型半導(dǎo)體。這兩種半導(dǎo)體材料的結(jié)合形成了一個p-n結(jié),也稱為異質(zhì)結(jié)。在太陽能異質(zhì)結(jié)中,n型半導(dǎo)體的電子濃度比空穴濃度高,而p型半導(dǎo)體的空穴濃度比電子濃度高。當(dāng)這兩種材料結(jié)合在一起時,電子和空穴會在p-n結(jié)處相遇并重新組合,從而產(chǎn)生一個電勢差。這個電勢差可以用來驅(qū)動電子流,從而產(chǎn)生電能。太陽能異質(zhì)結(jié)的結(jié)構(gòu)通常包括一個p型半導(dǎo)體層和一個n型半導(dǎo)體層,它們之間有一個p-n結(jié)。在太陽能電池中,這個結(jié)構(gòu)通常被放置在一個透明的玻璃或塑料表面下,以便太陽光可以穿過并照射到p-n結(jié)上。當(dāng)太陽光照射到p-n結(jié)上時,它會激發(fā)電子和空穴的運動,從而產(chǎn)生電流??傊?,太陽能異質(zhì)結(jié)的結(jié)構(gòu)是由一個p型半導(dǎo)體層和一個n型半導(dǎo)體層組成,它們之間有一個p-n結(jié)。這個結(jié)構(gòu)可以將太陽光轉(zhuǎn)化為電能,是太陽能電池的主要組成部分。
光伏高效異質(zhì)結(jié)電池整線解決方案,產(chǎn)業(yè)機遇:方向清晰:HJT技術(shù)工藝流程短、功率衰減低、輸出功率穩(wěn)定、雙面發(fā)電增益高、未來主流技術(shù)方向;時間明確:HJT平均量產(chǎn)效率已超過PERC瓶頸(25%),行業(yè)對HJT電池投入持續(xù)加大,電池商業(yè)化已逐漸成熟;機遇可期:設(shè)備與耗材是HJT規(guī)?;年P(guān)鍵,降本增效是不變的主題,具備HJT整線整合能力的供應(yīng)商優(yōu)勢明顯。當(dāng)前HJT生產(chǎn)成本約:硅片占比約50%,銀漿占比約25%,靶材約6%左右;當(dāng)前HJT設(shè)備成本約:清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、絲網(wǎng)印刷,設(shè)備投資額占比分別約10%、50%、25%和15%。異質(zhì)結(jié)電池主工藝有4道:制絨、非晶硅沉積、TCO沉積、金屬化。
HJT電池所有制程的加工溫度均低于250,避免了生產(chǎn)效率低而成本高的高溫擴散制結(jié)的過程,而且低溫工藝使得a-Si薄膜的光學(xué)帶隙、沉積速率、吸收系數(shù)以及氫含量得到較精確的控制,也可避免因高溫導(dǎo)致的熱應(yīng)力等不良影響。HJT電池轉(zhuǎn)換效率高,拓展?jié)摿Υ?,工藝簡單并且降本路線清晰,契合了光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展的規(guī)律,是有潛力的下一代電池技術(shù)。HJT電池為對稱的雙面結(jié)構(gòu),主要由 N 型單晶硅片襯底、正面和背面的本征/摻雜非晶硅薄膜層、雙面的透明導(dǎo)電氧化薄膜(TCO) 層和金屬電極構(gòu)成。其中,本征非晶硅層起到表面鈍化作用,P型摻雜非晶硅層為發(fā)射層,N 型摻雜非晶硅層起到背場作用。光伏異質(zhì)結(jié)的結(jié)構(gòu)簡單,由非晶硅層和晶體硅層組成,具有制造工藝簡單、快速和低成本的優(yōu)勢。廣東太陽能異質(zhì)結(jié)設(shè)備廠家
高效異質(zhì)結(jié)電池PECVD設(shè)備是制備微晶硅的設(shè)備,其工藝機理復(fù)雜,影響因素眾多,需要專業(yè)公司制備。成都新型異質(zhì)結(jié)設(shè)備廠家
異質(zhì)結(jié)(Heterojunction with Intrinsic Thin-layer,HJT)電池為對稱的雙面結(jié)構(gòu),主要由 N 型單晶硅片襯底、正面和背面的本征/摻雜非晶硅薄膜層(包括 N 型非晶硅薄膜 n-a-Si:H、本征非晶硅薄膜 i-a-Si:H 和 P 型非晶硅薄膜 p-a-Si:H)、雙面的透明導(dǎo)電氧化薄膜(TCO) 層和金屬電極構(gòu)成。其中,本征非晶硅層起到表面鈍化作用,P型摻雜非晶硅層為發(fā)射層,N 型摻雜非晶硅層起到背場作用。HJT是很有潛力優(yōu)勢的技術(shù),在將來HJT電池與鈣鈦礦技術(shù)進行復(fù)合疊層,突破轉(zhuǎn)換效率30%成為可能。成都新型異質(zhì)結(jié)設(shè)備廠家