光伏電池濕法設(shè)備HJT工藝功能是去除切割損傷層和表面臟污l使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對(duì)太陽(yáng)光的吸收，降低反射率l增加硅片表面積，進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加。太陽(yáng)能光伏濕法設(shè)備包括濕法制絨設(shè)備（Perc 工藝）、制絨設(shè)備（Topcon工藝）、濕法刻蝕設(shè)備（Perc 工藝）、RCA槽式清洗設(shè)備（Topcon工藝）、電池濕法背拋清洗設(shè)備（Topcon工藝）、濕法制絨設(shè)備（HJT工藝）、電池濕法背拋清洗設(shè)備（XBC工藝）、制絨清洗設(shè)備（XBC工藝）等太陽(yáng)能光伏電池濕法制絨設(shè)備（Topcon工藝）增加背鈍化膜的膜厚均勻性。南京專(zhuān)業(yè)濕法裝備

電池濕法設(shè)備Topcon工藝RCA槽式清洗設(shè)備主要功能去除多晶硅沉積的正面(LPCVD)PECVD繞鍍層，去除表面剩余的BSG。優(yōu)勢(shì)：閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。l拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，完整的保護(hù)正面的同時(shí)，對(duì)背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過(guò)濾器的方式，l進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿(mǎn)足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃l引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。光伏電池濕法制絨設(shè)備，與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在設(shè)備結(jié)構(gòu)、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了升級(jí)。廣州大產(chǎn)能濕法去BSG光伏電池濕法制絨設(shè)備（HJT工藝）所有與液體接觸的材料均采用進(jìn)口材質(zhì)，避免材料雜質(zhì)析出。

光伏電池濕法設(shè)備濕法制絨設(shè)備HJT工藝功能是去除切割損傷層和表面臟污l使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對(duì)太陽(yáng)光的吸收，降低反射率l增加硅片表面積，進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加。設(shè)備優(yōu)勢(shì)是進(jìn)口PLC控制，兼容MES，UPS和RFID功能。機(jī)械手分配合理，有效避免藥液交叉污染和槽體反應(yīng)超時(shí)。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。所有與液體接觸的材料均采用進(jìn)口材質(zhì)，避免材料雜質(zhì)析出；引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。斜拉式慢提拉結(jié)構(gòu)，有效提升脫水能力，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。采用低溫烘干技術(shù)，保證槽內(nèi)的潔凈度和溫度均勻性。

電池濕法設(shè)備Topcon工藝RCA槽式清洗設(shè)備主要功能去除多晶硅沉積的正面(LPCVD)PECVD繞鍍層，去除表面剩余的BSG。優(yōu)勢(shì)：閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。l拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，完整的保護(hù)正面的同時(shí)，對(duì)背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過(guò)濾器的方式，l進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿(mǎn)足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃l引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。太陽(yáng)能光伏電池濕法背拋清洗設(shè)備（XBC工藝）對(duì)硅片拋光處理。

在選擇電池濕法設(shè)備時(shí)，需要考慮以下因素：1.生產(chǎn)規(guī)模：根據(jù)生產(chǎn)規(guī)模選擇合適的設(shè)備，以滿(mǎn)足生產(chǎn)需求。2.設(shè)備質(zhì)量：選擇質(zhì)量可靠、穩(wěn)定的設(shè)備，以確保生產(chǎn)過(guò)程中的安全和穩(wěn)定性。3.設(shè)備價(jià)格：根據(jù)預(yù)算選擇合適的設(shè)備，以確保經(jīng)濟(jì)效益。4.設(shè)備維護(hù)和保養(yǎng)：選擇易于維護(hù)和保養(yǎng)的設(shè)備，以確保設(shè)備長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。5.生產(chǎn)工藝：根據(jù)生產(chǎn)工藝選擇合適的設(shè)備，以確保生產(chǎn)過(guò)程中的效率和質(zhì)量。6.環(huán)保要求：選擇符合環(huán)保要求的設(shè)備，以確保生產(chǎn)過(guò)程中的環(huán)保性。7.廠家信譽(yù)度：選擇信譽(yù)度高、服務(wù)好的廠家，以確保售后服務(wù)質(zhì)量。8.技術(shù)支持：選擇提供技術(shù)支持的廠家，以確保設(shè)備的正常運(yùn)行和維護(hù)。濕法刻蝕設(shè)備（Perc 工藝）工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式。鄭州全自動(dòng)濕法哪家好

電池濕法RCA槽式清洗設(shè)備可以去除多晶硅沉積的正面(LPCVD)PECVD繞鍍層。南京專(zhuān)業(yè)濕法裝備

電池濕法設(shè)備是一種用于電池制造的設(shè)備，其性能評(píng)估主要包括以下幾個(gè)方面：1.生產(chǎn)效率：電池濕法設(shè)備的生產(chǎn)效率是評(píng)估其性能的重要指標(biāo)之一。生產(chǎn)效率包括設(shè)備的生產(chǎn)速度、生產(chǎn)能力、設(shè)備的穩(wěn)定性和可靠性等因素。2.能耗：電池濕法設(shè)備的能耗是評(píng)估其性能的另一個(gè)重要指標(biāo)。能耗包括設(shè)備的能源消耗、設(shè)備的能源利用率等因素。3.產(chǎn)品質(zhì)量：電池濕法設(shè)備的產(chǎn)品質(zhì)量是評(píng)估其性能的關(guān)鍵指標(biāo)之一。產(chǎn)品質(zhì)量包括電池的性能、電池的壽命、電池的穩(wěn)定性等因素。4.維護(hù)成本：電池濕法設(shè)備的維護(hù)成本是評(píng)估其性能的另一個(gè)重要指標(biāo)。維護(hù)成本包括設(shè)備的維護(hù)費(fèi)用、設(shè)備的維修費(fèi)用、設(shè)備的更換費(fèi)用等因素。綜上所述，評(píng)估電池濕法設(shè)備的性能需要綜合考慮生產(chǎn)效率、能耗、產(chǎn)品質(zhì)量和維護(hù)成本等多個(gè)因素，以確定設(shè)備的性?xún)r(jià)比和適用性。南京專(zhuān)業(yè)濕法裝備