HJT電池生產(chǎn)設(shè)備，制絨清洗的主要目的有，1去除硅片表面的污染和損傷層；2利用KOH腐蝕液對n型硅片進(jìn)行各項(xiàng)異性腐蝕，將Si（100）晶面腐蝕為Si（111）晶面的四方椎體結(jié)構(gòu)（“金字塔結(jié)構(gòu)”），即在硅片表面形成絨面，可將硅片表面反射率降低至12.5%以下，從而產(chǎn)生更多的光生載流子；3形成潔凈硅片表面，由于HJT電池中硅片襯底表面直接為異質(zhì)結(jié)界面的一部分，避免不潔凈引進(jìn)的缺陷和雜質(zhì)而帶來的結(jié)界面處載流子的復(fù)合。堿溶液濃度較低時(shí)，單晶硅的(100)與(111)晶面的腐蝕速度差別比較明顯，速度的比值被稱為各向異性因子(anisotropicfactorAF)；因此改變堿溶液的濃度及溫度，可以有效地改變AF，使得在不同方向上的速度不同，在硅片表面形成密集分布的“金字塔”結(jié)構(gòu)的減反射絨面；在制絨工序，絨面大小為主要指標(biāo)，一般可通過添加劑的選擇、工藝配比的變化、工藝溫度及工藝時(shí)間等來進(jìn)行調(diào)節(jié)控制。高效HJT電池整線設(shè)備導(dǎo)入銅制程電池等多項(xiàng)技術(shù)，降低非硅成本。江西硅HJT

HJT電池TCO薄膜的方法主要有兩種：RPD（特指空心陰極離子鍍)和PVD(特指磁控濺射鍍膜)；l該工藝主要是在電池正背面上沉積一層透明導(dǎo)電膜層，通過該層薄膜實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電、減反射、保護(hù)非晶硅薄膜的作用，同時(shí)可以有效地增加載流子的收集；l目前常用于HJT電池TCO薄膜為In2O3系列，如ITO（錫摻雜In2O3，@PVD濺射法）、IWO（鎢摻雜In2O3，@RPD方法沉積）等。HJT電池具備光電轉(zhuǎn)化效率提升潛力高、更大的降成本空間。零界高效異質(zhì)結(jié)電池整線解決方案，實(shí)現(xiàn)設(shè)備國產(chǎn)化，高效高產(chǎn)PVD DD CVD。廣東HJT報(bào)價(jià)HJT電池是高效晶體硅電池的一種，具有高效率、低衰減、耐高溫等優(yōu)點(diǎn)。

HJT異質(zhì)結(jié)（Heterojunction with Intrinsic Thin-layer，HJT）電池為對稱的雙面結(jié)構(gòu)，主要由 N 型單晶硅片襯底、正面和背面的本征/摻雜非晶硅薄膜層（包括 N 型非晶硅薄膜 n-a-Si:H、本征非晶硅薄膜 i-a-Si:H 和 P 型非晶硅薄膜 p-a-Si:H）、雙面的透明導(dǎo)電氧化薄膜(TCO) 層和金屬電極構(gòu)成。其中，本征非晶硅層起到表面鈍化作用，P型摻雜非晶硅層為發(fā)射層，N 型摻雜非晶硅層起到背場作用。HJT是很有潛力優(yōu)勢的技術(shù)，在將來HJT電池與鈣鈦礦技術(shù)進(jìn)行復(fù)合疊層，突破轉(zhuǎn)換效率30%成為可能。

HJT電池生產(chǎn)設(shè)備，制絨清洗的主要目的。1去除硅片表面的污染和損傷層；2利用KOH腐蝕液對n型硅片進(jìn)行各項(xiàng)異性腐蝕，將Si（100）晶面腐蝕為Si（111）晶面的四方椎體結(jié)構(gòu)（“金字塔結(jié)構(gòu)”），即在硅片表面形成絨面，可將硅片表面反射率降低至12.5%以下，從而產(chǎn)生更多的光生載流子；3形成潔凈硅片表面，由于HJT電池中硅片襯底表面直接為異質(zhì)結(jié)界面的一部分，避免不潔凈引進(jìn)的缺陷和雜質(zhì)而帶來的結(jié)界面處載流子的復(fù)合。堿溶液濃度較低時(shí)，單晶硅的(100)與(111)晶面的腐蝕速度差別比較明顯，速度的比值被稱為各向異性因子(anisotropicfactorAF)；因此改變堿溶液的濃度及溫度，可以有效地改變AF，使得在不同方向上的速度不同，在硅片表面形成密集分布的“金字塔”結(jié)構(gòu)的減反射絨面；在制絨工序，絨面大小為主要指標(biāo)，一般可通過添加劑的選擇、工藝配比的變化、工藝溫度及工藝時(shí)間等來進(jìn)行調(diào)節(jié)控制。釜川自主研發(fā)的“零界”高效HJT電池整線制造解決方案已實(shí)現(xiàn)設(shè)備國產(chǎn)化。

高效HJT電池整線裝備，PVD優(yōu)點(diǎn)沉積速度快、基材溫升低；所獲得的薄膜純度高、致密性好、成膜均勻性好；濺射工藝可重復(fù)性好，精確控制厚度；膜層粒子的散射能力強(qiáng)，繞鍍性好；不同的金屬、合金、氧化物能夠進(jìn)行混合，同時(shí)濺射于基材上；缺點(diǎn)：常規(guī)平面磁控濺射技術(shù)靶材利用率不高，一般低于40％；在輝光放電中進(jìn)行，金屬離化率較低。反應(yīng)等離子體沉，RPD優(yōu)點(diǎn)：對襯底的轟擊損傷??；鍍層附著性能好，膜層不易脫落；源材料利用率高，沉積速率高；易于化合物膜層的形成，增加活性；鍍膜所使用的基體材料和膜材范圍廣。缺點(diǎn)：薄膜中的缺陷密度較高，薄膜與基片的過渡區(qū)較寬，應(yīng)用中受到限制（特別是電子器件和IC）；薄膜中含有氣體量較高。HJT電池的高效性使其在太陽能發(fā)電領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。專業(yè)HJT裝備

HJT電池的廣泛應(yīng)用將有力推動(dòng)光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，為全球能源結(jié)構(gòu)的優(yōu)化做出積極貢獻(xiàn)。江西硅HJT

HJT電池是一種新型的太陽能電池，其制造需要的原材料包括硅、銅、鋁、銀、錫、氧化鋅、氧化銦、氧化鎵等。其中，硅是HJT電池的主要材料，用于制造電池的基板和PN結(jié)。銅和鋁用于制造電池的電極，銀用于制造電池的電極網(wǎng)格，錫用于制造電池的背接觸，氧化鋅、氧化銦和氧化鎵用于制造電池的透明導(dǎo)電層。此外，HJT電池還需要一些輔助材料，如膠水、膠帶、封裝材料等。這些原材料的質(zhì)量和性能直接影響HJT電池的性能和壽命，因此在制造過程中需要嚴(yán)格控制原材料的質(zhì)量和使用方法。江西硅HJT