HJT電池整線解決方案，制絨清洗的主要目的有，1去除硅片表面的污染和損傷層；2利用KOH腐蝕液對n型硅片進行各項異性腐蝕，將Si（100）晶面腐蝕為Si（111）晶面的四方椎體結構（“金字塔結構”），即在硅片表面形成絨面，可將硅片表面反射率降低至12.5%以下，從而產生更多的光生載流子；3形成潔凈硅片表面，由于HJT電池中硅片襯底表面直接為異質結界面的一部分，避免不潔凈引進的缺陷和雜質而帶來的結界面處載流子的復合。堿溶液濃度較低時，單晶硅的(100)與(111)晶面的腐蝕速度差別比較明顯，速度的比值被稱為各向異性因子(anisotropicfactorAF)；因此改變堿溶液的濃度及溫度，可以有效地改變AF，使得在不同方向上的速度不同，在硅片表面形成密集分布的“金字塔”結構的減反射絨面；在制絨工序，絨面大小為主要指標，一般可通過添加劑的選擇、工藝配比的變化、工藝溫度及工藝時間等來進行調節(jié)控制。HJT電池在分布式光伏領域也有廣泛應用，可以為家庭、企業(yè)和園區(qū)提供清潔、可再生的電力。北京雙面微晶HJT技術

HJT電池TCO薄膜的方法主要有兩種：RPD（特指空心陰極離子鍍)和PVD(特指磁控濺射鍍膜)；l該工藝主要是在電池正背面上沉積一層透明導電膜層，通過該層薄膜實現導電、減反射、保護非晶硅薄膜的作用，同時可以有效地增加載流子的收集；l目前常用于HJT電池TCO薄膜為In2O3系列，如ITO（錫摻雜In2O3，@PVD濺射法）、IWO（鎢摻雜In2O3，@RPD方法沉積）等。HJT電池具備光電轉化效率提升潛力高、更大的降成本空間。零界高效異質結電池整線解決方案，實現設備國產化，高效高產PVD DD CVD。鄭州零界高效HJT吸雜設備HJT電池的高效性和長壽命使其在太陽能發(fā)電領域具有廣泛的應用前景。

HJT電池生產設備，本征非晶硅薄膜沉積（i-a-Si:H）i-a-Si:H/c-Si界面處存在復合活性高的異質界面，是由于界面處非晶硅薄膜中的缺陷和界面上的懸掛鍵會成為復合中心，因此需要進行化學鈍化；化學鈍化主要由氫鈍化非晶硅薄膜鈍化層來完成，將非晶硅薄膜中的缺陷和界面懸掛鍵飽和來減少復合性缺陷態(tài)密度。摻雜非晶硅薄膜沉積場鈍化主要在電池背面沉積同型摻雜非晶硅薄層形成背電場，可以削弱界面的復合，達到減少載流子復合和獲取更多光生載流子的目的；摻雜非晶硅薄膜一般采用與沉積本征非晶硅膜層相似的等離子體系統(tǒng)來完成；p型摻雜常用的摻雜源為硼烷(B2H6)混氫,或者三甲基硼(TMB)；n型摻雜則用磷烷混氫（PH3)。優(yōu)越的表面鈍化能力是獲得較高電池效率的重要條件，利用非晶硅優(yōu)異的鈍化效果，可將硅片的少子壽命大幅度提升。

HJT整線解決商釜川，HJT（Heterojunction with Intrinsic Thin Layer）是一種新型的太陽能電池技術，相比于傳統(tǒng)的晶體硅太陽能電池，HJT具有更高的轉換效率和更低的溫度系數。在壽命和可靠性方面，HJT也有一定的優(yōu)勢。首先，HJT的壽命較長。由于HJT采用了多層異質結構，可以有效地減少電池的光衰減和熱衰減，從而延長電池的使用壽命。此外，HJT電池的材料和工藝也比較成熟，可以保證電池的穩(wěn)定性和可靠性。其次，HJT的可靠性較高。HJT電池的結構簡單，沒有PN結，因此不會出現PN結老化和漏電等問題。同時，HJT電池的溫度系數較低，可以在高溫環(huán)境下保持較高的轉換效率，不會因為溫度變化而影響電池的性能?？偟膩碚f，HJT電池具有較長的壽命和較高的可靠性，這也是其在太陽能電池領域備受關注的原因之一。但是，HJT電池的成本較高，還需要進一步的技術改進和成本降低才能在市場上得到廣泛應用。HJT電池的高效性使其在太陽能發(fā)電領域具有廣泛的應用前景。

高效HJT電池轉換效率高，拓展?jié)摿Υ?，工藝簡單并且降本路線清晰，契合了光伏產業(yè)發(fā)展的規(guī)律，是有潛力的下一代電池技術。 HJT裝備與材料：包含制絨清洗設備、PECVD設備、PVD設備、金屬化設備等。 電鍍銅設備：采用金屬銅完全代替銀漿作為柵線電極，具備低成本、高效率等優(yōu)勢。 異質結電池整線解決方案：釜川自主研發(fā)的“零界”高效異質結電池整線制造解決方案已實現設備國產化,該解決方案疊加了雙面微晶、無銀或低銀金屬化工藝，提升了太陽能電池的轉換效率、良率和產能，并降低了生產成本。HJT電池的制造過程中采用了先進的熱處理技術，能夠提高電池的轉換效率。安徽HJTPVD

HJT電池主工藝有4道：制絨、非晶硅沉積、TCO沉積、金屬化。北京雙面微晶HJT技術

高效HJT電池生產設備，制絨清洗的主要目的有，1去除硅片表面的污染和損傷層；2利用KOH腐蝕液對n型硅片進行各項異性腐蝕，將Si（100）晶面腐蝕為Si（111）晶面的四方椎體結構（“金字塔結構”），即在硅片表面形成絨面，可將硅片表面反射率降低至12.5%以下，從而產生更多的光生載流子；3形成潔凈硅片表面，由于HJT電池中硅片襯底表面直接為異質結界面的一部分，避免不潔凈引進的缺陷和雜質而帶來的結界面處載流子的復合。堿溶液濃度較低時，單晶硅的(100)與(111)晶面的腐蝕速度差別比較明顯，速度的比值被稱為各向異性因子(anisotropicfactorAF)；因此改變堿溶液的濃度及溫度，可以有效地改變AF，使得在不同方向上的速度不同，在硅片表面形成密集分布的“金字塔”結構的減反射絨面；在制絨工序，絨面大小為主要指標，一般可通過添加劑的選擇、工藝配比的變化、工藝溫度及工藝時間等來進行調節(jié)控制。北京雙面微晶HJT技術