高效異質(zhì)結(jié)電池生產(chǎn)流程中使用的設(shè)備，PECVD 1.等離子化學(xué)氣相沉積（PlasmaEnhancedCVD，PECVD）是指利用輝光放電的物理作用來化學(xué)氣相沉積反應(yīng)的CVD技術(shù)；2.異質(zhì)結(jié)非晶硅薄膜沉積是采用RPECVD技術(shù)，射頻等離子體增強化學(xué)氣相沉積（RFPlasma-EnhancedChemicalVaporDeposition,RPECVD），是PECVD的另外一種技術(shù)。它是利用射頻能量使反應(yīng)氣體等離子化。優(yōu)點：低溫成膜（300-350℃），對基片影響小，避免了高溫帶來的膜層晶粒粗大；l低壓下形成薄膜厚度及成分較均勻、膜層致密、內(nèi)應(yīng)力小，不易產(chǎn)生裂紋；l擴大CVD應(yīng)用范圍，特別是在不同基片上制備金屬薄膜、非晶態(tài)無機薄膜等，薄膜的附著力大于普通CVD。高效異質(zhì)結(jié)電池PECVD設(shè)備是制備微晶硅的中心設(shè)備，其工藝機理復(fù)雜，影響因素眾多，需要專業(yè)公司制備。蘇州自動化異質(zhì)結(jié)薄膜

光伏異質(zhì)結(jié)是一種將光能轉(zhuǎn)化為電能的器件，其輸出電壓和電流特性與光照強度和溫度有關(guān)。當光照強度增加時，光伏異質(zhì)結(jié)的輸出電流也會隨之增加，但輸出電壓會保持不變或略微下降。這是因為光照強度增加會導(dǎo)致光生載流子的增加，從而增加了輸出電流。但同時也會導(dǎo)致電子和空穴的復(fù)合速率增加，從而降低了輸出電壓。另外，光伏異質(zhì)結(jié)的輸出電壓和電流特性還受到溫度的影響。當溫度升高時，光伏異質(zhì)結(jié)的輸出電流會隨之下降，而輸出電壓則會略微上升。這是因為溫度升高會導(dǎo)致載流子的復(fù)合速率增加，從而降低了輸出電流。但同時也會導(dǎo)致載流子的擴散速率增加，從而提高了輸出電壓。總之，光伏異質(zhì)結(jié)的輸出電壓和電流特性是與光照強度和溫度密切相關(guān)的，需要在實際應(yīng)用中根據(jù)具體情況進行調(diào)整和優(yōu)化。南京HJT異質(zhì)結(jié)薄膜異質(zhì)結(jié)電池主工藝有4道：制絨、非晶硅沉積、TCO沉積、金屬化。

高效異質(zhì)結(jié)太陽能電池使用晶體硅片進行載流子傳輸和吸收，并使用非晶/或微晶薄硅層進行鈍化和結(jié)的形成。頂部電極由透明導(dǎo)電氧化物（TCO）層和金屬網(wǎng)格組成。異質(zhì)結(jié)硅太陽能電池已經(jīng)吸引了很多人的注意，因為它們可以達到很高的轉(zhuǎn)換效率，可達26.3%，相關(guān)團隊對HJT極限效率進行更新為28.5%，同時使用低溫度加工，通常整個過程低于200℃。低加工溫度允許處理厚度小于100微米的硅晶圓，同時保持高產(chǎn)量。異質(zhì)結(jié)電池具備光電轉(zhuǎn)化效率提升潛力高、更大的降成本空間、更高的雙面率、可有效降低熱損失、更低的光致衰減、制備工藝簡單等特點，為光伏領(lǐng)域帶來了新的希望。

異質(zhì)結(jié)HJT電池生產(chǎn)設(shè)備，制絨清洗的主要目的。1去除硅片表面的污染和損傷層；2利用KOH腐蝕液對n型硅片進行各項異性腐蝕，將Si（100）晶面腐蝕為Si（111）晶面的四方椎體結(jié)構(gòu)（“金字塔結(jié)構(gòu)”），即在硅片表面形成絨面，可將硅片表面反射率降低至12.5%以下，從而產(chǎn)生更多的光生載流子；3形成潔凈硅片表面，由于HJT電池中硅片襯底表面直接為異質(zhì)結(jié)界面的一部分，避免不潔凈引進的缺陷和雜質(zhì)而帶來的結(jié)界面處載流子的復(fù)合。堿溶液濃度較低時，單晶硅的(100)與(111)晶面的腐蝕速度差別比較明顯，速度的比值被稱為各向異性因子(anisotropicfactorAF)；因此改變堿溶液的濃度及溫度，可以有效地改變AF，使得在不同方向上的速度不同，在硅片表面形成密集分布的“金字塔”結(jié)構(gòu)的減反射絨面；在制絨工序，絨面大小為主要指標，一般可通過添加劑的選擇、工藝配比的變化、工藝溫度及工藝時間等來進行調(diào)節(jié)控制。 光伏異質(zhì)結(jié)的制造工藝包括薄膜沉積、熱處理、光刻等步驟，具有靈活性高、可定制化的優(yōu)點。

高效異質(zhì)結(jié)電池整線裝備，物理的氣相沉積，PVD優(yōu)點沉積速度快、基材溫升低；所獲得的薄膜純度高、致密性好、成膜均勻性好；濺射工藝可重復(fù)性好，精確控制厚度；膜層粒子的散射能力強，繞鍍性好；不同的金屬、合金、氧化物能夠進行混合，同時濺射于基材上；缺點：常規(guī)平面磁控濺射技術(shù)靶材利用率不高，一般低于40％；在輝光放電中進行，金屬離化率較低。反應(yīng)等離子體沉，RPD優(yōu)點：對襯底的轟擊損傷小；鍍層附著性能好，膜層不易脫落；源材料利用率高，沉積速率高；易于化合物膜層的形成，增加活性；鍍膜所使用的基體材料和膜材范圍廣。缺點：薄膜中的缺陷密度較高，薄膜與基片的過渡區(qū)較寬，應(yīng)用中受到限制（特別是電子器件和IC）；薄膜中含有氣體量較高。異質(zhì)結(jié)電池主工藝之一：制絨清洗設(shè)備。無錫國產(chǎn)異質(zhì)結(jié)電池

光伏異質(zhì)結(jié)技術(shù)能夠降低電池的光衰減，提高電池的長期穩(wěn)定性，延長電池的使用壽命。蘇州自動化異質(zhì)結(jié)薄膜

高效異質(zhì)結(jié)電池整線設(shè)備，HWCVD 1、熱絲化學(xué)氣相沉積(HotWireCVD，HWCVD)是利用高溫?zé)峤z催化作用使SiH4分解來制備非晶硅薄膜，對襯底無損傷，且成膜質(zhì)量非常好，但鍍膜均勻性較差，且熱絲作為耗材，成本較高；2、HWCVD一般分為三個階段，一是反應(yīng)氣體在熱絲處的分解反應(yīng)，二是基元向襯底運輸過程中的氣相反應(yīng)，第三是生長薄膜的表面反應(yīng)。PECVD鍍膜均勻性較高，工藝窗口寬，對襯底損傷較大。HWCVD是利用高溫?zé)峤z催化作用使SiH4分解來成膜，對襯底無損傷，且成膜質(zhì)量好，但鍍膜均勻性較差且成本較高。蘇州自動化異質(zhì)結(jié)薄膜