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光伏電鍍銅優(yōu)勢在于可助力電池提效0.3-0.5%+,進(jìn)而提高組件功率。我們預(yù)計(jì)銀包銅+0BB/NBB工藝或是短期內(nèi)HJT電池量產(chǎn)化的主要降本路徑,隨著未來銀含量30%銀包銅漿料的導(dǎo)入,漿料成本有望降至約3分/W,HJT電池金屬化成本或降至5分/W左右。電鍍銅工藝有望于2023-2024年加快中試,并于2024年逐步導(dǎo)入量產(chǎn)。隨著工藝經(jīng)濟(jì)性持續(xù)優(yōu)化,電鍍銅HJT電池的金屬化成本有望降至5-6分/W左右,疊加考慮0BB/NBB對(duì)應(yīng)組件封裝/檢測成本提升,而電鍍銅可提升效率約0.5%+,電鍍銅優(yōu)勢逐漸強(qiáng)化,有望成為光伏電池?zé)o銀化的解決方案。圖形化是電鍍銅整個(gè)工藝路線中的重要環(huán)節(jié),主要分為光刻路線和激光 路線兩種。廣東光伏電鍍銅后綴
銅電鍍工藝流程:種子層沉積—圖形化—電鍍—后處理,光伏電鍍銅工藝流程主要包括種子層沉積、圖形化、電鍍及后處理四大環(huán)節(jié),目前各環(huán)節(jié)技術(shù)路線不一,多種組合工藝方案 并行,需要綜合性能、成本來選擇合適的工藝路線。(3)電鍍:將待電鍍電池(陰極)浸泡在電鍍?cè)O(shè)備的硫酸銅(陽極)溶液中,通電進(jìn)行電解,銅離子(陽離子Cu2+)被還原,在需要鍍銅的線路區(qū)域內(nèi)沉積成銅,形成選擇性的銅電極。(4)后處理:進(jìn)行電鍍錫或使用抗銅氧化劑制作保護(hù)層,可應(yīng)用濕法刻蝕、激光刻蝕、等離子體刻蝕等工藝,剝離掩膜、刻蝕掉剩余種子層,并做表面處理,得到具有優(yōu)異塑形和良好選擇性的銅電極。廣東光伏電鍍銅后綴電鍍銅可以提供定制化的解決方案,根據(jù)客戶需求進(jìn)行顏色、光澤和厚度的調(diào)整。
光伏電鍍銅裝備插片式電鍍:將待鍍電池設(shè)置在陰極導(dǎo)電支架上,向下插入使一個(gè)導(dǎo)電支撐單元位于相鄰兩個(gè)陽極板組件之間以實(shí)現(xiàn)電鍍。根據(jù)相關(guān)描述,該設(shè)備可實(shí)現(xiàn)雙面電鍍,單線可做到14000整片/小時(shí),破片率<0.02%,提高了裝置產(chǎn)能和電鍍質(zhì)量,降低了不良率,結(jié)構(gòu)合理、占地面積小。此外,根據(jù)相關(guān)技術(shù)通過將電池片設(shè)置在導(dǎo)電支撐單元上,移動(dòng)陰極導(dǎo)電花籃使導(dǎo)電支撐單元在多個(gè)陽極單元的陽極板組件間移動(dòng)以實(shí)現(xiàn)電鍍;該電鍍裝置產(chǎn)能可達(dá)24000整片/小時(shí),電鍍均勻性更好,提高了電鍍質(zhì)量,減少了碎片風(fēng)險(xiǎn)
光伏電鍍銅設(shè)計(jì)的導(dǎo)電方式主要有彈片式導(dǎo)電舟方式、水平滾輪導(dǎo)電、模具掛架式、彈片重力夾具等方式。合理的導(dǎo)電方式對(duì)光伏電鍍銅設(shè)備非常重要是實(shí)現(xiàn)可量產(chǎn)的關(guān)鍵因素之一。優(yōu)良的導(dǎo)電方式可以實(shí)現(xiàn)設(shè)備的便捷維修和改善電鍍銅片與片之間的電鍍銅厚極差,甚至可以實(shí)現(xiàn)單片硅上分布電流的可監(jiān)控性。釜川(無錫)智能科技有限公司,以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品,打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強(qiáng)大的科研團(tuán)隊(duì),憑借技術(shù)競爭力,在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨(dú)特優(yōu)勢;以高效加工制造、快速終端交付的能力,為客戶提供整線工藝設(shè)備的交付服務(wù)。電鍍銅路線的第一步是種子層的制備,用來增加電鍍銅與TCO層之間 的附著力。
銅電鍍與傳統(tǒng)絲網(wǎng)印刷的差異主要在TCO膜制備工序之后,前兩道的工藝制絨與PVD濺射未變:傳統(tǒng)異質(zhì)結(jié)產(chǎn)線在TCO膜制備之后采用銀漿印刷和燒結(jié),而銅電鍍則把銀漿絲網(wǎng)印刷替換成制備銅柵線的圖形化和金屬化兩大工序。圖形化工藝:PVD(氣相沉積法)設(shè)備在硅片TCO表面濺射一層100nm的銅種子層,使用石蠟或油墨印刷機(jī)(掩膜一體機(jī))的濕膜法制作掩膜/噴涂感光膠,印刷、烘干后經(jīng)過曝光機(jī)曝光處理后,將感光膠或光刻膠上的圖形顯影。金屬化工藝:特定圖形的銅沉積(電鍍銅),然后使用不同的抗氧化方法進(jìn)行處理(電鍍鋅或使用抗氧化劑制作保護(hù)層),除去之前的掩膜/感光膠,刻蝕去除多余銅種子層,避免電鍍銅在種子層腐蝕過程中引入缺陷,露出原本的TCO,其后再進(jìn)行表面處理,至此形成完整的銅電鍍工序。整個(gè)過程使用的主要設(shè)備是電鍍?cè)O(shè)備。光伏電鍍銅量產(chǎn),加速HJT降本放量。蘇州光伏電鍍銅設(shè)備價(jià)格
電鍍銅路線PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層,具有高硬度、高耐磨性、高耐腐蝕性及化學(xué)穩(wěn)定性,膜層的壽命更長。廣東光伏電鍍銅后綴
異質(zhì)結(jié)電鍍銅的主要工序:前面的兩道工藝制絨和PVD濺射。增加的工藝是用曝光機(jī)替代絲網(wǎng)印刷機(jī)和烤箱。具體分為圖形化和金屬化兩個(gè)環(huán)節(jié):(1)金屬化:首先完成銅的沉積(電鍍銅),然后使用不同的抗氧化方法進(jìn)行處理(電鍍鋅或使用抗氧化劑制作保護(hù)層)。去掉之前的掩膜、銅種子層,露出原本的ITO。然后做表面處理,比如文字、標(biāo)簽或者組裝玻璃,這是一整道工序,即完成銅電鍍的所有過程。(2)圖形化:先使用PVD設(shè)備做一層銅的種子層,然后使用油墨印刷機(jī)(掩膜一體機(jī))的濕膜法制作掩膜。在經(jīng)過掩膜一體機(jī)的印刷、烘干、曝光處理后,在感光膠或光刻膠上的圖形可以通過顯影的方法顯現(xiàn)出來,即圖形化工藝。廣東光伏電鍍銅后綴