金相磨拋機(jī)粗磨的特點(diǎn):修整有些試樣,例如用錘擊法敲下來的試樣,形狀很不規(guī)則,必須經(jīng)過粗磨,修整為規(guī)則形狀的試樣;磨平無論用什么方法取樣,切口往往不十分平滑,為了將觀察面磨平,同時(shí)去掉切割時(shí)產(chǎn)生的變形層,必須進(jìn)行粗磨;倒角在不影響觀察目的的前提下,需將試樣上的棱角磨掉,以免劃破砂紙和拋光織物。黑色金屬材料的粗磨在砂輪機(jī)上進(jìn)行,具體操作方法是將試樣牢牢地捏住,用砂輪的側(cè)面磨制。在試樣與砂輪接觸的一瞬間,盡量使磨面與砂輪面平行,用力不可過大。由于磨削力的作用往往出現(xiàn)試樣磨面的上半部分磨削量偏大,故需人為地進(jìn)行調(diào)整,盡量加大試樣下半部分的壓力,以求整個(gè)磨面均勻受力。另外在磨制過程中,試樣必須沿砂輪的徑向往復(fù)緩慢移動(dòng),防止砂輪表面形成凹溝。金相磨拋機(jī)(全自動(dòng))試樣規(guī)格:Φ25 Φ30 Φ40 Φ50(標(biāo)配Φ30,其余選配,支持定制)。十堰單盤手動(dòng)金相磨拋機(jī)性價(jià)比高
金相磨拋機(jī)技術(shù)參數(shù):工作盤 Φ200mm/Φ230mm/250mm,轉(zhuǎn)速 100-1000r/min,三檔定速 S1=300r/min S2=500r/min S3=800r/min 可自定義,旋轉(zhuǎn)方向 順時(shí)針或逆時(shí)針可調(diào),電機(jī)功率/電源電壓 550W / AC220V 50HZ (N+L1+PE),水壓 1-10bar/0.1-1Mp,進(jìn)水管 Φ8mm長2m,排水管 內(nèi)徑Φ40,環(huán)境溫度 5-40℃,尺寸 720x6855x320mm,重量 50Kg。裝箱清單:金相磨拋機(jī) 1臺(tái),進(jìn)水管(帶接頭) 1根,排水管 1根,電源線(國標(biāo)插頭) 1根,卡圈 2個(gè),砂紙(320#、600#、800#、1000#各一張) 4張,植絨 1張,帆布 1張,操作手冊(cè) 1套,合格證 1張 蘇州無極調(diào)速金相磨拋機(jī)多少錢一臺(tái)金相磨拋機(jī)可使磨出來的樣品表面光滑平整。
金相磨拋機(jī)在金相制樣中,如果初次研磨不得當(dāng),那么很容易使樣品表面出現(xiàn)劃痕。那我們又如何防止制樣過程中出現(xiàn)劃痕呢,劃痕即是樣品表面上的線性凹槽,是由研磨粒子造成的。應(yīng)對(duì)措施:確定在粗磨后,試樣座上所有樣品的表面都均勻地布滿同樣的磨痕花樣;必要時(shí)重新進(jìn)行粗磨;每一道步聚后均應(yīng)仔細(xì)清潔樣品和試樣座,以去掉前一道工序中的大研磨粒子對(duì)磨/拋用具的干擾;如果在現(xiàn)行的拋光工序后仍有前面工序留下的磨痕,請(qǐng)先增加25~50%的制樣時(shí)間。
金相磨拋機(jī)裝入所需要制備的樣品,可裝入1-6個(gè)(根據(jù)試樣直徑不同所夾持的數(shù)量會(huì)有變化,根據(jù)實(shí)際確定好夾持盤規(guī)格)。調(diào)整好冷卻管角度及水流量,確保試樣得到充分冷卻,冷卻水還會(huì)沖走磨盤上磨削的材料及磨料。檢查一下參數(shù)是否合理,可參考如下建議: 當(dāng)制備單個(gè)試樣時(shí),不要使用粗磨料進(jìn)行粗磨。一般無需這么做,使用粗磨料可能導(dǎo)致試樣表面不平整。如果由于某些原因需要使用粗磨料進(jìn)行研磨,可以采納如下建議以改善平整度。試樣的高度應(yīng)該在 8 – 35 mm 之間,且不能超過試樣直徑的 0.7倍。例如:直徑 30 mm 試樣的高度不應(yīng)該超過 30 x 0.7 = 21 mm。盡可能使用細(xì)磨料。金相磨拋機(jī)可適應(yīng)各種材料的制樣制備。
金相磨拋機(jī):化學(xué)拋光和化學(xué)機(jī)械拋光手工化學(xué)拋光是依靠化學(xué)試劑對(duì)樣品的選擇性溶解作用將磨痕去除的一種方法:例如用1~2g草酸、2~3mL氫氟酸、40mL過氧化氫、50mL蒸餾水的化學(xué)拋光劑。對(duì)碳鋼、一般低合金鋼的退火、淬火組織進(jìn)行化學(xué)拋光(擦拭法);效果較好。此法適用于沒有機(jī)械拋光設(shè)備的單位?;瘜W(xué)拋光一般總不是太理想的,若和機(jī)械拋光結(jié)合;利用化學(xué)拋光劑邊腐蝕邊機(jī)械拋光可以提高拋光效率?;瘜W(xué)拋光和化學(xué)機(jī)械拋光手工化學(xué)拋光是依靠化學(xué)試劑對(duì)樣品的選擇性溶解作用將磨痕去除的一種方法:例如用1~2g草酸、2~3mL氫氟酸、40mL過氧化氫、50mL蒸餾水的化學(xué)拋光劑。對(duì)碳鋼、一般低合金鋼的退火、淬火組織進(jìn)行化學(xué)拋光(擦拭法);效果較好。此法適用于沒有機(jī)械拋光設(shè)備的單位?;瘜W(xué)拋光一般總不是太理想的,若和機(jī)械拋光結(jié)合;利用化學(xué)拋光劑邊腐蝕邊機(jī)械拋光可以提高拋光效率。金相磨拋機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)、安全可靠、噪音低。寧波手自一體金相磨拋機(jī)按鈕操作
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金相磨拋機(jī):一般把單相合金或純金屬的化學(xué)浸蝕主要看作是化學(xué)溶解過程。浸蝕劑首先把磨面表層很薄的變形層溶解掉,接著就對(duì)晶界起化學(xué)溶解作用。這是因?yàn)榫Ы缟显优帕械锰貏e紊亂,其自由能也較高,所以晶界處較容易受浸蝕而呈溝凹,見圖(1-15)(b)。這時(shí)顯微鏡下就可看到固溶體或純金屬的多面體晶粒。若繼續(xù)浸蝕則會(huì)對(duì)晶粒產(chǎn)生溶解作用。金屬原子的溶解大都是沿原子排列密的面進(jìn)行的。由于金相試樣一般都是多晶體,各晶粒的取向不會(huì)一致,因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的,所以每一顆晶粒溶解的結(jié)果不一樣,都把按原子排列密的面露在表面,也即浸蝕后每個(gè)晶粒的面與原磨面各傾了一定的角度。。在垂直照明下,各晶粒的反射光方向不一致,就顯示出亮度不一致的晶粒。十堰單盤手動(dòng)金相磨拋機(jī)性價(jià)比高