金相磨拋機制樣操作說明：首先將制樣耗材固定在磨拋機工作盤上，有兩種不同的固定方式：選用卡箍可固定背部不帶膠的耗材，將耗材放置在磨盤上邊緣大致對其即可，然后選用附件卡箍將其固定在磨盤上，可得到平整的操作平面；選用快速轉(zhuǎn)換系統(tǒng)，可快速進行制樣耗材得到快速切換，但必須使用背部帶膠的耗材或者金剛石研磨盤。此方式為常用方式。按下啟動鍵，當(dāng)瞬間磨盤達(dá)到最高轉(zhuǎn)速時可打開水閥開關(guān)，手動調(diào)節(jié)好水流量大小。將樣品用手拿著進行磨削和拋光操作。 金相磨拋機（全自動）磨拋制樣時間：0-99min。合肥全自動雙盤金相磨拋機公司

在金相試樣制備過程中，試樣的磨、拋光是必不可少的工序，試樣經(jīng)過磨拋后，可獲得光亮如鏡的表面。此機器采用了變頻器調(diào)速， 可使磨拋盤的轉(zhuǎn)速在50-1000r/min之間，無極可調(diào)，通過更換金相砂紙和拋光織物可以完成試樣的磨、拋工序，展現(xiàn)了它的應(yīng)用性。殼體采用整體吸塑，外觀新穎，具有轉(zhuǎn)動平穩(wěn)、噪聲小、操作方便、工作效率高等特點，并自帶冷卻裝置，可以在磨拋時對試樣進行冷卻，以防止因試樣過熱而破壞金相組織。適用于工廠、大專院校、科研單位的金相試驗室，是金相試欄麼拋光的設(shè)備。無錫無極調(diào)速金相磨拋機品牌有哪些金相磨拋機對試樣顯微分析的正確性制作過程發(fā)揮重要作用。

金相磨拋機（雙盤單控PC-20）手動臺式機，左盤用于研磨，右盤用于拋光，可以兩人同時操作使用，本機是集金相預(yù)磨、研磨和拋光等多功能于一體，轉(zhuǎn)動平穩(wěn)、安全可靠、噪音低、操作簡單，適用于對金相試樣進行粗磨、精磨、粗拋至精拋的設(shè)備。外殼采用新型環(huán)保工程塑料材料一體成型，表面光滑美觀、免噴漆，表面劃痕修復(fù)簡單。錐度磨盤系統(tǒng)，更換清理更容易。大口徑的排水管道，不容易堵塞。底盤轉(zhuǎn)動平穩(wěn)，噪音小，支持快速轉(zhuǎn)換盤系統(tǒng)。無極調(diào)速和三檔定速能無極調(diào)速和快速定位常用轉(zhuǎn)速?？煽焖偾袚Q到預(yù)磨和拋光模式。水流量可調(diào)。

金相磨拋機維護：為了確保磨拋機有更長的使用壽命，強烈建議您進行日常維護和清潔。用柔軟的濕布和普通家用洗滌劑清潔漆層表面和控制面板。不要使用干布擦拭，表面會產(chǎn)生劃痕。油脂可以用乙醇或異丙醇去除。不要用苯或類似的溶劑。清理轉(zhuǎn)換盤上的磨料及殘渣避免腐蝕轉(zhuǎn)換盤系統(tǒng)。防粘盤每次使用完成后應(yīng)取下晾干。定期清理排水管道保持排水暢通。定期清理槽里的污物，不能使用堅硬物體，避免損壞水槽。清理水槽時應(yīng)注意不能將水及污物罐如槽中心的孔內(nèi)，會損壞轉(zhuǎn)動裝置。 金相磨拋機（全自動）磨頭轉(zhuǎn)速：30-150r/min。

金相磨拋機故障排除：急停按鍵按下，當(dāng)釋放緊急停止按鈕后該信息就會消失；鎖限位故障，通訊超時、限位開關(guān)損壞或者線路故障斷開，關(guān)機重啟，檢查開關(guān)或者線路；磨頭不轉(zhuǎn)動，通訊超時或者電機過載，關(guān)機重啟，降低力度并繼續(xù)制備進程；磨盤不轉(zhuǎn)動，通訊超時或者電機過熱，關(guān)機重啟或者等待電機降溫在開機，降低力度并繼續(xù)制備進程；磨頭磨盤電機不通知，通訊故障，關(guān)閉電源后重啟；磨盤電機無法停止，數(shù)據(jù)庫參數(shù)缺損行參數(shù)，在按啟動鍵后再按停止；磨頭上升后無法下降，通訊故障或者斷氣，關(guān)機重啟，檢查氣源氣壓；加載氣缸不伸出，通訊故障或者氣壓不夠，停止制備啟動，再次啟動制備，檢查氣源。金相磨拋機使金屬組織中的夾物、石墨等不容易脫落。溫州雙盤雙控金相磨拋機生產(chǎn)廠家

金相磨拋機（單盤/雙盤）工作盤轉(zhuǎn)速：100-1000r/min（可定制轉(zhuǎn)速）。合肥全自動雙盤金相磨拋機公司

金相磨拋機：一般把單相合金或純金屬的化學(xué)浸蝕主要看作是化學(xué)溶解過程。浸蝕劑首先把磨面表層很薄的變形層溶解掉，接著就對晶界起化學(xué)溶解作用。這是因為晶界上原子排列得特別紊亂，其自由能也較高，所以晶界處較容易受浸蝕而呈溝凹，見圖(1-15)(b)。這時顯微鏡下就可看到固溶體或純金屬的多面體晶粒。若繼續(xù)浸蝕則會對晶粒產(chǎn)生溶解作用。金屬原子的溶解大都是沿原子排列密的面進行的。由于金相試樣一般都是多晶體，各晶粒的取向不會一致，因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的，所以每一顆晶粒溶解的結(jié)果不一樣，都把按原子排列密的面露在表面，也即浸蝕后每個晶粒的面與原磨面各傾了一定的角度。。在垂直照明下，各晶粒的反射光方向不一致，就顯示出亮度不一致的晶粒。合肥全自動雙盤金相磨拋機公司