場效應晶體管可以由各種半導體制成，其中硅是目前常見的。大多數(shù)場效應晶體管是使用傳統(tǒng)的批量半導體加工技術并由單晶半導體晶片作為有源區(qū)或溝道制造而成。特殊的基體材料包括非晶硅、多晶硅、其他非晶半導體以及薄膜晶體管、有機半導體基有機晶體管(OFET)。有機晶體管的柵極絕緣體和電極通常是由有機材料制成。這種特殊的場效應晶體管使用各種材料制造，例如碳化硅(SiC)、砷化鎵(GaAs)、氮化鎵(GaN)和砷化銦鎵(InGaAs)。2011年6月，IBM宣布已成功地將石墨烯基場效應晶體管應用于集成電路中。這些晶體管的頻率上限約為2.23 GHz，比標準硅基場效應晶體管高得多。場效應管的制造工藝復雜，費用較高。佛山SOT-23-3L場效應管

場效應管的主要作用有以下幾個方面：1.放大作用：場效應管可以放大電流和電壓信號。當在柵極-源極之間施加一個小的變化電壓時，可以引起漏極-源極之間的大電流變化，從而放大輸入信號。這使得場效應管可以用于放大器電路中，如音頻放大器、功率放大器等。2.開關作用：場效應管可以用作開關，控制電流的通斷。當柵極電壓為零或非常小的時候，場效應管處于截止狀態(tài)，漏極電流幾乎為零，相當于開關斷開；當柵極電壓足夠大時，場效應管處于飽和狀態(tài)，漏極電流較大，相當于開關閉合。這使得場效應管可以用于數(shù)字電路、電源開關、驅動器等應用中。3.高頻特性：場效應管具有較好的高頻特性，可以在高頻范圍內工作。這使得場效應管在無線通信、射頻放大器、雷達系統(tǒng)等領域得到廣泛應用。4.低功耗：場效應管具有較低的功耗，能夠在低電壓和低電流下工作。這使得場效應管在便攜式設備、電池供電系統(tǒng)等應用中具有優(yōu)勢?？傊?，場效應管是一種重要的半導體器件，具有放大、開關、高頻特性和低功耗等多種作用。它在電子電路中廣泛應用于放大器、開關電路、射頻系統(tǒng)、電源管理等領域，對現(xiàn)代電子技術的發(fā)展起到了重要的推動作用。杭州TO-252場效應管從門極向漏極擴展的過度層將溝道的一部分構成堵塞型，ID飽和。將這種狀態(tài)稱為夾斷。

場效應管的工作原理可以簡單概括為：通過柵極電壓控制源極和漏極之間的電流。具體來說，當柵極沒有電壓時，源極和漏極之間不會有電流通過，場效應管處于截止狀態(tài)。當柵極加上正電壓時，會在溝道中形成電場，吸引電子或空穴，從而形成電流，使源極和漏極之間導通。柵極電壓的大小決定了溝道的導通程度，從而控制了電流的大小。場效應管有兩種類型：N溝道型和P溝道型。N溝道型場效應管的源極和漏極接在N型半導體上，P溝道型場效應管的源極和漏極則接在P型半導體上。增強型場效應管和耗盡型場效應管的區(qū)別在于，增強型場效應管在柵極沒有電壓時，溝道中沒有電流；而耗盡型場效應管在柵極沒有電壓時，溝道中已經有一定的電流。

場效應管的發(fā)展也推動了電子技術的進步。隨著場效應管性能的不斷提高，電子設備的體積越來越小，功能越來越強大，功耗越來越低。例如，智能手機、平板電腦等移動設備的發(fā)展離不開場效應管的進步。同時，場效應管也為新能源、物聯(lián)網、人工智能等新興領域的發(fā)展提供了技術支持。在工業(yè)控制領域，場效應管也有著重要的應用。例如，在工業(yè)自動化控制系統(tǒng)中，場效應管被用于控制電機、閥門等設備。在工業(yè)電源系統(tǒng)中，場效應管則作為功率開關，實現(xiàn)對各種設備的穩(wěn)定供電。此外，場效應管還可以用于工業(yè)傳感器、儀表等設備中。在工業(yè)控制領域，場效應管的可靠性和穩(wěn)定性對整個系統(tǒng)的運行有著重要的影響。場效應管可以方便地用作恒流源。

場效應管（FieldEffectTransistor，簡稱FET）是一種利用場效應原理工作的半導體器件。它具有輸入阻抗高、噪聲低、動態(tài)范圍大、功率小、易于集成等特點。在電路中，場效應管通常用字母“Q”表示。場效應管一般具有3個極，即柵極（G）、源極（S）和漏極（D）。它的工作原理是當柵極接的負偏壓增大時，溝道減少，漏極電流減??；當柵極接的負偏壓減小時，耗盡層減小，溝道增大，漏極電流增大。漏極電流受柵極電壓的控制，因此場效應管是電壓控制器件，即通過輸入電壓的變化來控制輸出電流的大小，從而達到放大等目的。場效應管在電路中被廣泛應用于放大、調制、阻抗變換、恒流源、可變電阻等場合。此外，它還有許多其他應用，如開關電源、逆變器、電子鎮(zhèn)流器等。場效應管在電路設計和電子設備中扮演著非常重要的角色。場效應管的靜態(tài)功耗較低。杭州TO-252場效應管

場效應管的電流驅動能力強。佛山SOT-23-3L場效應管

它有N溝道和P溝道兩類，而每一類又分增強型和耗盡型兩種。所謂增強型就是UGS=0時，漏源之間沒有導電溝道，即使在漏源之間加上一定范圍內的電壓，也沒有漏極電流；
反之，在UGS=0時，漏源之間存在有導電溝道的稱為耗盡型。N溝道增強型MOS管是一塊雜質濃度較低的P型硅片作為襯底B，在其中擴散兩個N+區(qū)作為電極，分別稱為源極S和漏極D。
半導體表面覆蓋一層很薄的二氧化硅(SiO2)絕緣層，在漏源極間的絕緣層上再制造一層金屬鋁，稱為柵極G。這就構成了一個N溝道增強型MOS管。顯然它的柵極與其它電極間是絕緣的。溝道增強型MOS管結構圖MOS管的源極和襯底通常是接在一起的(大多數(shù)管子在出廠前已連接好)，N溝道增強型MOS管在UGS＜UT(開啟電壓)時，導電溝道不能形成，ID=0，這時管子處于截止狀態(tài)。 佛山SOT-23-3L場效應管