水基清洗劑的特點(diǎn):1.首先要保證使用的水性金屬清洗劑對所清洗的金屬零件沒有腐蝕性,還要保證清洗后的金屬工件表面仍然具有原有的光澤度。2.所選擇的金屬清洗劑水性必須具有良好的濕潤性及增溶性,去油污能力強(qiáng),油膜及油斑在清洗后的金屬工件表面沒有可見的痕跡。3.所選擇的金屬清洗劑水性要求使用溫度低,操作簡便。易被水沖洗干凈,不污染環(huán)境,這就要求清洗劑具有良好的工藝性能。清洗對象是多種金屬的組合件,則應(yīng)選擇對這些金屬都有效的清洗劑。水基清洗劑主要包含金屬清洗劑、超聲波清洗劑和低泡清洗劑三種。北京光學(xué)環(huán)保清洗劑廠家批發(fā)
使用水基型清洗劑時的區(qū)別:1.表面張力高:通常水基型清洗劑比溶劑型清洗劑的表面張力高。提高溫度,使用不同的表面活性劑和乳化劑,并結(jié)合噴霧和干燥系統(tǒng),可以克服這一缺點(diǎn),但對于間隙較緊密的區(qū)域,表面張力低的溶劑具有優(yōu)越的濕化和揮發(fā)能力。2.活性添加劑:一些添加到水基型清洗劑中的活性添加劑對不同的金屬、塑料或油墨有很強(qiáng)的腐蝕性。一旦清洗了零件,就必須檢查與零件的材料兼容性。這包括確保清洗過程中沒有留下任何活性物質(zhì),并驗(yàn)證產(chǎn)品在所有預(yù)期環(huán)境中以預(yù)期的方式運(yùn)行。這些材料中有少量可能導(dǎo)致漏電、鍍層受損等多種缺陷。南通無鉛環(huán)保清洗劑銷售水基清洗劑是符合國家環(huán)保政策要求,是環(huán)保新趨勢下開發(fā)出來的工業(yè)清洗劑。
水基清洗劑的清洗效果與稀釋比例:隨著工業(yè)的快速發(fā)展,清洗劑行業(yè)也在迅速成長,清洗設(shè)備也出現(xiàn)了很大的進(jìn)步。清洗的方式也越來越多樣化和自動化,從較開始手動清洗轉(zhuǎn)向半自動超聲波清洗,到現(xiàn)在的全自動超聲波清洗。但是,質(zhì)量的清洗設(shè)備結(jié)合合適的清洗劑才能較大的效益,快速有效清洗工件。水基清洗劑適用于超聲波清洗劑,水基清潔劑無閃點(diǎn),在清洗中,清洗設(shè)備加熱也不會出現(xiàn)安全隱患。水基清潔劑需要兌水使用,需要根據(jù)工件材質(zhì)和清洗的油污,按照一定的比列兌水稀釋。使用水基清洗劑和全自動超聲波清洗設(shè)備,可很大降低了企業(yè)的清潔成本。
水基清洗劑一般分為中性水基清洗劑和堿性水基清洗劑。由于中性水基清洗劑的清洗力仍有欠缺,目前市場上仍以堿性水基清洗劑為主。在使用堿性產(chǎn)品時,要考慮材料的兼容性。且清洗時一般都需要加熱超聲清洗,干燥時要使用烘干設(shè)備,其廢水處理也較為困難。水基清洗劑具有的安全環(huán)保、清洗范圍廣、與大多數(shù)被清洗物相容性好和價(jià)格低等優(yōu)點(diǎn),同時基于相關(guān)法律政策,許多企業(yè)更傾向于采用水基清洗劑。這就要求水基清洗劑向改善清洗效果、改善干燥性能、可循環(huán)利用和環(huán)境友好等方向發(fā)展,以滿足電子行業(yè)日益增長的需要。水基清洗劑的清洗工藝與其他類型清洗劑并無區(qū)別。
水基清洗劑主要包含金屬清洗劑、超聲波清洗劑和低泡清洗劑三種,其中超聲波清洗劑和低泡清洗劑是目前市場應(yīng)用較普遍的金屬清洗劑。超聲波清洗劑是一種多組分共沸溶劑,是高效環(huán)保水基型金屬專門清洗劑,利用獨(dú)特的化學(xué)作用破壞各種潤滑油脂的分子結(jié)構(gòu),從而達(dá)到迅速地清理重油垢的目的。金屬清洗劑是由多種表面活性劑、多種復(fù)合酸、滲透劑、除油、除銹助劑、橡膠防老劑等配制而成,具有乳化能力強(qiáng)、清洗速度快、效果好的特點(diǎn)。低泡清洗劑可以清洗零部件的縫隙,這是因?yàn)槿軇┑谋砻鎻埩υ降驮饺菀诐B透到零件的縫隙中,這樣就會將縫隙中的污染物帶出。碳?xì)淝逑磩┖驼婵涨逑锤稍餀C(jī)相配合的碳?xì)淝逑醇夹g(shù)已經(jīng)成為清洗行業(yè)的主流。北京環(huán)保安全清洗劑報(bào)價(jià)
水基清洗劑使用的注意事項(xiàng):液體處理時,水是十分易揮發(fā)的溶劑。北京光學(xué)環(huán)保清洗劑廠家批發(fā)
半水基清洗采用的清洗流程如下:半水基清洗劑(超聲波)-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水-IPA慢拉干燥此種清洗工藝同溶劑清洗相比較大的區(qū)別在于,其前兩個清洗單元:有機(jī)溶劑清洗只對瀝青或漆片具有良好的清洗效果,但卻無法清洗研磨粉等無機(jī)物;半水基清洗劑則不同,不但可以清洗瀝青等有機(jī)污染物,還對研磨粉等無機(jī)物有良好的清洗效果,從而很大減輕了后續(xù)清洗單元。中水基清洗劑的清洗壓力。半水基清洗劑的特點(diǎn)是揮發(fā)速度很慢,氣味小。采用半水基清洗劑清洗的設(shè)備在一個清洗單元中無需密封冷凝和蒸餾回收裝置。北京光學(xué)環(huán)保清洗劑廠家批發(fā)
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