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穿透率膜厚儀技術支持

來源: 發(fā)布時間:2022-07-27

接觸探頭測量彎曲和難測的表面CP-1-1.3測量平面或球形樣品,結(jié)實耐用的不銹鋼單線圈。CP-1-AR-1.3可以抑制背面反射,對1.5mm厚的基板可抑制96%。鋼制單線圈外加PVC涂層,蕞大可測厚度15um。CP-2-1.3用于探入更小的凹表面,直徑17.5mm。CP-C6-1.3探測直徑小至6mm的圓柱形和球形樣品外側(cè)。CP-C12-1.3用于直徑小至12mm圓柱形和球形樣品外側(cè)。CP-C26-1.3用于直徑小至26mm圓柱形和球形樣品外側(cè)。CP-BendingRod-L350-2彎曲長度300mm,總長度350mm的接觸探頭。用于難以到達的區(qū)域,但不會自動對準表面。CP-ID-0to90Deg-2用于食品和飲料罐頭內(nèi)壁的接觸探頭。CP-RA-3mmDia-200mmL-2直徑蕞小的接觸探頭,配備微型直角反射鏡,用來測量小至直徑3mm管子的內(nèi)壁,不能自動對準表面。CP-RA-10mmHigh-2配備微型直角反射鏡,可以在相隔10mm的兩個平坦表面之間進行測量。F3-s980 是波長為980奈米的版本,是為了針對成本敏銳的應用而設計。穿透率膜厚儀技術支持

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銦錫氧化物與透明導電氧化物液晶顯示器,有機發(fā)光二極管變異體,以及絕大多數(shù)平面顯示器技術都依靠透明導電氧化物(TCO)來傳輸電流,并作每個發(fā)光元素的陽極。和任何薄膜工藝一樣,了解組成顯示器各層物質(zhì)的厚度至關重要。對于液晶顯示器而言,就需要有測量聚酰亞胺和液晶層厚度的方法,對有機發(fā)光二極管而言,則需要測量發(fā)光、電注入和封裝層的厚度。在測量任何多個層次的時候,諸如光譜反射率和橢偏儀之類的光學技術需要測量或建模估算每一個層次的厚度和光學常數(shù)(反射率和k值)。不幸的是,使得氧化銦錫和其他透明導電氧化物在顯示器有用的特性,同樣使這些薄膜層難以測量和建模,從而使測量在它們之上的任何物質(zhì)變得困難。Filmetrics的氧化銦錫解決方案Filmetrics已經(jīng)開發(fā)出簡便易行而經(jīng)濟有效的方法,利用光譜反射率精確測量氧化銦錫。將新型的氧化銦錫模式和F20-EXR,很寬的400-1700nm波長相結(jié)合,從而實現(xiàn)氧化銦錫可靠的“一鍵”分析。氧化銦錫層的特性一旦得到確定,剩余顯示層分析的關鍵就解決了。NK值膜厚儀科研應用F10-AR在用戶定義的任何波長范圍內(nèi)都能進行蕞低、蕞高和平均反射測試。

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參考材料備用BK7和二氧化硅參考材料。BG-Microscope顯微鏡系統(tǒng)內(nèi)取背景反射的小型抗反光鏡BG-F10-RT平臺系統(tǒng)內(nèi)獲取背景反射的抗反光鏡REF-Al-1mmSubstrate基底-高反射率鋁基準REF-Al-3mmSubstrate基底-高反射率鋁基準REF-BK71?"x1?"BK7反射基準。REF-F10RT-FusedSilica-2Side背面未經(jīng)處理的石英,用于雙界面基準。REF-Si-22"單晶硅晶圓REF-Si-44"單晶硅晶圓REF-Si-66"單晶硅晶圓REF-Si-88"單晶硅晶圓REF-SS3-Al專為SS-3樣品平臺設計之鋁反射率基準片REF-SS3-BK7專為SS-3樣品平臺設計之BK7玻璃反射率基準片REF-SS3-Si專為SS-3樣品平臺設計之硅反射率基準片

顯微鏡轉(zhuǎn)接器F40系列轉(zhuǎn)接器。Adapter-BX-Cmount該轉(zhuǎn)接器將F40接到OlympusBX或MX上而不必使用Olympus價格較貴的c-mount轉(zhuǎn)接器。MA-Cmount-F20KIT該轉(zhuǎn)接器將F20連接到顯微鏡上(模仿F40,光敏度低5倍),包括集成攝像機、光纖、TS-Focus-SiO2-4-10000厚度標準、F40軟件,和F40手冊。軟件升級:UPG-RT-to-Thickness升級的厚度求解軟件,需要UPG-Spec-to-RT。UPG-Thickness-to-n&k升級的折射率求解軟件,需要UPG-RT-to-Thickness。UPG-F10-AR-HC為F10-AR升級的FFT硬涂層厚度測量軟件。包括TS-Hardcoat-4um厚度標準。厚度測量范圍0.25um-15um。UPG-RT-to-Color&Regions升級的色彩與光譜區(qū)域分析軟件,需要UPG-Spec-to-RT。F30樣品層:分子束外延和金屬有機化學氣相沉積: 可以測量平滑和半透明的,或輕度吸收的薄膜。

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Filmetrics 的技術Filmetrics 提供了范圍廣范的測量生物醫(yī)療涂層的方案:支架: 支架上很小的涂層區(qū)域通常需要顯微鏡類的儀器。 我們的 F40 在幾十個實驗室內(nèi)得到使用,測量鈍化和/或藥 物輸送涂層。我們有獨特的測量系統(tǒng)對整個支架表面的自動厚度測繪,只需在測量時旋轉(zhuǎn)支架。植入件: 在測量植入器件的涂層時,不規(guī)則的表面形狀通常是為一挑戰(zhàn)。 Filmetrics 提供這一用途的全系列探頭。導絲和導引針: 和支架一樣,這些器械常??梢杂孟?F40 這樣的顯微鏡儀器。導液管和血管成型球囊的厚度:大于 100 微米的厚度和可見光譜不透明性決定了 F20-NIR 是這一用途方面全世界眾多實驗室內(nèi)很受歡迎的儀器。F40-UV范圍:4nm-40μm,波長:190-1100nm。液晶顯示器膜厚儀原理

F40測量范圍;20nm-40μm;波長:400-850nm。穿透率膜厚儀技術支持

厚度標準:所有Filmetrics厚度標準都是得到驗證可追溯的NIST標準。S-Custom-NIST:在客戶提供的樣品上定制可追溯的NIST厚度校準。TS-Focus-SiO2-4-3100SiO2-on-Si:厚度標準,外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準,厚度大約3100A,4"晶圓。TS-Focus-SiO2-4-10000SiO2-on-Si:厚度標準,外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準,厚度大約10000A,4"晶圓。TS-Hardcoat-4μm:丙烯酸塑料硬涂層厚度標準,厚度大約4um,直徑2"。TS-Hardcoat-Trans:背面透明的硬涂層,可用于透射測量。TS-Parylene-4um:丙烯酸塑料上的聚對二甲苯厚度標準,厚度大約4um,直徑2"。TS-Parylene-8um:硅基上的聚對二甲苯厚度標準,厚度大約8um,23mmx23mm。TS-SiO2-4-7200:硅基上的二氧化硅厚度標準,厚度大約7200A,4"晶圓。TS-SiO2-4-7200-NIST:可追溯的NISTSiO2-4-7200厚度標準。TS-SiO2-6-Multi:多厚度硅基上的二氧化硅標準:125埃米,250埃米,500埃米,1000埃米,5000埃米,和10000埃米(+/-10%誤差),6英寸晶圓。TS-SS3-SiO2-8000:專為SS-3樣品平臺設計之二氧化硅厚度標準片,厚度大約為8000A。穿透率膜厚儀技術支持

岱美儀器技術服務(上海)有限公司位于金高路2216弄35號6幢306-308室,是一家專業(yè)的磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務信息咨詢服務 公司。在岱美中國近多年發(fā)展歷史,公司旗下現(xiàn)有品牌EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Herzan,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB等。公司堅持以客戶為中心、磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務信息咨詢服務 市場為導向,重信譽,保質(zhì)量,想客戶之所想,急用戶之所急,全力以赴滿足客戶的一切需要。岱美中國始終以質(zhì)量為發(fā)展,把顧客的滿意作為公司發(fā)展的動力,致力于為顧客帶來***的半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀。