雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。由于需要多次光刻，刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高。而利用增材制造即可簡(jiǎn)單一步實(shí)現(xiàn)多級(jí)衍射光學(xué)元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級(jí)衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)洹anoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您了解成熟的灰度光刻技術(shù)。北京2PP灰度光刻3D微納加工

Quantum X 新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。而且Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(shù) (2GL ®)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級(jí)衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)?。北?PP灰度光刻3D微納加工如需了解更多全新工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)Quantum X的內(nèi)容，請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司納糯三維。

Nanoscribe公司Photonic Professional GT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“Commercial Micro Manufacturing magazine”（CMM）。Photonic Professional GT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程，實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。另外，還可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以非常普遍的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究?jī)x器和多用戶設(shè)施。

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。

作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn)，同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時(shí)間。另外，QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級(jí)衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)?。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是灰度光刻技術(shù)。北京2PP灰度光刻3D微納加工

Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解目前灰度光刻技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)狀。北京2PP灰度光刻3D微納加工

微透鏡陣列對(duì)表面質(zhì)量和形貌要求比較高，因此對(duì)制備工藝提出了很嚴(yán)格的要求?？蒲腥藛T提出了許多方法來實(shí)現(xiàn)具有高表面質(zhì)量的微透鏡陣列的高效制備，比如針對(duì)柔性材料的熱壓印成型方法實(shí)現(xiàn)了大面積微透鏡陣列；利用灰度光刻工藝和轉(zhuǎn)印方法在柔性的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)襯底上實(shí)現(xiàn)了微透鏡陣列；利用光刻和熱回流方式實(shí)現(xiàn)了基于聚二甲基硅氧烷材料的微透鏡陣列等。上述方法可以實(shí)現(xiàn)具有較高表面質(zhì)量的微透鏡陣列，但通常需要使用復(fù)雜的工藝和步驟。此外，這些微透鏡基質(zhì)通常為軟質(zhì)材料，材料本身的機(jī)械抗性和耐酸堿的能力比較差。相對(duì)而言，透明硬脆材料例如石英、藍(lán)寶石等由于其極高的硬度和極強(qiáng)的化學(xué)穩(wěn)定性，在光學(xué)窗口、光學(xué)元件等方面的應(yīng)用更加廣。因此，如何制備具有高表面質(zhì)量的透明硬脆材料微透鏡陣列等微光學(xué)元件成為研究人員研究的焦點(diǎn)。北京2PP灰度光刻3D微納加工