雙光子聚合（2PP）是一種可實現(xiàn)比較高精度和完全設(shè)計自由度的增材制造方法。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)Quantum X shape具有下列優(yōu)異性能：首先，在所有空間方向上低至 100 納米的特征尺寸控制，適用于納米和微米級打印；其次制作高達(dá) 50 毫米的目標(biāo)結(jié)構(gòu)，適用于中尺度打印。高速3D微納加工系統(tǒng)Quantum X shape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺。Quantum X  shape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度，并以 1 MHz 調(diào)制速率動態(tài)調(diào)整激光功率。Quantum X shape 帶有獨(dú)特的自動界面查找功能，可以以低至 30 納米的精度檢測基板表面。這種在比較高掃描速度下的納米級精度體現(xiàn)，再加上自校準(zhǔn)程序，可在特別短的時間內(nèi)實現(xiàn)可靠和準(zhǔn)確的打印，為 3D 微納加工樹立了新榜樣。這些優(yōu)異的性能使Quantum X shape 成為快速原型制作和應(yīng)用于微納光學(xué)、微流體、材料表面工程、MEMS 等其他領(lǐng)域中晶圓級規(guī)模生產(chǎn)的理想工具。更多有關(guān)高精度三維光刻的咨詢，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。北京雙光子Nanoscribe上海

NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性，以及普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創(chuàng)性科學(xué)研究項目是這項技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計和制造能力的證明。北京雙光子Nanoscribe上海使用Nanoscribe的3D微加工技術(shù)并配合其新型研發(fā)的IP-Visio光刻膠,可以打印極其復(fù)雜的3D微支架。

Nanoscribe稱，Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。

Nanoscribe首屆線上用戶大會于九月順利召開，在微流控研究中，通常在針對微流控器件和芯片的快速成型制作中會結(jié)合不同制造方法。亞琛工業(yè)大學(xué)（RWTHUniversityofAachen）和不來梅大學(xué)（UniversityofBremen）的研究小組提出將三維結(jié)構(gòu)的芯片結(jié)構(gòu)打印到預(yù)制微納通道中。生命科學(xué)研究的驅(qū)動力是三維打印模擬人類細(xì)胞形狀和大小的支架，以推動細(xì)胞培養(yǎng)和組織工程學(xué)。丹麥技術(shù)大學(xué)(DTU)和德國于利希研究中心的研究團(tuán)隊展示了他們的成就，并強(qiáng)調(diào)了光刻膠如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性。在微納光學(xué)和光子學(xué)研究中，布魯塞爾自由大學(xué)的研究人員提出了用于光纖到光纖和光纖到芯片連接的錐形光纖和低損耗波導(dǎo)等解決方案。阿卜杜拉國王科技大學(xué)的研究團(tuán)隊3D打印了一個超小型單纖光鑷，以實現(xiàn)集成微納光學(xué)系統(tǒng)。連接處理是光子集成研究的挑戰(zhàn)。正如明斯特大學(xué)（WWU）研究人員所示，Nanoscribe微納加工技術(shù)正在驅(qū)動研究用于集成納米多孔電路的混合接口方法。麻省理工學(xué)院（MIT）的科學(xué)家們正在使用Nanoscribe的2PP技術(shù)制造用于高密度集成光子學(xué)的光學(xué)自由形式耦合器。Quantum X新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重點(diǎn)是Nanoscribe獨(dú)有的雙光子灰度光刻技術(shù)。

Nanoscribe成立于 2007 年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院 (KIT) 的衍生公司。Nanoscribe 憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求。 Nanoscribe 將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D 微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。納糯三維科技（上海）有限公司作為德國Nanoscribe在中國的獨(dú)有的子公司加強(qiáng)了在中國的銷售活動。北京雙光子Nanoscribe上海

更多有關(guān)3D雙光子無掩模光刻技術(shù)的咨詢，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。北京雙光子Nanoscribe上海

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求。 Nanoscribe 將在未來進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。北京雙光子Nanoscribe上海