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北京雙光子灰度光刻無掩光刻

來源: 發(fā)布時間:2022-09-26

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產領域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。Quantum X shape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產領域應用有著重大意義。全新Quantum X shape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)Quantum X產品系列的第二臺設備,可實現在25 cm2面積內打印任何結構,很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作。Quantum X shape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng),非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討灰度光刻技術的發(fā)展現狀。北京雙光子灰度光刻無掩光刻

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Quantum X shape在3D微納加工領域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其高能力的體素調制比和超精細處理網格,從而實現亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調,該系統(tǒng)在表面微結構的制作上可達到超光滑,同時保持高精度的形狀控制。它不只是應用于生物醫(yī)學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具,同時也成為基于晶圓的小結構單元的批量生產的簡易工具。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監(jiān)控及多用戶的使用配置,實現推動工業(yè)標準化及基于晶圓批量效率生產。重慶2PP灰度光刻微納光刻Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您介紹雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)Quantum X。

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    作為基于雙光子聚合技術(2PP)的微納加工領域市場帶領者,Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體。基于2PP微納加工技術方面的專業(yè)知識,Nanoscribe為頂端科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展?!拔覀兎浅F诖尤隒ELLINK集團,共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造**,一直致力于開發(fā)和生產和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。

灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版(掩膜接觸式光刻)或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結構(如下圖4所示,八邊金字塔結構)。微透鏡陣列也是類似,可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)。需要注意,灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多,約為Ra=100nm,前兩者可以會的Ra=50nm的球面。微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,但是原理不同,我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術,利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構,不光是微透鏡陣列結構(如下圖5所示),該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設計獲得想要的結構,對于雙光子聚合的微結構,我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續(xù)的復制工作,并通過納米壓印技術進行復制。想要了解灰度光刻技術的運用,歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe成立于2007年,憑借著爾斯魯厄理工學院(KIT)的技術背景和卡爾蔡司公司(CarlZeissAG)的支持,經過十幾年的不斷研究和成長成為了現在世界公認的微納米加工技術和3D打印市場的帶領者,并于2017年在上海成立分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。公司主要產品有基于雙光子聚合技術(Two-PhotonPolymerization)并擁有多項國際專項的雙光子微納3D打印系統(tǒng)PhotonicProfessionalGT2。全球頭一臺工業(yè)級雙光子灰度光刻(2GL®)微納打印設備QuantumX受到普遍關注并被眾多高學府和高科技單位所采用,例如哈佛大學,牛津大學等出名的院校,華為公司等??蓱糜谖⒓{機器人,再生醫(yī)學工程,微納光學,力學超材料等不同領域。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您講解高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)。重慶2PP灰度光刻微納光刻

聚焦Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司,給您講解灰度光刻技術。北京雙光子灰度光刻無掩光刻

在雙光子灰度光刻工藝中,激光功率調制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現同步進行,以便對每個掃描平面進行全體素大小控制。Nanoscribe稱,QuantumX在每個掃描區(qū)域內可產生簡單和復雜的光學形狀,具有可變的特征高度。離散和精確的步驟,以及本質上為準連續(xù)的形貌,可以在一個步驟中完成打印,而不需要多步光刻或多塊掩模制造。Quantum X支持多種類型襯底,包括透明和不透明的襯底,可用于比較大尺寸為6英寸的晶圓。Nanoscribe展示了其公司易于操作的光刻機,允許高縱橫比,支持高結構,無需掩模、旋涂和預烘烤或后烘烤。北京雙光子灰度光刻無掩光刻

納糯三維科技(上海)有限公司是一家有著雄厚實力背景、信譽可靠、勵精圖治、展望未來、有夢想有目標,有組織有體系的公司,堅持于帶領員工在未來的道路上大放光明,攜手共畫藍圖,在上海市等地區(qū)的儀器儀表行業(yè)中積累了大批忠誠的客戶粉絲源,也收獲了良好的用戶口碑,為公司的發(fā)展奠定的良好的行業(yè)基礎,也希望未來公司能成為*****,努力為行業(yè)領域的發(fā)展奉獻出自己的一份力量,我們相信精益求精的工作態(tài)度和不斷的完善創(chuàng)新理念以及自強不息,斗志昂揚的的企業(yè)精神將**納糯三維科技供應和您一起攜手步入輝煌,共創(chuàng)佳績,一直以來,公司貫徹執(zhí)行科學管理、創(chuàng)新發(fā)展、誠實守信的方針,員工精誠努力,協(xié)同奮取,以品質、服務來贏得市場,我們一直在路上!