Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的子公司，開(kāi)發(fā)并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機(jī)以及光敏材料和工藝解決方案。其口號(hào)是：“我們讓小物件變得重要”，公司創(chuàng)始人開(kāi)發(fā)出一種技術(shù)，對(duì)智能手機(jī)、手持設(shè)備和醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域至關(guān)重要的3D打印產(chǎn)品。通過(guò)基于雙光子聚合（2PP）的3D打印機(jī)投入市場(chǎng)，他們已經(jīng)為全球的大學(xué)和新興行業(yè)提供了新的解決方案，致力于3D微打印生命科學(xué)研究以及納米級(jí)3D打印光學(xué)，甚至利用他們的技術(shù)來(lái)開(kāi)發(fā)創(chuàng)新的設(shè)備，例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說(shuō)法，“Beer's定律對(duì)當(dāng)今的無(wú)掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制，提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作?！凹{米標(biāo)記系統(tǒng)基于雙光子吸收，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過(guò)程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發(fā)劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強(qiáng)度非常高。 Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是灰度光刻技術(shù)。天津工業(yè)級(jí)灰度光刻系統(tǒng)

納米紋理在納米技術(shù)中起著越來(lái)越重要的作用。近期的研究表明，可以通過(guò)空間調(diào)節(jié)其納米級(jí)像素的高度來(lái)進(jìn)一步增強(qiáng)其功能。但是，實(shí)現(xiàn)該概念非常具有挑戰(zhàn)性，因?yàn)樗枰獙?duì)納米像素進(jìn)行“灰度”打印，其中，納米像素高度的精度需要控制在幾納米之內(nèi)。只有少數(shù)幾種方法（例如，灰度光刻或掃描束光刻）可以滿足這種嚴(yán)格的要求，但通常其成本較高，并且它們中的大多數(shù)需要化學(xué)開(kāi)發(fā)過(guò)程。因此，具有高垂直和水平分辨率的可重構(gòu)灰度納米像素打印技術(shù)受到高度追捧。廣東進(jìn)口灰度光刻系統(tǒng)如果了解雙光子灰度光刻技術(shù)，歡迎致電Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

    基于雙光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù)，Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何，在面積達(dá)25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級(jí)精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過(guò)其新機(jī)器為科學(xué)和工業(yè)用途的晶圓級(jí)高精度微制造設(shè)定新標(biāo)準(zhǔn)?！半m然QuantumX已經(jīng)通過(guò)雙光子灰度光刻技術(shù)推動(dòng)了平面微光學(xué)器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為高效可靠的工具用于研究實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)。”。

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型?；陔p光子聚合技術(shù)，該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型，同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)模化生產(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格，從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑，同時(shí)保持高精度的形狀控制。雙光子灰度光刻技術(shù)多強(qiáng)大，如需了解詳情請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

Quantum X 新型超高速無(wú)掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。而且Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無(wú)掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù) (2GL ®)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級(jí)衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)洹ｋp光子灰度光刻（2GL ?）系統(tǒng)Quantum X實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。高分辨率灰度光刻技術(shù)3D打印

關(guān)于雙光子聚合（2PP）和雙光子灰度光刻（2GL ?）的問(wèn)題，咨詢請(qǐng)致電Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維。天津工業(yè)級(jí)灰度光刻系統(tǒng)

作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn)，同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時(shí)間。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無(wú)掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級(jí)衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)?。天津工業(yè)級(jí)灰度光刻系統(tǒng)

納糯三維科技（上海）有限公司匯集了大量的優(yōu)秀人才，集企業(yè)奇思，創(chuàng)經(jīng)濟(jì)奇跡，一群有夢(mèng)想有朝氣的團(tuán)隊(duì)不斷在前進(jìn)的道路上開(kāi)創(chuàng)新天地，繪畫新藍(lán)圖，在上海市等地區(qū)的儀器儀表中始終保持良好的信譽(yù)，信奉著“爭(zhēng)取每一個(gè)客戶不容易，失去每一個(gè)用戶很簡(jiǎn)單”的理念，市場(chǎng)是企業(yè)的方向，質(zhì)量是企業(yè)的生命，在公司有效方針的領(lǐng)導(dǎo)下，全體上下，團(tuán)結(jié)一致，共同進(jìn)退，**協(xié)力把各方面工作做得更好，努力開(kāi)創(chuàng)工作的新局面，公司的新高度，未來(lái)納糯三維科技供應(yīng)和您一起奔向更美好的未來(lái)，即使現(xiàn)在有一點(diǎn)小小的成績(jī)，也不足以驕傲，過(guò)去的種種都已成為昨日我們只有總結(jié)經(jīng)驗(yàn)，才能繼續(xù)上路，讓我們一起點(diǎn)燃新的希望，放飛新的夢(mèng)想！