Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭 想要了解增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別,請(qǐng)咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司。廣東科研Nanoscribe無掩膜光刻
加入Nanoscribe的用戶行列!作為高精密增材制造領(lǐng)域的先驅(qū)和市場領(lǐng)導(dǎo)我們是您在微加工系統(tǒng)、軟件和解決方案方面的可靠合作伙伴。我們成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工分離出來的單獨(dú)子公司,是一個(gè)充滿活力、屢獲殊榮的公司,并于2021年6月成為BICO集團(tuán)的一部分。憑借成熟穩(wěn)定的系統(tǒng)、直觀的一步加工工作流程和一體化解決方案,我們的3000多名系統(tǒng)用戶正在致力于研究改變未來的應(yīng)用。Nanoscribe的用戶群體中,有科學(xué)研究和工業(yè)的創(chuàng)新者,包括生命科學(xué)、微光學(xué)、光子學(xué)、材料工程、微流體、微力學(xué)和MEMS。他們優(yōu)越的創(chuàng)新現(xiàn)已發(fā)表在1300多份同行評(píng)議期刊上。廣東高精度Nanoscribe中國分公司Nanoscribe的3D打印設(shè)備可以制造出針對(duì)生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域不同應(yīng)用的復(fù)雜3D設(shè)計(jì)。
對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合(2PP)的一種新型專利納米微納制造技術(shù)。該技術(shù)可以將打印的結(jié)構(gòu)自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)到光纖和光子芯片上,例如用于光子封裝中的光學(xué)互連。同時(shí)高精度檢測(cè)系統(tǒng)還可以識(shí)別基準(zhǔn)點(diǎn)或拓?fù)浠滋卣?,確保對(duì)3D打印進(jìn)行高度精確的對(duì)準(zhǔn)。 Nanoscribe對(duì)準(zhǔn)雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX,一種基于場景圖概念的軟件工具,可用于定義對(duì)準(zhǔn)3D打印的打印項(xiàng)目。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對(duì)象和操作的分層組織,用于定義何時(shí)、何地、以及如何進(jìn)行打印。在nanoPrintX中可以定義單個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以及基板特征,例如芯片邊緣和光纖表面。使用Quantum X align系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元,可以識(shí)別這些特定的基板標(biāo)記,并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進(jìn)行匹配。對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是Quantum X align系統(tǒng)的標(biāo)配。
德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開發(fā)商,也是 BICO集團(tuán)(前身為Cellin)的一部分,推出了一款新型高精度3D 打印機(jī),用于制造微納米級(jí)的精細(xì)結(jié)構(gòu)。據(jù)該公司稱,新的Quantum X 形狀加入了該公司屢獲殊榮的Quantum X產(chǎn)品線,其晶圓處理能力使“3D 微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學(xué)、材料工程、微流體、微光學(xué)、微機(jī)械和微機(jī)電系統(tǒng) (MEMS) 應(yīng)用的精度、輸出和可用性?;陔p光子聚合(2PP),一種提供比較高精度和完整設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù),Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構(gòu),在面積達(dá)25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級(jí)精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,該公司正在通過其新機(jī)器為科學(xué)和工業(yè)用途的晶圓級(jí)高精度微制造設(shè)定新標(biāo)準(zhǔn)。“雖然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動(dòng)了平面微光學(xué)器件的超快速制造,但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)。”
更多有關(guān)微納3D打印產(chǎn)品和技術(shù)咨詢,歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技.
多年來,Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色,并且參與了很多3D打印的項(xiàng)目,包括等離子體技術(shù)、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項(xiàng)目。如今,Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機(jī)構(gòu)一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團(tuán)隊(duì)的項(xiàng)目為期三年,名為Miliquant,由德國聯(lián)邦教育和研究部(簡稱BMBF)提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件,將用于量子技術(shù)創(chuàng)新,并可以應(yīng)用在醫(yī)療診斷、自動(dòng)駕駛和細(xì)胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團(tuán)隊(duì)將開展多項(xiàng)實(shí)驗(yàn),開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng),這就需要復(fù)雜的研發(fā)工作,還需要開發(fā)可靠的組件,以及組裝和制造的新方法。Nanoscribe的技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)微米級(jí)別的精確打印,為科學(xué)研究和工業(yè)應(yīng)用提供了全新的可能性。北京微納光刻N(yùn)anoscribeQuantum X
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Nanoscribe稱,Quantum X是世界上基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photon grayscale lithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作廣東科研Nanoscribe無掩膜光刻