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江蘇雙光子聚合激光直寫

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-06-23

加入Nanoscribe的用戶行列!作為高精密增材制造領(lǐng)域的先驅(qū)和市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)我們是您在微加工系統(tǒng)、軟件和解決方案方面的可靠合作伙伴。我們成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工分離出來(lái)的單獨(dú)子公司,是一個(gè)充滿活力、屢獲殊榮的公司,并于2021年6月成為BICO集團(tuán)的一部分。憑借成熟穩(wěn)定的系統(tǒng)、直觀的一步加工工作流程和一體化解決方案,我們的3000多名系統(tǒng)用戶正在致力于研究改變未來(lái)的應(yīng)用。Nanoscribe的用戶群體中,有科學(xué)研究和工業(yè)的創(chuàng)新者,包括生命科學(xué)、微光學(xué)、光子學(xué)、材料工程、微流體、微力學(xué)和MEMS。他們優(yōu)越的創(chuàng)新現(xiàn)已發(fā)表在1300多份同行評(píng)議期刊上。德國(guó)Nanoscribe擁有超高精度雙光子聚合微納3D打印設(shè)備。江蘇雙光子聚合激光直寫

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雙光子聚合技術(shù)作為物質(zhì)在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過程的新興技術(shù),已經(jīng)在許多領(lǐng)域展示出其巨大的潛力和價(jià)值。隨著科技的不斷進(jìn)步和發(fā)展,我們可以預(yù)見到雙光子聚合技術(shù)在未來(lái)將會(huì)開啟更多的應(yīng)用領(lǐng)域,推動(dòng)光電產(chǎn)業(yè)的持續(xù)進(jìn)步和發(fā)展。同時(shí),隨著新材料的不斷涌現(xiàn)和技術(shù)的不斷突破,雙光子聚合技術(shù)的應(yīng)用前景也將更加廣闊。雙光子聚合技術(shù)以其高精度、高分辨率、快速高效、高度靈活性和可擴(kuò)展性等優(yōu)勢(shì),已經(jīng)在快速3D打印、光子晶體形成、高精度光子器件制造等領(lǐng)域展示出廣泛的應(yīng)用前景。未來(lái),隨著科技的不斷進(jìn)步和發(fā)展,我們相信雙光子聚合技術(shù)將會(huì)在更多領(lǐng)域得到應(yīng)用和推廣,為光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展開啟新的篇章。江蘇亞微米級(jí)雙光子聚合三維光刻雙光子聚合利用了雙光子吸收過程對(duì)材料穿透性好、空間選擇性高的特點(diǎn)。

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Nanoscribe獨(dú)有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時(shí)兼顧打印速度,實(shí)現(xiàn)自由曲面微光學(xué)元件通過3D打印精確對(duì)準(zhǔn)到光纖或光子芯片的光學(xué)軸線上。NanoscribeQX平臺(tái)打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測(cè),確保打印精細(xì)對(duì)準(zhǔn)到光纖的光學(xué)軸線上。共焦檢測(cè)模塊用于3D基板拓?fù)錁?gòu)圖,實(shí)現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細(xì)打印對(duì)準(zhǔn)。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場(chǎng)上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的。其動(dòng)態(tài)體素調(diào)整需要相對(duì)較少的打印層次,即可實(shí)現(xiàn)具有光學(xué)級(jí)別、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時(shí),其打印速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過任何當(dāng)前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場(chǎng)上快的增材制造技術(shù),非常適用于3D納米和微納加工,在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下,其吞吐量相比任何當(dāng)前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍。

Nanoscribe對(duì)準(zhǔn)雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX,一種基于場(chǎng)景圖概念的軟件工具,可用于定義對(duì)準(zhǔn)3D打印的打印項(xiàng)目。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對(duì)象和操作的分層組織,用于定義何時(shí)、何地、以及如何進(jìn)行打印。在nanoPrintX中可以定義單個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以及基板特征,例如芯片邊緣和光纖表面。使用QuantumXalign系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元,可以識(shí)別這些特定的基板標(biāo)記,并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進(jìn)行匹配。對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統(tǒng)的標(biāo)配。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維帶您一起探討國(guó)內(nèi)在雙光子聚合技術(shù)領(lǐng)域的未來(lái)發(fā)展。

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無(wú)掩模光刻技術(shù),用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學(xué)制作??梢源钆洳煌幕?,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術(shù),可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作;也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o(wú)需額外成本增加的前提下,實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。微米級(jí)增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計(jì)的上限,借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能,可以輕松實(shí)現(xiàn)球形,非球形,自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作,并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度。


雙光子聚合的打印技術(shù)和方法有哪些?山西德國(guó)雙光子聚合

Photonic Professional GT2設(shè)備是將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點(diǎn)與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合。江蘇雙光子聚合激光直寫

雙光子聚合3D打印技術(shù)的發(fā)展也面臨一些挑戰(zhàn)。首先,材料選擇和性能仍然是一個(gè)問題。目前可用的光敏樹脂材料種類有限,無(wú)法滿足所有需求。其次,打印速度和成本也是制約技術(shù)發(fā)展的因素。雖然雙光子聚合3D打印技術(shù)比傳統(tǒng)技術(shù)更快,但仍然需要進(jìn)一步提高效率和降低成本。然而,隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和創(chuàng)新,雙光子聚合3D打印技術(shù)有望在未來(lái)取得更大的突破??蒲腥藛T正在不斷探索新的材料和打印方法,以提高打印質(zhì)量和效率。同時(shí),企業(yè)也加大了對(duì)該技術(shù)的支持和投入,推動(dòng)其在各個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用。雙光子聚合3D打印技術(shù)是一項(xiàng)具有巨大潛力的創(chuàng)新科技。它將為制造業(yè)帶來(lái)的變革,推動(dòng)產(chǎn)品設(shè)計(jì)和制造的發(fā)展。我們有理由相信,在不久的將來(lái),雙光子聚合3D打印技術(shù)將成為制造業(yè)的主流技術(shù),為我們帶來(lái)更加美好的未來(lái)。江蘇雙光子聚合激光直寫