Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上特別高分辨率的3D無(wú)掩模光刻技術(shù)，用于快速，特別高精度的微納加工，可以輕松3D微納光學(xué)制作?？梢源钆洳煌幕澹úＡ?，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫(xiě)技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o(wú)需額外成本增加的前提下，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。激光增材制造在航空航天、醫(yī)療和汽車(chē)等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。江蘇雙光子聚合增材制造三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”（CMM）。文章中介紹了高精度3D打印，并重點(diǎn)講解了先進(jìn)的打印材料是如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程，實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造，可以通過(guò)激光直寫(xiě)而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來(lái)創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。  湖南進(jìn)口增材制造激光直寫(xiě)增材制造可實(shí)現(xiàn)個(gè)性化定制生產(chǎn)。

Nanoscribe是非常獨(dú)特的納米和微米級(jí)3D打印技術(shù)。該公司成立于2007年，目前已經(jīng)在激光光刻行業(yè)處于領(lǐng)頭的地位。Nanoscribe公司的Photonic Professional GT光刻系統(tǒng)主要通過(guò)在微尺度上運(yùn)用激光來(lái)固化感光材料。3D打印材料主要包括液態(tài)的光敏材料和固態(tài)的旋涂光刻材料。憑著其獨(dú)特的微尺度3D 打印技術(shù)與人性化的軟件，Nanoscribe毫無(wú)疑問(wèn)是增材制造領(lǐng)域里的一股顛覆性力量。ORNL的科學(xué)家們使用Nanoscribe的增材制造系統(tǒng)來(lái)構(gòu)建世界上特別小的指尖陀螺， 該迷你玩具的寬度只為100微米（與人類(lèi)頭發(fā)的寬度相當(dāng)）。除了用于無(wú)線技術(shù)，Nanoscribe的3D打印技術(shù)還可用于制造高精度的光學(xué)微透鏡，衍射光學(xué)元件，用于生物打印的納米級(jí)支架等等。

  Nanoscribe設(shè)備專(zhuān)注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計(jì)用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過(guò)程中，激光固化部分液態(tài)光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達(dá)幾毫米。另一方面，GT2現(xiàn)在可以在短時(shí)間內(nèi)在高達(dá)100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細(xì)節(jié)的物體，通常為160納米至毫米范圍。此外，使用GT2，用戶可以選擇針對(duì)其應(yīng)用定制的多組物鏡，基板，材料和自動(dòng)化流程。 增材制造技術(shù)可用于快速原型制造和生產(chǎn)。

人們還可以用3D打印創(chuàng)作出精美的珠寶首飾和設(shè)計(jì)，甚至可以用這項(xiàng)技術(shù)做出巨大的藝術(shù)雕塑。Nanoscribe 公司專(zhuān)注于微觀3D打印技術(shù)，通過(guò)該用戶可以得到尺寸微小的高質(zhì)量產(chǎn)品。全新推出的Quantum X平臺(tái)新型超高速無(wú)掩模光刻技術(shù)主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了**復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。 想要了解增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別，請(qǐng)咨詢(xún)Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。江蘇微納米增材制造無(wú)掩膜光刻

納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討增材制造技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)和應(yīng)用。江蘇雙光子聚合增材制造三維微納米加工系統(tǒng)

  QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實(shí)現(xiàn)通過(guò)簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造，以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量。總而言之，工業(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝，適用于晶圓級(jí)批量加工。作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫(xiě)系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。

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