作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn)，同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時(shí)間。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級(jí)衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)?。雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的。內(nèi)蒙古微納米雙光子聚合微納加工系統(tǒng)

QuantumXshape技術(shù)特點(diǎn)概要：快速原型制作，高精度，高設(shè)計(jì)自由度，簡(jiǎn)易明了的工程流程；工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級(jí)批量生產(chǎn)；200個(gè)標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量；通用及專門使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。歡迎咨詢上海亞微米級(jí)雙光子聚合激光直寫雙光子聚合技術(shù)運(yùn)用在哪些地方你了解嗎？歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。

    雙光子聚合技術(shù)是一種高精度、高效率的微納加工技術(shù)，具有以下優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)：高精度和高分辨率：雙光子聚合技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)亞微米甚至納米級(jí)的分辨率，使得制造出的微納結(jié)構(gòu)更加精細(xì)。這是因?yàn)樗秒p光子吸收過程，將激光束聚焦到非常小的體積內(nèi)，從而實(shí)現(xiàn)了高精度的加工。三維加工能力：由于雙光子聚合技術(shù)可以在聚合物體積內(nèi)部進(jìn)行光刻，因此可以實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)制造，如微型光學(xué)元件、微流體芯片等。這一特點(diǎn)使得它在微納制造領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。無需光掩膜：傳統(tǒng)的光刻技術(shù)需要使用光掩膜進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)移，而雙光子聚合技術(shù)可以直接通過計(jì)算機(jī)控制激光束的位置和強(qiáng)度來實(shí)現(xiàn)圖案的制造，無需光掩膜。這不僅降低了制造成本，還縮短了制造周期。材料多樣性：雙光子聚合技術(shù)可以使用各種不同類型的光敏樹脂作為加工材料，從而可以制造出各種不同性質(zhì)和功能的微納結(jié)構(gòu)。這為微納制造提供了更多的選擇和靈活性。高效加工速度：雙光子聚合技術(shù)具有較高的加工速度，可以在短時(shí)間內(nèi)制造出復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)。這使得它在工業(yè)生產(chǎn)中具有較高的效率和競(jìng)爭(zhēng)力。易于控制和修改：雙光子聚合的加工環(huán)境和參數(shù)易于控制，可以輕松修改得到所需的結(jié)構(gòu)。

Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程，實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究?jī)x器和多用戶設(shè)施。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o需額外成本增加的前提下，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。

Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維邀您一起探討國(guó)內(nèi)在雙光子聚合技術(shù)領(lǐng)域的進(jìn)展。

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。Nanoscribe是德國(guó)高精度雙光子聚合微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商。上海亞微米級(jí)雙光子聚合激光直寫

非接觸式加工：雙光子聚合是一種非接觸式加工技術(shù)，避免了加工過程中的機(jī)械損傷。內(nèi)蒙古微納米雙光子聚合微納加工系統(tǒng)

雙光子聚合3D打印技術(shù)的發(fā)展也面臨一些挑戰(zhàn)。首先，材料選擇和性能仍然是一個(gè)問題。目前可用的光敏樹脂材料種類有限，無法滿足所有需求。其次，打印速度和成本也是制約技術(shù)發(fā)展的因素。雖然雙光子聚合3D打印技術(shù)比傳統(tǒng)技術(shù)更快，但仍然需要進(jìn)一步提高效率和降低成本。然而，隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和創(chuàng)新，雙光子聚合3D打印技術(shù)有望在未來取得更大的突破?？蒲腥藛T正在不斷探索新的材料和打印方法，以提高打印質(zhì)量和效率。同時(shí)，企業(yè)也加大了對(duì)該技術(shù)的支持和投入，推動(dòng)其在各個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用。雙光子聚合3D打印技術(shù)是一項(xiàng)具有巨大潛力的創(chuàng)新科技。它將為制造業(yè)帶來的變革，推動(dòng)產(chǎn)品設(shè)計(jì)和制造的發(fā)展。我們有理由相信，在不久的將來，雙光子聚合3D打印技術(shù)將成為制造業(yè)的主流技術(shù)，為我們帶來更加美好的未來。內(nèi)蒙古微納米雙光子聚合微納加工系統(tǒng)