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德國(guó)工業(yè)級(jí)灰度光刻無(wú)掩膜激光直寫(xiě)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-12-11

如何減少甚至避免因此帶來(lái)的柔軟樣品表面的形變,以實(shí)現(xiàn)對(duì)原始表面的精確成像一直是一個(gè)重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印特別有效的技術(shù),其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級(jí),并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性,以及非常普遍的材料-基板選擇。因此,它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您介紹雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)。德國(guó)工業(yè)級(jí)灰度光刻無(wú)掩膜激光直寫(xiě)

德國(guó)工業(yè)級(jí)灰度光刻無(wú)掩膜激光直寫(xiě),灰度光刻

Quantum X shape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào),該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑,同時(shí)保持高精度的形狀控制。它不只是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、微光學(xué)、MEMS、微流道、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具,同時(shí)也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡(jiǎn)易工具。通過(guò)系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來(lái)很大程度提高實(shí)用性。通過(guò)系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來(lái)進(jìn)行打印文件的遠(yuǎn)程監(jiān)控及多用戶的使用配置,實(shí)現(xiàn)推動(dòng)工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)。德國(guó)超高速灰度光刻更多雙光子灰度光刻系統(tǒng)的內(nèi)容,請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

德國(guó)工業(yè)級(jí)灰度光刻無(wú)掩膜激光直寫(xiě),灰度光刻

    QuantumX新型超高速無(wú)掩模光刻技術(shù)的中心是Nanoscribe獨(dú)有的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,使其同時(shí)具備高速打印,完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到精細(xì)同步,這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結(jié)合,使其同時(shí)具備高速打印,完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。

微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見(jiàn)組件,具有較強(qiáng)的聚焦和成像能力。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制,傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個(gè)平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu),這樣的1組微透鏡陣列無(wú)法將1個(gè)平面物體聚焦至1個(gè)像平面上,會(huì)產(chǎn)生場(chǎng)曲。在商業(yè)生產(chǎn)中,為了消除場(chǎng)曲這種光學(xué)像差,只能在后續(xù)光路中引入場(chǎng)鏡組來(lái)進(jìn)行校正,從而增加了器件復(fù)雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來(lái)加工微凹透鏡陣列即可通過(guò)設(shè)計(jì)一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場(chǎng)曲。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您揭秘什么是雙光子灰度光刻系統(tǒng)。

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近年來(lái),實(shí)現(xiàn)微納尺度下的3D灰度光刻結(jié)構(gòu)在包括微機(jī)電(MEMS)、微納光學(xué)及微流控研究領(lǐng)域內(nèi)備受關(guān)注,良好的線性側(cè)壁灰度結(jié)構(gòu)可以很大程度上提高維納器件的靜電力學(xué)特性,信號(hào)通訊性能及微流通道的混合效率等。相比一些獲取灰度結(jié)構(gòu)的傳統(tǒng)手段,如超快激光刻蝕工藝、電化學(xué)腐蝕或反應(yīng)離子刻蝕等,灰度直寫(xiě)圖形曝光結(jié)合干法刻蝕可以更加方便地制作任意圖形的3D微納結(jié)構(gòu)。該方法中,利用微鏡矩陣(DMD)開(kāi)合控制的激光灰度直寫(xiě)曝光表現(xiàn)出更大的操作便捷性、易于設(shè)計(jì)等特點(diǎn),不需要特定的灰度色調(diào)掩膜版,結(jié)合軟件的圖形化設(shè)計(jì)可以直觀地獲得灰度結(jié)構(gòu)。Quantum X是全球頭一臺(tái)灰度光刻激光直寫(xiě)系統(tǒng)。德國(guó)超高速灰度光刻

Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討雙光子灰度光刻技術(shù)。德國(guó)工業(yè)級(jí)灰度光刻無(wú)掩膜激光直寫(xiě)

儀器儀表行業(yè)本身是一個(gè)加入,產(chǎn)出周期較長(zhǎng)的行業(yè),所以作為業(yè)內(nèi)廠家,一方面要尋找中、短期市場(chǎng)熱點(diǎn),另一方面也要在產(chǎn)品、技術(shù)研發(fā)方面有長(zhǎng)遠(yuǎn)的規(guī)劃;儀器儀表在工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中扮演著重要的角色,用到各種各樣的儀器儀表,如PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫(xiě)系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng)等為工業(yè)的檢驗(yàn)、測(cè)量和計(jì)量提供技術(shù)支撐。儀器儀表應(yīng)用領(lǐng)域?qū)挿?,覆蓋了作為Nanoscribe在中國(guó)全資子公司,納糯三維科技(上海)有限公司可進(jìn)行三維打印科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開(kāi)發(fā),技術(shù)轉(zhuǎn)讓,技術(shù)咨詢,技術(shù)服務(wù),三維打印設(shè)備,光電機(jī)一體化設(shè)備和相關(guān)零配件的批發(fā),進(jìn)出口,傭金代理,并提供相關(guān)配套服務(wù),貿(mào)易信息咨詢,企業(yè)管理咨詢。等各方面,在國(guó)民經(jīng)濟(jì)建設(shè)各行各業(yè)的運(yùn)行過(guò)程中承擔(dān)著把關(guān)者和指導(dǎo)者的任務(wù),儀器儀表制造行業(yè)可以分為通用儀表儀器制造、**儀器儀表制造、鐘表與計(jì)時(shí)儀器制造、光學(xué)儀器制造和衡器制造。盡管在我國(guó)相關(guān)政策的引導(dǎo)和支持下,我國(guó)儀器儀表行業(yè)得到了飛速發(fā)展。但是從貿(mào)易整體上看,我國(guó)的儀器儀表行業(yè)還是落后于國(guó)際水平的。重點(diǎn)技術(shù)缺乏、高精尖產(chǎn)品嚴(yán)重依賴進(jìn)口、儀器儀表產(chǎn)品同質(zhì)化嚴(yán)重、生產(chǎn)工藝落后、研發(fā)能力弱、精度不高等問(wèn)題的凸顯,為儀器儀表行業(yè)的發(fā)展帶來(lái)了嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)。德國(guó)工業(yè)級(jí)灰度光刻無(wú)掩膜激光直寫(xiě)

納糯三維科技(上海)有限公司總部位于中國(guó)(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加楓路26號(hào)108室,是一家作為Nanoscribe在中國(guó)全資子公司,納糯三維科技(上海)有限公司可進(jìn)行三維打印科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開(kāi)發(fā),技術(shù)轉(zhuǎn)讓,技術(shù)咨詢,技術(shù)服務(wù),三維打印設(shè)備,光電機(jī)一體化設(shè)備和相關(guān)零配件的批發(fā),進(jìn)出口,傭金代理,并提供相關(guān)配套服務(wù),貿(mào)易信息咨詢,企業(yè)管理咨詢。的公司。公司自創(chuàng)立以來(lái),投身于PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫(xiě)系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng),是儀器儀表的主力軍。納糯三維始終以本分踏實(shí)的精神和必勝的信念,影響并帶動(dòng)團(tuán)隊(duì)取得成功。納糯三維始終關(guān)注自身,在風(fēng)云變化的時(shí)代,對(duì)自身的建設(shè)毫不懈怠,高度的專注與執(zhí)著使納糯三維在行業(yè)的從容而自信。