光學(xué)平臺其他配件還包括貨架、安裝座、桌下擱板、振動隔離配件、可安裝支桿的光學(xué)平臺配件、可調(diào)式光學(xué)爬升架安裝座、地震抑制、光學(xué)面包板罩殼、遮光材料、磁性薄片等等。生產(chǎn)意義：當(dāng)今科學(xué)界的科學(xué)實驗需要越來越精密的計算和測量，因此一個能與外界環(huán)境和干擾相對隔離的設(shè)備儀器對實驗的結(jié)果測量時非常重要的。能夠固定各種光學(xué)元件以及顯微鏡成像設(shè)備等的光學(xué)平臺也成為科研實驗中必備的產(chǎn)品。光學(xué)平臺很主要的一個目標(biāo)是消除平臺上任意兩個以上部件之間的相對位移。上海勤確科技有限公司光學(xué)平臺**國內(nèi)。青海氣浮光學(xué)平臺儀器

固有頻率還分為水平方向和豎直方向，但通常來說豎直方向的固有頻率對整體隔振性能的影響，起到?jīng)Q定性作用，水平方向的固有頻率指標(biāo)通常用于參考。振動恢復(fù)時間（Damping Settling Time）:也叫衰減周期，是指：某一點上開始振動到恢復(fù)到初始狀態(tài)所需要的很短時間。若要縮短光學(xué)平臺的振動恢復(fù)時間，通常有兩個辦法：增大彈簧的彈性系數(shù)k。對于阻尼隔振平臺，可以換用材質(zhì)較硬的阻尼材料；對于充氣平臺，可以適度增加空氣壓力；控制光學(xué)平臺臺面的質(zhì)量。在不影響剛度的前提下，臺面質(zhì)量越輕，振動恢復(fù)時間越短，使用效果就越好。勤確的光學(xué)平臺，采用優(yōu)良鐵磁不銹鋼，上臺面鋼板厚度為4～6mm，在確保系統(tǒng)剛性的前提下，整體重量適中，可充分發(fā)揮出平臺優(yōu)良的隔振性能。上海光學(xué)平臺主要配件：支撐架光學(xué)平臺包括剛性、無隔振支撐架，被動式隔振支撐架，主動式自動調(diào)平支撐架。

表面粗糙度（Surface Roughness）：有部分廠家，在光學(xué)平臺的指標(biāo)中，標(biāo)稱表面粗糙度的概念，往往存在一些誤導(dǎo)。國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T3505-2000中規(guī)定了評定表面粗糙度的各種參數(shù)，其中常用的是輪廓算術(shù)平均偏差Ra。輪廓算術(shù)平均偏差Ra是指在取樣長度內(nèi)，沿測量方向(z方向)的輪廓線上的點與基準(zhǔn)線之間距離完全值的算術(shù)平均值。 若只標(biāo)稱Ra的數(shù)值，但并未公布取樣長度，這樣的數(shù)值標(biāo)稱變得毫無意義，而且有誤導(dǎo)消費者的可能。比如說，標(biāo)稱表面粗糙度為：0.5～0.8μm，但若取樣長度分別為10mm、1mm和0.1mm，實際上表面粗糙度的差別可達百倍！

光學(xué)平臺精密隔振系統(tǒng)設(shè)計需要考慮的環(huán)境微振動干擾是復(fù)雜的，包括：大型建筑物本身的擺動、地面或樓層間傳來的振動、電動儀器和設(shè)備的振動、各類機械振動、聲音引起的振動、外界街道交通引起的振動，甚至包括人員走動所引起的振動等。精密的光學(xué)實驗依賴于可靠的定位穩(wěn)定性，工作區(qū)域內(nèi)及附近的振動會造成光學(xué)部件間的相對運動，從而產(chǎn)生不可接受的偏移，這些偏移會導(dǎo)致：采集的圖像模糊、光斑偏移造成無法采集數(shù)據(jù)或數(shù)據(jù)采集不準(zhǔn)等現(xiàn)象，所以光學(xué)平臺的選擇對于提升實驗精度，起著至關(guān)重要的作用。上海勤確科技有限公司累積點滴改進，邁向優(yōu)良品質(zhì)！

自動化加工過程:自動化加工系統(tǒng)平臺和面包板的特殊之處是采用自動軌道機械啞光表面加工，比老舊的平臺產(chǎn)品更加平滑、平整。這些平臺經(jīng)過改善的表面拋光處理后，表面平整度在1平方米（11平方英尺）內(nèi)可達±0.1毫米（±0.004英寸），為安裝部件提供了接觸表面，不需要使用磨具對頂面進行打磨。大半徑角：平臺和面包板設(shè)計還可以采用大半徑圓角，這樣能減少實驗室中的尖銳邊緣，提高安全性。支撐架：光學(xué)平臺包括剛性、無隔振支撐架，被動式隔振支撐架，主動式自動調(diào)平支撐架。優(yōu)良的光學(xué)平臺不僅需要高精度的機器設(shè)備來加工。北京自平衡光學(xué)平臺儀器

光學(xué)平臺又稱光學(xué)桌面，供水平、穩(wěn)定的臺面，一般平臺都需要進行隔振等措施。青海氣浮光學(xué)平臺儀器

振幅在數(shù)值上等于位移的大小。對于光學(xué)平臺系統(tǒng)，臺面受外力作用時，離開平衡位置的距離，同光學(xué)平臺系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)、受力大小、受力的位置、瞬時加速度、速度、持續(xù)時間、臺面的剛性、隔振系統(tǒng)的阻尼比等諸多因素有著非常復(fù)雜的非線性函數(shù)關(guān)系，如果標(biāo)稱振幅的具體指標(biāo)，需要注明上述特定的實驗條件，否則振幅的指標(biāo)，變得沒有意義。對于阻尼隔振的光學(xué)平臺，振幅通常在微米量級，而氣浮式隔振平臺，振幅通常為毫米量級甚至是厘米量級。勤確及國外廠商的光學(xué)平臺并未標(biāo)稱光學(xué)平臺振幅的指標(biāo)。青海氣浮光學(xué)平臺儀器