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硅硅光芯片耦合測試系統(tǒng)及硅光耦合方法,其用以將從硅光源發(fā)出的硅光束耦合進入硅光纖,并可減少硅光束背向反射進入硅光源,也提供控制的發(fā)射條件以改善前向硅光耦合。硅光耦合系統(tǒng)包括至少一個平坦的表面,平坦的表面與硅光路相交叉的部分的至少一部分上設有若干擾動部。擾動部具有預選的橫向的寬度及高度以增加前向硅光耦合效率及減少硅光束從硅光纖的端面進入硅光源的背向反射。擾動部通過產生復合的硅光束形狀來改善前向硅光耦合,復合的硅光束形狀被預選成更好地匹配硅光纖多個硅光模式的空間和角度分布。重慶分路器硅光芯片耦合測試系統(tǒng)哪家好硅光芯片耦合測試系統(tǒng)硅光芯片的好處：在一個指令周期內可完成一次乘法和一次加法。

經過多年發(fā)展,硅光芯片耦合測試系統(tǒng)如今已經成為受到普遍關注的熱點研究領域。利用硅的高折射率差和成熟的制造工藝,硅光子學被認為是實現高集成度光子芯片的較佳選擇。但是,硅光子學也有其固有的缺點,比如缺乏高效的硅基有源器件,極低的光纖-波導耦合效率以及硅基波導明顯的偏振相關性等都制約著硅光子學的進一步發(fā)展。針對這些問題,試圖通過新的嘗試給出一些全新的解決方案。首先我們回顧了一些光波導的數值算法,并在此基礎上開發(fā)了一個基于柱坐標系的有限差分模式分析器,它非常適合于分析彎曲波導的本征模場。對于復雜光子器件結構的分析,我們主要利用時域有限差分以及波束傳播法等數值工具。接著我們回顧了硅基光子器件各項主要的制造工藝和測試技術。重點介紹了幾種基于超凈室設備的關鍵工藝,如等離子增強化學氣相沉積,電子束光刻以及等離子體干法刻蝕。為了同時獲得較高的耦合效率以及較大的對準容差,本論文主要利用垂直耦合系統(tǒng)作為光子器件的主要測試方法。

提到硅光芯片耦合測試系統(tǒng)，我們來認識一下硅光子集。硅光子集成的工藝開發(fā)路線和目標比較明確，困難之處在于如何做到與CMOS工藝的較大限度的兼容，從而充分利用先進的半導體設備和工藝，同時需要關注個別工藝的特殊控制。硅光子芯片的設計目前還未形成有效的系統(tǒng)性的方法，設計流程沒有固化，輔助設計工具不完善，但基于PDK標準器件庫的設計方法正在逐步形成。如何進行多層次光電聯合仿真，如何與集成電路設計一樣基于可重復IP進行復雜芯片的快速設計等問題是硅光子芯片從小規(guī)模設計走向大規(guī)模集成應用的關鍵。芯片耦合封裝問題是光子芯片實用化過程中的關鍵問題。

實驗中我們經常使用硅光芯片耦合測試系統(tǒng)獲得了超過50%的耦合效率測試以及低于-20dB的偏振串擾。我們還對一個基于硅條形波導的超小型偏振旋轉器進行了理論分析,該器件能夠實現100%的偏轉轉化效率,并擁有較大的制造容差。在這里,我們還對利用側向外延生長硅光芯片耦合測試系統(tǒng)技術實現Ⅲ-Ⅴ材料與硅材料混集成的可行性進行了初步分析,并優(yōu)化了諸如氫化物氣相外延,化學物理拋光等關鍵工藝。在該方案中,二氧化硅掩膜被用來阻止InP種子層中的線位錯在外延生長中的傳播。初步實驗結果和理論分析證明該集成平臺對于實現InP和硅材料的混合集成具有比較大的吸引力。IC測試架是一種非常有用的測試設備，它可以有效地測試集成電路的功能、性能和可靠性，從而確保產品質量。廣東分路器硅光芯片耦合測試系統(tǒng)

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