美國、歐洲、日本等發(fā)達(dá)國家和地區(qū)十分重視新材料技術(shù)的發(fā)展,都把發(fā)展新材料作為科技發(fā)展戰(zhàn)略的重要組成部分,在制定國家科技與產(chǎn)業(yè)發(fā)展計劃時,將新材料技術(shù)列為21世紀(jì)優(yōu)先發(fā)展的關(guān)鍵技術(shù)之一,予以重點發(fā)展,以保持其經(jīng)濟和科技的地位。中國的新材料科技及產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,在國家的大力關(guān)心和支持下,也取得了重大的進展和成績,為國民經(jīng)濟和社會發(fā)展提供了強有力的支撐。為研究我國新材料領(lǐng)域的發(fā)展現(xiàn)狀和態(tài)勢,討論了新材料包括超導(dǎo)材料、金屬材料、非金屬材料、高分子材料和復(fù)合材料的理論研究、制備工藝、產(chǎn)品應(yīng)用、技術(shù)裝備等方面的內(nèi)容。
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美國ibm公司的科研人員,在2001年4月,用碳納米管制造出了晶體管,這一利用電子的波性,而不是常規(guī)導(dǎo)線實現(xiàn)傳遞住處的技術(shù)突破,有可能導(dǎo)致更快更小的產(chǎn)品出現(xiàn),并可能使現(xiàn)有的硅芯片技術(shù)逐漸被淘汰。在碳納米管研究方興未艾的同時,納米事業(yè)的新秀--“納米帶”又問世了。在美國佐治亞理工學(xué)院工作的三位中國科學(xué)家2001年初利用高溫氣體固相法,在世界上合成了半導(dǎo)體化物納米帶狀結(jié)構(gòu)。這是繼發(fā)現(xiàn)多壁碳納米管和合成單壁納米管以來,一維納米材料合成領(lǐng)域的又一大突破。這種納米帶的橫截面是一個窄矩形結(jié)構(gòu),帶寬為30~300mm,厚度為5~10nm,而長度可達(dá)幾毫米,是迄今為止合成的惟一具有結(jié)構(gòu)可控且無缺陷的寬帶半導(dǎo)體準(zhǔn)一維帶狀結(jié)構(gòu)。已經(jīng)成功合成了氧化錫、氧化銦、氧化隔等材料納米帶。由于半導(dǎo)體氧化物納米帶克服了碳納米管的不穩(wěn)定性和內(nèi)部缺陷問題,具有比碳納米管更獨特和優(yōu)越的結(jié)構(gòu)及物理性能,因而能夠更早地投入工業(yè)生產(chǎn)和商業(yè)開發(fā)。海南定制四氯化鉿價格四氯化鉿的溶解度高么?
化學(xué)試劑的中文名稱及型態(tài):產(chǎn)品名稱以中國化學(xué)會1982年公布的“無機化學(xué)物質(zhì)系統(tǒng)命名原則”、“有機化學(xué)物質(zhì)系統(tǒng)命名原則”為主要依據(jù),兼顧長期使用的俗名、商品名。并且盡可能準(zhǔn)確地給出能夠描述該化學(xué)試劑的型態(tài)或劑型,例如:水溶液、醇溶液、粉、塊、棒、膏,甚至粒度如200目等。
英文名稱:產(chǎn)品名稱以IUPAC 1982年公布的“無機化學(xué)物質(zhì)系統(tǒng)命名原則”、“有機化學(xué)物質(zhì)系統(tǒng)命名原則”為主要依據(jù),兼顧長期使用的俗名、商品名。
我國新材料領(lǐng)域2000年共發(fā)表論文15866篇,2005年增加到27278篇,增加了11412篇,增長幅度達(dá)71.9%。其中:2000年至2002年論文發(fā)表數(shù)量以每年2000多篇速度增加,增長幅度達(dá)13%以上;2003-2004年,發(fā)表論文總量雖然在增加,但增長速度有所同比增長緩慢,其中2003年只比2002年增長了7.72%,2004年較2003年增長了4.09%;但到了2005年,發(fā)表的論文數(shù)量卻有了大幅度增加,數(shù)量達(dá)到4512篇,增長幅度為19.82%,呈現(xiàn)加速增長的趨勢。總體來說我國新材料領(lǐng)域的研究正在迅速的發(fā)展。
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鉿為銀灰色的金屬,有金屬光澤;金屬鉿有兩種變體:α鉿為六方密堆積變體(1750℃),其轉(zhuǎn)變溫度比鋯高。金屬鉿在高溫下有同素異形變體存在。金屬鉿有較高的中子吸收截面,可用作反應(yīng)堆的控制材料。晶體結(jié)構(gòu)有兩種:在1300℃以下時,為六方密堆積(α-式);在1300℃以上時,為體心立方(β-式)。具有塑性的金屬,當(dāng)有雜質(zhì)存在時質(zhì)變硬而脆。空氣中穩(wěn)定,灼燒時在表面上發(fā)暗。細(xì)絲可用火柴的火焰點燃。性質(zhì)似鋯。不和水、稀酸或強堿作用,但易溶解在王水和氫氟酸中。在化合物中主要呈+4價。五碳化四鉭鉿(Ta4HfC5)是已知熔點比較高的物質(zhì)(約4215℃)。四氯化鉿的閃點是多少?四川有口碑的四氯化鉿價格
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國際半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展趨勢(ITRS)預(yù)測未來45納米節(jié)點上的高性能晶體管的有效柵氧厚度(EOT)將小于1.0納米。隨著有效柵氧厚度(EOT)小于2.0納米,多晶硅柵電極的耗盡效應(yīng)將成為一道擺在工程師面前難以逾越的鴻溝,于是生產(chǎn)中使用幾乎完全沒有耗盡效應(yīng)的金屬柵電極將是大勢所趨。而且值得一提的是當(dāng)有效柵氧厚度(EOT)進入這一范圍后,柵氧與硅之間交接面的質(zhì)量將會明顯影響器件的性能。另外,將高介電常數(shù)絕緣材料和兩種不同功函數(shù)的金屬柵電極引入nMOS和pMOS晶體管的制造流程是非常復(fù)雜的。本文針對當(dāng)今業(yè)界在生產(chǎn)雙金屬柵結(jié)構(gòu)CMOS器件中使用的高介電常數(shù)絕緣材料表面預(yù)處理工藝及金屬濕法刻蝕技術(shù)等領(lǐng)域取得的成就和存在的問題進行了總結(jié)與展望,云南新時代四氯化鉿市面價