超高真空烘箱廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項(xiàng)或同時(shí)作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的降溫速率。1.升溫時(shí)間:①常壓時(shí):90min(常溫~+260℃)②低氣壓0.0001pa時(shí):180min(常溫~+260℃)2.降溫時(shí)間:3℃~10℃/min(260℃~120℃),1℃~5℃/min(120℃~常溫℃)3.降溫方式:水冷降溫4.試驗(yàn)箱承壓方式:采用內(nèi)承壓方式5.壓力范圍:常壓~0.0001Pa合肥真萍與您分享網(wǎng)帶爐對(duì)如今市場(chǎng)的影響。北京烘銀網(wǎng)帶爐批發(fā)
下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的技術(shù)指標(biāo)。1.使用溫度:1450℃;比較高溫度:1500℃;2.絕熱材料:石墨纖維毯、石墨紙;3.加熱元件:石墨加熱棒;4.冷卻方式:氣冷+循環(huán)風(fēng)冷降溫;5.控溫穩(wěn)定度:±2℃,具有PID參數(shù)自整定功能;6.爐膛溫度均勻度:±5℃(恒溫1500℃);7.氣氛:可向爐膛內(nèi)通入干燥、潔凈、無(wú)油的高純度氮?dú)?純度≥99.999%;8.極限真空:10-3torr級(jí);9.抽氣速率:空載下,30min達(dá)到10-2torr10.升溫功率:170kW;11.升溫速率:15℃/min(空載);12.降溫速率:1450℃至80℃,240分鐘13.腔體尺寸:1000*1000*1000mm(寬*深***燥網(wǎng)帶爐市面價(jià)網(wǎng)帶爐給社會(huì)帶來(lái)了什么好處?
光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。
電熱鼓風(fēng)烤箱適用于各種產(chǎn)品或材料及電氣、儀表、元器件、電子、電工及汽車、航空、通訊塑膠、機(jī)械、食品、化工、化學(xué)品、五金工具在恒溫環(huán)境條件下作干燥和各種恒溫適應(yīng)性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下真萍科技電熱鼓風(fēng)烤箱的箱體結(jié)構(gòu)。1.本烘箱由室體、加熱系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、送風(fēng)系統(tǒng)、保護(hù)系統(tǒng)等組成。2.箱體采用先進(jìn)設(shè)備制作、業(yè)內(nèi)優(yōu)良的制造工藝流程、線條流暢、美觀大方。3.工作室材質(zhì)為不銹鋼、外箱材質(zhì)為優(yōu)良冷軋鋼板,產(chǎn)品外殼使用環(huán)保金屬漆噴制,整體設(shè)計(jì)美觀大方,適合實(shí)驗(yàn)室的顏色搭配。4.工作室內(nèi)的擱架不可調(diào)節(jié)。上海哪家的網(wǎng)帶爐比較好?
1.內(nèi)膽尺寸:650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;2.載物托架:2塊3.室溫+10℃-250℃控溫范圍:溫度分辨率:0.1℃溫度波動(dòng)度:0.5℃4.真空泵:油泵或無(wú)油真空泵。真空度:133pa,5.加熱方式:腔體下部及兩側(cè)加溫。加熱器為外置加熱板(防止一側(cè)加熱使的HMDS液進(jìn)入箱體內(nèi)不能完本轉(zhuǎn)成氣態(tài))6.可放2寸晶圓片或4寸晶圓片;6寸晶圓片;8寸晶圓片等。7.開(kāi)箱溫度可以由user自行設(shè)定來(lái)降低process時(shí)間(正常工藝在50分鐘-120分鐘(按產(chǎn)品所需而定烘烤時(shí)間),為正常工作周期不含降溫時(shí)間(因降溫時(shí)間為常規(guī)降溫)。網(wǎng)帶爐的結(jié)構(gòu)如何組成?無(wú)錫烘干網(wǎng)帶爐批發(fā)
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