真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤裰饕獞?yīng)用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問(wèn)題解決光罩的受潮問(wèn)題---黃光部封裝的金線，解決液晶的受潮問(wèn)題，解決線路板受潮問(wèn)題。下面為大家簡(jiǎn)單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤竦墓耋w規(guī)格、配備。1.左右雙開(kāi)門(mén)，3mm鋼化玻璃，1mm厚不銹鋼板，氣密式隱藏鎖把手。2.柜體密封高吸附力磁性膠條與柜體密閉，腳墊采高承載車(chē)輪及調(diào)整高低腳墊。3.附高載重不銹鋼隔板，柜體加裝高載重煞車(chē)輪。4.上掀式氣密蓋，方便FFU保養(yǎng)及維修。5.回風(fēng)循環(huán)設(shè)計(jì)，單向氮?dú)庋h(huán)不產(chǎn)生紊流。6.背面氣密開(kāi)門(mén)式設(shè)計(jì)，方便潔凈清理與保養(yǎng)。合肥真萍科技-網(wǎng)帶爐生產(chǎn)廠家。廈門(mén)干燥網(wǎng)帶爐專(zhuān)賣(mài)

冷熱沖擊試驗(yàn)箱具有模擬大氣環(huán)境中溫度變化規(guī)律的功能。主要針對(duì)于電工，電子產(chǎn)品，以及其元器件及其它材料在高溫，低溫綜合環(huán)境下運(yùn)輸，使用時(shí)的適應(yīng)性試驗(yàn)。用于產(chǎn)品設(shè)計(jì)，改進(jìn)，鑒定及檢驗(yàn)等環(huán)節(jié)。真萍科技作為冷熱沖擊試驗(yàn)箱設(shè)備制造廠商，在冷熱沖擊試驗(yàn)箱設(shè)備制造領(lǐng)域的專(zhuān)業(yè)性是不用多說(shuō)的。下面讓真萍科技從溫度方面，帶您了解冷熱沖擊試驗(yàn)箱。一、溫度均勻度舊標(biāo)準(zhǔn)稱(chēng)均勻度，新標(biāo)準(zhǔn)稱(chēng)梯度。溫度穩(wěn)定后，在任意時(shí)間間隔內(nèi)，工作空間內(nèi)任意兩點(diǎn)的溫度平均值之差的較大值。這個(gè)指標(biāo)比下面的溫度偏差指標(biāo)更可以考核產(chǎn)品的**技術(shù)，因此好多公司的樣本及方案刻意隱藏此項(xiàng)。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為≤2℃。二、溫度偏差溫度穩(wěn)定后，在任意時(shí)間間隔內(nèi)，工作空間中心溫度的平均值和工作空間內(nèi)其它點(diǎn)的溫度平均值之差。雖然新舊標(biāo)準(zhǔn)對(duì)此指標(biāo)的定義和稱(chēng)呼相同，但檢測(cè)已有所改變，新標(biāo)準(zhǔn)更實(shí)際，更苛刻一點(diǎn)，但考核時(shí)間短點(diǎn)。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為±2℃，純高溫試驗(yàn)箱200℃以上可按實(shí)際使用溫度攝氏度(℃)±2%要求。廈門(mén)干燥網(wǎng)帶爐專(zhuān)賣(mài)如有需要各種網(wǎng)帶爐，歡迎致電合肥真萍科技咨詢。

精密鼓風(fēng)烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業(yè)對(duì)溫度均勻性要求比較嚴(yán)格的實(shí)驗(yàn)。下面為大家介紹一下真萍科技精密鼓風(fēng)烤箱的箱體結(jié)構(gòu)。1.本設(shè)備由室體、加熱系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、送風(fēng)系統(tǒng)、保護(hù)系統(tǒng)等組成。2.箱體采用先進(jìn)設(shè)備制作、業(yè)內(nèi)優(yōu)良工藝制造流程、線條流暢，美觀大方。3.工作室材質(zhì)為不銹鋼SUS304材質(zhì)，外箱材質(zhì)為優(yōu)良冷軋鋼板，產(chǎn)品外殼采用環(huán)保金屬漆噴制，整體設(shè)計(jì)美觀大方，適合實(shí)驗(yàn)室的顏色搭配。4.工作室內(nèi)擱架可隨用戶的要求任意調(diào)節(jié)高度以及擱架的數(shù)量。5.工作室與外箱之間的保溫材料為優(yōu)良超細(xì)玻璃纖維保溫棉，保溫層厚度：＞70mm,隔溫效果好，高性能的絕緣結(jié)構(gòu)。從里到外有內(nèi)腔、內(nèi)殼、超細(xì)玻璃纖維、鋁制反射鋁箔片、空氣夾層，內(nèi)膽熱量損失少。內(nèi)膽外箱及門(mén)膽結(jié)構(gòu)獨(dú)特，極大減少了內(nèi)腔熱量的外傳。

一、熱工系統(tǒng)1.額定溫度800℃2.較高溫度850℃3.加熱元件陶瓷外絲加熱管4.加熱功率18kw5.空爐保溫功率約9kw6.溫區(qū)個(gè)數(shù)1個(gè)7.控溫點(diǎn)數(shù)2點(diǎn)8.熱偶K分度9.控溫穩(wěn)定度±1℃(恒溫平臺(tái))10.爐膛溫度均勻度±6℃（恒溫800℃,1h）二、冷卻系統(tǒng)1.冷卻結(jié)構(gòu)無(wú)2.產(chǎn)品降溫隨爐降溫3.安全保護(hù)4.報(bào)警指示超溫、斷偶、停水、停氣等聲光報(bào)警保護(hù)5.設(shè)備安全升溫速率≤5℃/min，在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。有哪些領(lǐng)域需要使用網(wǎng)帶爐呢？

連續(xù)爐即是連續(xù)作業(yè)爐，是指連續(xù)地或間歇地裝料，工件在爐內(nèi)不斷移動(dòng)，完成加熱、保溫，有時(shí)包括冷卻在內(nèi)全過(guò)程的熱處理爐。連續(xù)作業(yè)爐可借助某些機(jī)械機(jī)構(gòu)連續(xù)地或間歇地進(jìn)行裝料和出料，連續(xù)順序地通過(guò)按零件處理工藝要求的不同溫度區(qū)完成加熱過(guò)程。使用連續(xù)作業(yè)爐可提高產(chǎn)品質(zhì)量，提高勞動(dòng)生產(chǎn)率和改善勞動(dòng)條件。下面為大家介紹一下連續(xù)爐的技術(shù)參數(shù)。1.送風(fēng)方式：送風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)；2.溫度范圍：RT+30℃~300℃；3.溫度精度：1℃4.溫度均勻性：1℃5.溫控裝置：富士智能PID溫控儀，LED數(shù)字顯示，PID自動(dòng)演算及定時(shí)；6.材質(zhì)：內(nèi)膽不銹鋼，外箱體鋼板靜電噴塑；7.傳送方式：鏈桿、鏈網(wǎng)、自動(dòng)錕輪，相當(dāng)強(qiáng)承重；8.復(fù)合式電加熱器；9.保護(hù)裝置：漏電保護(hù)、斷路保護(hù)、電機(jī)過(guò)載保護(hù)、接地保護(hù)、非正常運(yùn)行情況下蜂鳴報(bào)警。如何挑選網(wǎng)帶爐，敬請(qǐng)來(lái)電咨詢真萍科技！廈門(mén)干燥網(wǎng)帶爐專(zhuān)賣(mài)

網(wǎng)帶爐的重要組成部分有哪些？廈門(mén)干燥網(wǎng)帶爐專(zhuān)賣(mài)

本篇介紹專(zhuān)業(yè)全自動(dòng)HMDS真空烤箱，首先簡(jiǎn)單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。廈門(mén)干燥網(wǎng)帶爐專(zhuān)賣(mài)

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