真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜主要應(yīng)用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(例如阿摩利亞氣體)破壞,解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線,解決液晶的受潮問題,解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜的氮氣監(jiān)控系統(tǒng)。1.溫濕度記錄功能:1.2內(nèi)建內(nèi)存,可儲存溫度/濕度,收集時間1~240分鐘可自行設(shè)定。1.3可利用RS232連接阜下載至計算機中讀取。1.4品管記錄格式設(shè)計,有助于內(nèi)部記錄追蹤并可支持數(shù)據(jù)庫檔案格式。2.濕度警報系統(tǒng):2.1可設(shè)定啟動警報的濕度值及條件,內(nèi)配蜂鳴器(90分貝)及閃爍警示功能。2.2可另外選配積層式警示燈。3.溫濕度偏移校正功能:內(nèi)建校正功能,確保顯示準確度。網(wǎng)帶爐的基本結(jié)構(gòu)級應(yīng)用。上海大型網(wǎng)帶爐
無氧干燥箱主要應(yīng)用于航空、航天、石油、化工、船舶、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位,主要作BPO膠/PI膠/BCB膠固化,模壓固烤、IC(晶圓、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指紋識別)、FPD、高精密電子元件、電子陶瓷材料無塵烘干,電工產(chǎn)品、材料、零備件等的高溫潔凈和無氧環(huán)境中干燥和老化試驗。下面為大家簡單介紹一下無氧干燥箱。1.技術(shù)指標與基本配置:1.1使用溫度:RT~260℃,極限溫度:300℃;1.2爐膛腔數(shù):2個,上下布置;1.3爐膛材料:SUS304鏡面不銹鋼;加熱元件:不銹鋼加熱器;熱偶:K分度1.4溫度和氧含量記錄:無紙記錄儀;2.氧含量(配氧分析儀):2.1高溫狀態(tài)氧含量:≤10ppm+氣源氧含量;低溫狀態(tài)氧含量:≤20ppm+氣源氧含量2.2控溫穩(wěn)定度:±1℃;2.3溫度均勻度:±2%℃(260℃平臺);福建烘干網(wǎng)帶爐價格多少上海哪家網(wǎng)帶爐廠家值得信賴?
一、熱工系統(tǒng)1.額定溫度800℃2.較高溫度850℃3.加熱元件陶瓷外絲加熱管4.加熱功率18kw5.空爐保溫功率約9kw6.溫區(qū)個數(shù)1個7.控溫點數(shù)2點8.熱偶K分度9.控溫穩(wěn)定度±1℃(恒溫平臺)10.爐膛溫度均勻度±6℃(恒溫800℃,1h)二、冷卻系統(tǒng)1.冷卻結(jié)構(gòu)無2.產(chǎn)品降溫隨爐降溫3.安全保護4.報警指示超溫、斷偶、停水、停氣等聲光報警保護5.設(shè)備安全升溫速率≤5℃/min,在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。
隧道爐適用于五金模具、航天航空、納米材料、精密陶瓷、粉末治金、鐵氟龍噴涂、五金、鋰電池、化工、運動器材、汽車零配件、電機、化工、工業(yè)之烘烤、干燥、預(yù)熱回火、退火、老化等用途。作為隧道爐的優(yōu)良供應(yīng)商原產(chǎn)廠家,小編下面就為大家介紹一下真萍科技隧道爐的產(chǎn)品材質(zhì)的構(gòu)成。1.外箱構(gòu)成。外箱采用1.5mm厚Q235冷軋鋼板/內(nèi)箱采用1.5mm厚SUS304#不銹鋼2.系統(tǒng)裝置保護裝置定時報警斷電裝置、超溫斷電、漏電保護斷路器、電機過載保護。網(wǎng)帶爐的特點是什么?合肥真萍告訴您。
真萍科技潔凈烘箱是參照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技術(shù)條件及中國相關(guān)標準研究制造,廣泛應(yīng)用于電子液晶顯示,LCD,CMOS,IC,醫(yī)藥實驗室等生產(chǎn)及科研部門。下面為大家介紹一下潔凈烘箱的技術(shù)指標。1.無塵等級:Class100:(符合FED-STD209E標準:0.3um≤300個0.5≤100個)2.溫度范圍:+60℃~+250℃(極限溫度350℃)3.溫度均勻性:±2℃(空箱測試)4.溫度精確度:±1℃(空箱測試)5.設(shè)備型號規(guī)格:450*450*450;450*600*450;600*800*600;600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;使用網(wǎng)帶爐前的檢查步驟。上海復(fù)合網(wǎng)帶爐保養(yǎng)
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下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的用途和設(shè)計。一、產(chǎn)品介紹真空烤盤爐是與MOCVD設(shè)備配套使用的爐體,爐內(nèi)抽真空,被處理工件放置在爐膛內(nèi),采用清洗氣體加熱反應(yīng)方式進行干式清洗(清洗氣體:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂層石墨盤或石英盤)上的氮化鎵和氮化鋁等,可達到有效清潔處理,提高制品質(zhì)量的目的。二、設(shè)計特點1.后門設(shè)計熱風(fēng)電機2.降溫時風(fēng)機開啟,同時兩端降溫封頭開啟,爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向3.通過氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進行熱交換,達到快速降溫的目的。上海大型網(wǎng)帶爐