隧道爐適用于五金模具、航天航空、納米材料、精密陶瓷、粉末治金、鐵氟龍噴涂、五金、鋰電池、化工、運動器材、汽車零配件、電機、化工、工業(yè)之烘烤、干燥、預熱回火、退火、老化等用途。下面為大家介紹一下真萍科技隧道爐的產品特性。1.采用智能型溫度控制模塊，PID自動演算，LED顯示，配合SSR大功率可控硅輸出，能精確控制溫度之精細度；2.分段控制（當到達設定溫度時可任意關掉其中幾段發(fā)熱管，降低加熱功率，其達到省電效果）；3.內箱采用1.5mm厚SUS304#不銹鋼(清潔無塵，防生銹、耐腐蝕)，外箱采用1.5mm厚Q235冷軋鋼板(強度、塑性和焊接綜合性能相當好)；4.整機控制系統(tǒng)采用觸摸屏加PLC程序控制，設備加熱、運風、傳動、自動門開關均采用智能控制，有效防止失誤動作；5.當實際檢測溫度超過超溫保護溫控器設定值時，自動切斷加熱電源，起到雙重保護功能。合肥真萍告訴您氣氛爐如何去使用呢？福州氣氛爐專賣

連續(xù)爐即是連續(xù)作業(yè)爐，是指連續(xù)地或間歇地裝料，工件在爐內不斷移動，完成加熱、保溫，有時包括冷卻在內全過程的熱處理爐。連續(xù)作業(yè)爐可借助某些機械機構連續(xù)地或間歇地進行裝料和出料，連續(xù)順序地通過按零件處理工藝要求的不同溫度區(qū)完成加熱過程。使用連續(xù)作業(yè)爐可提高產品質量，提高勞動生產率和改善勞動條件。下面為大家介紹一下連續(xù)爐的產品特性。1.采用智能型溫度控制模塊，PID自動演算，LED顯示，配合SSR大功率可控硅輸出，能控制溫度之精細度；2.分段控制（當到達設定溫度時可任意關掉其中幾段發(fā)熱管，降低加熱功率，其達到省電效果）3.內箱采用1.5mm厚SUS304#不銹鋼(清潔無塵，防生銹、耐腐蝕)，外箱采用1.5mm厚Q235冷軋鋼板(強度、塑性和焊接綜合性能相當好)；4.整機控制系統(tǒng)采用觸摸屏加PLC程序控制，設備加熱、運風、傳動、自動門開關均采用智能控制，防止失誤動作；5.當實際檢測溫度超過超溫保護溫控器設定值時，自動切斷加熱電源，起到雙重保護功能。制造氣氛爐銷售價格合肥真萍告訴您使用氣氛爐的便捷性。

下面為大家介紹一下高溫鐘罩爐的內外部結構和配置。一、爐體配置爐膛結構：采用多晶莫來石材料砌筑而成有效尺寸：φ300×320mm（D×H）設備重量：約1200Kg外觀顏色：掛板采用高溫噴塑，顏色為江淮藍外形尺寸：W1300×H2200×D1510(mm)，不含(囪、指示燈）二、熱工系統(tǒng)1.額定溫度：1550℃2.限制溫度：1600℃3.加熱元件：U型硅鉬棒4.加熱功率：16kW5.空爐保溫功率≤8kW6.溫區(qū)個數：1個7.控溫點數：1點8.熱偶:B分度9.程序**精度：±2℃（大于600℃,升溫速率≤3℃/min）10.控溫穩(wěn)定度：±1℃(恒溫平臺)11.爐膛溫度均勻度：±4℃（恒溫1500℃,2h）

三綜合試驗是指綜合溫度、濕度、振動三個環(huán)境應力的試驗，具有極寬大的溫濕度控制范圍，可滿足用戶的各種需要采用獨特的平衡調溫調濕方式，可獲得安全、精確的溫濕度環(huán)境。同時可在三綜合試驗箱內將電振動應力按規(guī)定的周期施加到試品上，供用戶對整機（或部件）、電器、儀器、材料等作溫濕度、振動綜合應力篩選試驗，以便考核試品的適應性或對試品的行為作出評價。下面為大家介紹一下真萍科技的溫濕度振動三綜合試驗箱特點。1.試驗室與制冷系統(tǒng)整體組合式結構，緊湊美觀，便于操作制冷壓縮機組及主要配件均為口。2.進口LCD彩色液晶觸摸屏，溫、濕度程序自動控制，配有RS232通訊接口3.可根據用戶要求選配不同制造商不同型號的振動臺，振動臺接口接口可有多種形式選用，保證冷、熱、汽密封的同時，振動臺具有良好的力學傳遞性。4.可根據用戶要求設計、制造不同規(guī)格。合肥真萍科技的氣氛爐怎么樣？實地考察下真萍就知道了。

電熱鼓風烤箱適用于各種產品或材料及電氣、儀表、元器件、電子、電工及汽車、航空、通訊塑膠、機械、食品、化工、化學品、五金工具在恒溫環(huán)境條件下作干燥和各種恒溫適應性試驗。下面為大家介紹一下真萍科技電熱鼓風烤箱的控制系統(tǒng)。一、控制系統(tǒng)1.采用數顯微電腦溫度控制器，控制精確可靠。2.具有定時功能、控溫保護功能，設有風機停轉開關。二、電氣控制系統(tǒng)1.電氣控制元件均采用國內出名品牌。2.電氣線路設計新穎，合理布線，安全性可靠。3.箱體頂部為電器控制柜，方便于集中檢查維修。合肥真萍科技-氣氛爐生產廠家。江蘇氣氛爐參考價格

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本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預處理系統(tǒng)的必要性：在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。福州氣氛爐專賣