1.爐膛氣氛：2路空氣，流量計(jì)量程為7～70L/min，每路流量可調(diào)節(jié)；2.排氣系統(tǒng)：在爐膛頂部設(shè)置一個(gè)排氣囪，用于廢氣排放。二、傳動(dòng)系統(tǒng)1.傳動(dòng)方式：升降式2.傳動(dòng)類型：電動(dòng)推桿傳動(dòng)3.容積：20L三、冷卻系統(tǒng)1.冷卻結(jié)構(gòu)：無2.產(chǎn)品降溫：隨爐降溫四、安全保護(hù)1.升、降、停按鈕：載料臺(tái)的升、降、?？刂?.報(bào)警指示：超溫、斷偶、過載、超程、偏差等聲光報(bào)警3.設(shè)備安全升溫速率≤5℃/min五、溫度控制系統(tǒng)1.溫度測(cè)量:采用B分度熱偶測(cè)量2.控制方式：高性能移相調(diào)壓+SCR晶閘管模塊控制2.1當(dāng)測(cè)量溫度超過設(shè)定的安全值時(shí)，斷加熱，并報(bào)警2.2當(dāng)測(cè)量溫度超過目標(biāo)溫度達(dá)到限制偏差值時(shí)，報(bào)警3.控制儀表：采用進(jìn)口智能調(diào)節(jié)儀控制。具有PID參數(shù)自整定、高溫上限報(bào)警、熱電偶失效指示等多項(xiàng)報(bào)警保護(hù)功能。試驗(yàn)箱去哪找？合肥真萍科技告訴您。試驗(yàn)箱代理公司

真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤裰饕獞?yīng)用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線，解決液晶的受潮問題，解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤竦牡獨(dú)獗O(jiān)控系統(tǒng)。1.2.3寸LED大屏幕數(shù)字顯示濕度/溫度。2.溫濕度顯示值0.1％-99.9％RH，溫度顯示值0.1℃-60.0℃。3.溫濕度收集采準(zhǔn)確傳感器，長距離傳輸無誤差。4.濕度控制：4.1利用濕度設(shè)定值來控制氮?dú)饬魅?，到達(dá)濕度設(shè)定值即停止進(jìn)氣，節(jié)省氮?dú)夂挠谩?.2濕度在1％-60％RH可調(diào)整。南京高低溫低壓試驗(yàn)箱合肥真萍科技為您提供試驗(yàn)箱相關(guān)專業(yè)解答。

下面為大家介紹一下真萍科技無氧干燥箱。一、技術(shù)指標(biāo)與基本配置：1.使用溫度：RT～260℃，極限溫度：300℃；2.爐膛腔數(shù):2個(gè),上下布置；3.爐膛材料：SUS304鏡面不銹鋼；加熱元件：不銹鋼加熱器；熱偶：K分度4.溫度和氧含量記錄:無紙記錄儀；二、氧含量（配氧分析儀）：1.高溫狀態(tài)氧含量：≤10ppm+氣源氧含量;低溫狀態(tài)氧含量：≤20ppm+氣源氧含量2.控溫穩(wěn)定度：±1℃；2.3溫度均勻度：±2%℃（260℃平臺(tái)）；無氧干燥箱應(yīng)用于航空、航天、石油、化工、、船舶、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位，主要作BPO膠/PI膠/BCB膠固化，模壓固烤、IC（晶圓、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指紋識(shí)別）、FPD、高精密電子元件、電子陶瓷材料無塵烘干，電工產(chǎn)品、材料、零備件等的高溫潔凈和無氧環(huán)境中干燥和老化試驗(yàn)。

中溫氣氛箱式爐主要用于磷酸鐵鋰正極材料等類似產(chǎn)品的高溫?zé)Y(jié)、熱處理，下面為大家介紹一下中溫氣氛箱式爐的系統(tǒng)配置。一、冷卻系統(tǒng)1.冷卻結(jié)構(gòu)無2.產(chǎn)品降溫隨爐降溫3.安全保護(hù)4.報(bào)警指示超溫、斷偶、停水、停氣等聲光報(bào)警保護(hù)5.設(shè)備安全升溫速率≤5℃/min二、溫度控制系統(tǒng)1.溫度測(cè)量采用K分度熱偶測(cè)量2.控制儀表采用進(jìn)口智能調(diào)節(jié)儀控制。具有PID參數(shù)自整定、高溫3.上限報(bào)警、熱電偶失效指示等多項(xiàng)報(bào)警保護(hù)功能4.控制方式固態(tài)繼電器過零控制5.超溫處理⑴.當(dāng)測(cè)量溫度超過設(shè)定的安全值時(shí)，斷加熱，并報(bào)警。⑵.當(dāng)測(cè)量溫度超過目標(biāo)溫度達(dá)到安全偏差值時(shí)，報(bào)警。試驗(yàn)箱怎樣使用？合肥真萍告訴您。

本篇介紹專業(yè)全自動(dòng)HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。試驗(yàn)箱定制生產(chǎn)，價(jià)格從優(yōu)。高低溫交變?cè)囼?yàn)箱非標(biāo)定制

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連續(xù)爐即是連續(xù)作業(yè)爐，是指連續(xù)地或間歇地裝料，工件在爐內(nèi)不斷移動(dòng)，完成加熱、保溫，有時(shí)包括冷卻在內(nèi)全過程的熱處理爐。連續(xù)作業(yè)爐可借助某些機(jī)械機(jī)構(gòu)連續(xù)地或間歇地進(jìn)行裝料和出料，連續(xù)順序地通過按零件處理工藝要求的不同溫度區(qū)完成加熱過程。使用連續(xù)作業(yè)爐可提高產(chǎn)品質(zhì)量，提高勞動(dòng)生產(chǎn)率和改善勞動(dòng)條件。下面為大家介紹一下連續(xù)爐的技術(shù)參數(shù)。1.送風(fēng)方式：送風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)；2.溫度范圍：RT+30℃~300℃；3.溫度精度：1℃4.溫度均勻性：1℃5.溫控裝置：富士智能PID溫控儀，LED數(shù)字顯示，PID自動(dòng)演算及定時(shí)；6.材質(zhì)：內(nèi)膽不銹鋼，外箱體鋼板靜電噴塑；7.傳送方式：鏈桿、鏈網(wǎng)、自動(dòng)錕輪，相當(dāng)強(qiáng)承重；8.復(fù)合式電加熱器；9.保護(hù)裝置：漏電保護(hù)、斷路保護(hù)、電機(jī)過載保護(hù)、接地保護(hù)、非正常運(yùn)行情況下蜂鳴報(bào)警。試驗(yàn)箱代理公司