中溫氣氛箱式爐主要用于磷酸鐵鋰正極材料等類似產(chǎn)品的高溫?zé)Y(jié)、熱處理工作，下面為大家介紹一下中溫氣氛箱式爐的系統(tǒng)配置。一、熱工系統(tǒng)1.額定溫度800℃2.較高溫度850℃3.加熱元件陶瓷外絲加熱管4.加熱功率18kw5.空爐保溫功率約9kw6.溫區(qū)個數(shù)1個7.控溫點數(shù)2點8.熱偶K分度9.控溫穩(wěn)定度±1℃(恒溫平臺)10.爐膛溫度均勻度±6℃（恒溫800℃,1h）二、冷卻系統(tǒng)1.冷卻結(jié)構(gòu)無2.產(chǎn)品降溫隨爐降溫3.安全保護(hù)4.報警指示超溫、斷偶、停水、停氣等聲光報警保護(hù)5.設(shè)備安全升溫速率≤5℃/min網(wǎng)帶爐選購應(yīng)該注意哪些呢？合肥真萍科技告訴您。北京小型網(wǎng)帶爐專賣

中溫氣氛箱式爐主要用于磷酸鐵鋰正極材料等類似產(chǎn)品的高溫?zé)Y(jié)、熱處理工作。下面為大家介紹一下中溫氣氛箱式爐的系統(tǒng)配置。一、熱工系統(tǒng)1.額定溫度800℃2.較高溫度850℃3.加熱元件陶瓷外絲加熱管4.加熱功率18kw5.空爐保溫功率約9kw6.溫區(qū)個數(shù)1個7.控溫點數(shù)2點8.熱偶K分度9.控溫穩(wěn)定度±1℃(恒溫平臺)10.爐膛溫度均勻度±6℃（恒溫800℃,1h）二、冷卻系統(tǒng)1.冷卻結(jié)構(gòu)無2.產(chǎn)品降溫隨爐降溫3.安全保護(hù)4.報警指示超溫、斷偶、停水、停氣等聲光報警保護(hù)5.設(shè)備安全升溫速率≤5℃/min嘉興燒結(jié)網(wǎng)帶爐批發(fā)網(wǎng)帶爐怎樣使用？合肥真萍告訴您。

真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜主要應(yīng)用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線，解決液晶的受潮問題，解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜的氮氣監(jiān)控系統(tǒng)。1.2.3寸LED大屏幕數(shù)字顯示濕度/溫度。2.溫濕度顯示值0.1％-99.9％RH，溫度顯示值0.1℃-60.0℃。3.溫濕度收集采準(zhǔn)確傳感器，長距離傳輸無誤差。4.濕度控制：4.1利用濕度設(shè)定值來控制氮氣流入，到達(dá)濕度設(shè)定值即停止進(jìn)氣，節(jié)省氮氣耗用。4.2濕度在1％-60％RH可調(diào)整。

1.采用智能型溫度控制模塊，PID自動演算，LED顯示，配合SSR大功率可控硅輸出，能控制溫度之精細(xì)度；2.分段控制（當(dāng)?shù)竭_(dá)設(shè)定溫度時可任意關(guān)掉其中幾段發(fā)熱管，降低加熱功率，其達(dá)到省電效果）3.內(nèi)箱采用1.5mm厚SUS304#不銹鋼(清潔無塵，防生銹、耐腐蝕)，外箱采用1.5mm厚Q235冷軋鋼板(強度、塑性和焊接綜合性能相當(dāng)好)；4.整機(jī)控制系統(tǒng)采用觸摸屏加PLC程序控制，設(shè)備加熱、運風(fēng)、傳動、自動門開關(guān)均采用智能控制，防止失誤動作；5.當(dāng)實際檢測溫度超過超溫保護(hù)溫控器設(shè)定值時，自動切斷加熱電源，起到雙重保護(hù)功能。網(wǎng)帶爐定制生產(chǎn)，價格從優(yōu)。

一、熱工系統(tǒng)1.額定溫度800℃2.較高溫度850℃3.加熱元件陶瓷外絲加熱管4.加熱功率18kw5.空爐保溫功率約9kw6.溫區(qū)個數(shù)1個7.控溫點數(shù)2點8.熱偶K分度9.控溫穩(wěn)定度±1℃(恒溫平臺)10.爐膛溫度均勻度±6℃（恒溫800℃,1h）二、冷卻系統(tǒng)1.冷卻結(jié)構(gòu)無2.產(chǎn)品降溫隨爐降溫3.安全保護(hù)4.報警指示超溫、斷偶、停水、停氣等聲光報警保護(hù)5.設(shè)備安全升溫速率≤5℃/min，在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。你知道網(wǎng)帶爐的特點嗎？蕪湖網(wǎng)帶爐

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本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。北京小型網(wǎng)帶爐專賣