使用高溫鐘罩爐具有特定的操作方法,需按照標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)范進(jìn)行。下面是真萍科技的鐘罩爐的使用注意事項(xiàng)。 在使用高溫鐘罩爐時(shí),其升溫要緩慢地用逐漸進(jìn)步電壓的方法進(jìn)行。留意不要超過(guò)安全溫度,以免焚毀電熱絲。 將物料放入爐膛時(shí),切勿觸及熱電偶,因伸入爐膛內(nèi)的熱電偶熱端在高溫下易于折斷。將金屬以及其它礦藏放入高溫鐘罩爐爐內(nèi)加熱時(shí),有必要置于耐高溫的瓷坍渦或瓷皿中,或墊以耐火泥板或石棉板,避免與爐膛粘連在一起。不要讓高溫鐘罩爐受潮,以防漏電。網(wǎng)帶爐對(duì)如今市場(chǎng)的影響。烘干網(wǎng)帶爐維修
使用高溫鐘罩爐有特定的操作方法,需按照標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)范進(jìn)行,下面是真萍科技的鐘罩爐的使用注意事項(xiàng)。
1、在使用高溫鐘罩爐時(shí),其升溫要緩慢地用逐漸進(jìn)步電壓的方法進(jìn)行。留意不要超過(guò)安全溫度,避免焚毀電熱絲。
2、將物料放入爐膛時(shí),切勿碰及熱電偶,因伸入爐膛內(nèi)的熱電偶熱端在高溫下易于折斷。
3、將金屬以及其它礦藏放入高溫鐘罩爐爐內(nèi)加熱時(shí),有必要置于耐高溫的瓷坍渦或瓷皿中,或墊以耐火泥板或石棉板,避免與爐膛粘連在一起。
4、不要讓高溫鐘罩爐受潮,以防漏電。 淮安小型網(wǎng)帶爐上海哪家網(wǎng)帶爐廠家值得信賴?
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冷熱沖擊試驗(yàn)箱具有模擬大氣環(huán)境中溫度變化規(guī)律的功能。主要針對(duì)于電工,電子產(chǎn)品,以及其元器件及其它材料在高溫,低溫綜合環(huán)境下運(yùn)輸,使用時(shí)的適應(yīng)性試驗(yàn),被用于產(chǎn)品設(shè)計(jì),改進(jìn),鑒定及檢驗(yàn)等環(huán)節(jié)。真萍科技作為冷熱沖擊試驗(yàn)箱設(shè)備制造廠商,在冷熱沖擊試驗(yàn)箱設(shè)備制造領(lǐng)域的專業(yè)性是不用多說(shuō)的。下面讓真萍科技從溫度方面,帶您了解冷熱沖擊試驗(yàn)箱。 一、溫度均勻度 舊標(biāo)準(zhǔn)稱均勻度,新標(biāo)準(zhǔn)稱梯度。溫度穩(wěn)定后,在任意時(shí)間間隔內(nèi),工作空間內(nèi)任意兩點(diǎn)的溫度平均值之差的較大值。這個(gè)指標(biāo)比下面的溫度偏差指標(biāo)更可以考核產(chǎn)品的**技術(shù),因此好多公司的樣本及方案刻意隱藏此項(xiàng)。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為≤2℃。 二、溫度偏差 溫度穩(wěn)定后,在任意時(shí)間間隔內(nèi),工作空間中心溫度的平均值和工作空間內(nèi)其它點(diǎn)的溫度平均值之差。雖然新舊標(biāo)準(zhǔn)對(duì)此指標(biāo)的定義和稱呼相同,但檢測(cè)已有所改變,新標(biāo)準(zhǔn)更實(shí)際,更苛刻一點(diǎn),但考核時(shí)間短點(diǎn)。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為±2℃,純高溫試驗(yàn)箱200℃以上可按實(shí)際使用溫度攝氏度(℃)±2%要求。合肥真萍告訴您網(wǎng)帶爐哪家好?
電熱鼓風(fēng)烤箱適用于各種產(chǎn)品或材料及電氣、儀表、元器件、電子、電工及汽車、航空、通訊塑膠、機(jī)械、食品、化工、化學(xué)品、五金工具在恒溫環(huán)境條件下作干燥和各種恒溫適應(yīng)性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下真萍科技電熱鼓風(fēng)烤箱的控制系統(tǒng)。 一、控制系統(tǒng) 1.采用數(shù)顯微電腦溫度控制器,控制精確可靠。 2.具有定時(shí)功能、控溫保護(hù)功能,設(shè)有風(fēng)機(jī)停轉(zhuǎn)開(kāi)關(guān)。 二、電氣控制系統(tǒng) 1.電氣控制元件均采用國(guó)內(nèi)品牌。 2.電氣線路設(shè)計(jì)新穎,合理布線,安全性可靠。 3.箱體頂部為電器控制柜,方便于集中檢查維修。網(wǎng)帶爐的優(yōu)點(diǎn)體現(xiàn)在哪?生產(chǎn)網(wǎng)帶爐銷售價(jià)格
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本篇介紹專業(yè)全自動(dòng)HMDS真空烤箱,首先簡(jiǎn)單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。烘干網(wǎng)帶爐維修