下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的技術(shù)指標(biāo)。1.使用溫度：1450℃；比較高溫度：1500℃；2.絕熱材料：石墨纖維毯、石墨紙；3.加熱元件：石墨加熱棒；4.冷卻方式：氣冷+循環(huán)風(fēng)冷降溫；5.控溫穩(wěn)定度：±2℃，具有PID參數(shù)自整定功能；6.爐膛溫度均勻度：±5℃（恒溫1500℃）；7.氣氛:可向爐膛內(nèi)通入干燥、潔凈、無油的高純度氮?dú)?純度≥99.999%；8.極限真空:10-3torr級(jí)；9.抽氣速率：空載下，30min達(dá)到10-2torr10.升溫功率：170kW；11.升溫速率：15℃/min（空載）；12.降溫速率：1450℃至80℃,240分鐘13.腔體尺寸：1000*1000*1000mm（寬*深*高）網(wǎng)帶爐的運(yùn)用領(lǐng)域是什么？溫州烘干網(wǎng)帶爐

下面為大家介紹一下全自動(dòng)HMDS真空烤箱的技術(shù)指標(biāo)。1.機(jī)外殼采用冷扎鋼板噴塑處理，內(nèi)膽為不銹鋼316L材料制成；加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周，內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防彈雙層玻璃門觀察工作室內(nèi)物體一目了然。2.箱門閉合松緊能調(diào)節(jié)，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內(nèi)高真空度。3.微電腦智能控溫儀，具有設(shè)定，測(cè)定溫度雙數(shù)字顯示和PID自整定功能，控溫精確，可靠。4.智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序，溫度，真空度及每一程序時(shí)間。5.HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì)，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無外漏顧慮。整個(gè)系統(tǒng)采用優(yōu)良材料制造，無發(fā)塵材料，適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境。嘉興小型網(wǎng)帶爐上海網(wǎng)帶爐的價(jià)格是多少？

真空烘箱是將干燥物料處于負(fù)壓條件下進(jìn)行干燥的一種箱體式干燥設(shè)備。它是利用真空泵進(jìn)行抽氣抽濕，使工作室內(nèi)形成真空狀態(tài)，降低水的沸點(diǎn)，加快干燥的速度。下面為大家介紹一下真萍科技真空烘箱的特點(diǎn)。一、真空程序分段控制該型號(hào)機(jī)型，抽真空過程可提供程序化編程，只需根據(jù)客戶要求編輯設(shè)定真空值，保壓時(shí)間值。相當(dāng)大可實(shí)現(xiàn)18段抽真空和保壓編程。二、操作步驟1.接通電源；2.產(chǎn)品送入腔體，關(guān)門；3.打開電源；4.工作溫度設(shè)定好，啟動(dòng)加熱，設(shè)備進(jìn)入自動(dòng)恒溫狀態(tài)；5.真空值和時(shí)間設(shè)定好后，啟動(dòng)真空泵，開始進(jìn)入自動(dòng)抽真空階段；6.到達(dá)時(shí)間值后，真空泵自動(dòng)關(guān)閉。

下面為大家介紹一下全自動(dòng)HMDS真空烤箱的技術(shù)指標(biāo)。1.HMDS管路加熱功能，使HMDS液體進(jìn)入箱體的前端管路加熱，使轉(zhuǎn)為HMDS氣態(tài)時(shí)更易。2.低液報(bào)警裝置，采用紅外液體感測(cè)器，能及時(shí)靈敏給出指令（當(dāng)HMDS液過低時(shí)發(fā)出報(bào)警及及時(shí)切斷工作起動(dòng)功能）3.溫度與PLC聯(lián)動(dòng)保護(hù)功能（當(dāng)PLC沒有啟動(dòng)程序時(shí)，加溫功能啟動(dòng)不了，相反加溫功能啟動(dòng)時(shí)，PLC程序不按正常走時(shí)也及時(shí)切斷工作功能，發(fā)出警報(bào)）4.整個(gè)箱體及HMDS氣體管路采用SUS316不銹鋼材料，整體使用無縫焊接（避免拼接導(dǎo)致HMDS液體腐蝕外泄對(duì)人體的傷害）你知道網(wǎng)帶爐的特點(diǎn)嗎？

超高真空烘箱被廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位，用于確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項(xiàng)或同時(shí)作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的降溫速率。1.升溫時(shí)間：①常壓時(shí)：90min（常溫～+260℃）②低氣壓0.0001pa時(shí)：180min（常溫～+260℃）2.降溫時(shí)間：3℃～10℃/min（260℃～120℃）,1℃～5℃/min（120℃～常溫℃）3.降溫方式：水冷降溫4.試驗(yàn)箱承壓方式：采用內(nèi)承壓方式5.壓力范圍：常壓～0.0001Pa。網(wǎng)帶爐的基本結(jié)構(gòu)級(jí)應(yīng)用！杭州烘干網(wǎng)帶爐專賣

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光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。溫州烘干網(wǎng)帶爐