十年來(lái)，我國(guó)自主研發(fā)的北斗芯片工藝從90nm到28nm，尺寸不斷縮小，性能不斷提升，并具備在全球范圍展開(kāi)競(jìng)爭(zhēng)的實(shí)力和底氣。在剛剛舉辦的第十屆中國(guó)衛(wèi)星導(dǎo)航年會(huì)宣布，我國(guó)正在研發(fā)北斗22納米高精度、低功耗定位芯片。結(jié)合北斗三號(hào)全球系統(tǒng)的建成，該22納米工藝北斗定位芯片，將使得我國(guó)北斗能夠切入到無(wú)人機(jī)、自動(dòng)駕駛、機(jī)器人、物聯(lián)網(wǎng)等熱門應(yīng)用領(lǐng)域；并助力北斗在全球范圍內(nèi)提供更好的服務(wù)。

據(jù)悉，該芯片由國(guó)內(nèi)創(chuàng)新衛(wèi)星導(dǎo)航企業(yè)、北斗上市企業(yè)北斗星通旗下的芯片公司和芯星通研發(fā)。 壓電納米定位臺(tái)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體設(shè)備、顯微成像、納米技術(shù)、激光與光學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、航天航空等領(lǐng)域。壓電陶瓷和納米應(yīng)用前沿

干涉物鏡就是將顯微鏡物鏡與干涉儀結(jié)合起來(lái)設(shè)計(jì)而成的一種特殊的顯微鏡物鏡。它的原理是一束光通過(guò)分光鏡后，將光直接射向樣品表面和內(nèi)置反光鏡，從樣品表面反射的光線和內(nèi)置反射鏡反射的光線再結(jié)合，就產(chǎn)生了干涉圖案。干涉物鏡可用在非接觸光學(xué)壓型測(cè)量設(shè)備上，通過(guò)此物鏡可得到表面位圖和表面測(cè)量參數(shù)等，也可用來(lái)檢測(cè)表面粗糙度，測(cè)量精度非常高，在一個(gè)波長(zhǎng)之內(nèi)。在系統(tǒng)工作時(shí)，通過(guò)納米移動(dòng)臺(tái)驅(qū)動(dòng)待測(cè)樣本表面在垂直方向上均勻、緩慢、連續(xù)運(yùn)動(dòng)，改變測(cè)量光路與參考光路的光程差。垂直掃描的過(guò)程中，相機(jī)依次獲取一系列的白光干涉圖，通過(guò)三維形貌恢復(fù)算法計(jì)算并定位出每個(gè)像素點(diǎn)的零光程差位置，即可得到相應(yīng)的高度信息，從而恢復(fù)出待測(cè)表面的三維形貌。 壓電促動(dòng)器哪家好納米定位平臺(tái)批發(fā)價(jià)格？

由壓電陶瓷控制器控制的壓電納米定位臺(tái)用于移動(dòng)3D干涉儀系統(tǒng)中的干涉物鏡或光纖連接器以產(chǎn)生位相移動(dòng)，分5步位相移動(dòng)，每移動(dòng)一步后由CCD攝像頭讀取干涉條紋。壓電納米定位臺(tái)內(nèi)部采用無(wú)摩擦柔性鉸鏈導(dǎo)向機(jī)構(gòu)，一體化的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。機(jī)構(gòu)放大式驅(qū)動(dòng)原理，內(nèi)置高性能壓電陶瓷，可實(shí)現(xiàn)納米級(jí)位移。具有高剛性、高負(fù)載、無(wú)摩擦等特點(diǎn)，可適應(yīng)匹配光纖端面檢測(cè)的需求。壓電納米定位臺(tái)內(nèi)部采用無(wú)摩擦柔性鉸鏈導(dǎo)向機(jī)構(gòu)，一體化的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。機(jī)構(gòu)放大式驅(qū)動(dòng)原理，內(nèi)置高性能壓電陶瓷，可實(shí)現(xiàn)納米級(jí)位移。具有高剛性、高負(fù)載、無(wú)摩擦等特點(diǎn)。此外，壓電納米定位臺(tái)還可用于：光路調(diào)整；納米操控技術(shù)；納米光刻，生物科技；激光干涉；CCD圖像處理；納米測(cè)量、顯微操作；納米壓印、納米定位；顯微成像、共焦顯微。

壓電納米掃描系統(tǒng)是由精密壓電納米定位臺(tái)與壓電控制器組成，系統(tǒng)可完成單軸或多軸的納米精度的運(yùn)動(dòng)控制。下圖中為芯明天的一款小體積型Z向壓電納米掃描系統(tǒng)。干涉測(cè)量是基于電磁波的干涉理論，通過(guò)檢測(cè)相干電磁波的干涉圖樣、頻率、振幅、相位等屬性，將其應(yīng)用于各種相關(guān)測(cè)量的技術(shù)的統(tǒng)稱。用于實(shí)現(xiàn)干涉測(cè)量術(shù)的儀器被稱作干涉儀。在當(dāng)今科研領(lǐng)域、工業(yè)領(lǐng)域等，干涉測(cè)量術(shù)都發(fā)揮著重要作用，包括天文學(xué)、光纖光學(xué)、工程測(cè)量學(xué)等。在干涉測(cè)量中常用的工具是邁克爾遜干涉儀，一般可將相干光源的單條入射光束分成兩條相同的光束。每條光束的傳播路徑（稱為光程）不同，并在到達(dá)探測(cè)器之前重新會(huì)合。每條光束的傳播距離不同使它們之間產(chǎn)生相位差。該相位差形成了可通過(guò)探測(cè)器捕獲的干涉條紋。如果單條光束沿兩個(gè)光路分開(kāi)（測(cè)量光路和參考光路），則利用相位差便可判斷出所有可改變光束相位的因素。 納米定位平臺(tái)的工作原理圖講解。

縱觀納米測(cè)量技術(shù)發(fā)展的歷程，它的研究主要向兩個(gè)方向發(fā)展：一是在傳統(tǒng)的測(cè)量方法基礎(chǔ)上，應(yīng)用先進(jìn)的測(cè)試儀器解決應(yīng)用物理和微細(xì)加工中的納米測(cè)量問(wèn)題,分析各種測(cè)試技術(shù),提出改進(jìn)的措施或新的測(cè)試方法；二是發(fā)展建立在新概念基礎(chǔ)上的測(cè)量技術(shù)，利用微觀物理、量子物理中新的研究成果,將其應(yīng)用于測(cè)量系統(tǒng)中,它將成為未來(lái)納米測(cè)量的發(fā)展趨向。但納米測(cè)量中也存在一些問(wèn)題限制了它的發(fā)展。建立相應(yīng)的納米測(cè)量環(huán)境一直是實(shí)現(xiàn)納米測(cè)量亟待解決的問(wèn)題之一，而且在不同的測(cè)量方法中需要的納米測(cè)量環(huán)境也是不同的。同時(shí)，對(duì)納米材料和納米器件的研究和發(fā)展來(lái)說(shuō)，表征和檢測(cè)起著至關(guān)重要的作用。由于人們對(duì)納米材料和器件的許多基本特征、結(jié)構(gòu)和相互作用了解得還不很充分，使其在設(shè)計(jì)和制造中存在許多的盲目性，現(xiàn)有的測(cè)量表征技術(shù)就存在著許多問(wèn)題。此外，由于納米材料和器件的特征長(zhǎng)度很小，測(cè)量時(shí)產(chǎn)生很大擾動(dòng)，以至產(chǎn)生的信息并不能完全顯示其本身特性。這些都是限制納米測(cè)量技術(shù)通用化和應(yīng)用化的瓶頸，因此，納米尺度下的測(cè)量無(wú)論是在理論上，還是在技術(shù)和設(shè)備上都需要深入研究和發(fā)展。 測(cè)試校準(zhǔn)系統(tǒng)是將納米位移系統(tǒng)內(nèi)部的“標(biāo)尺”與米定義聯(lián)系起來(lái)，實(shí)現(xiàn)量值的溯源。壓電陶瓷和納米工程技術(shù)

納米定位平臺(tái)屬于機(jī)器人么？壓電陶瓷和納米應(yīng)用前沿

帶寬：平臺(tái)運(yùn)動(dòng)的振幅下降3dB的頻率范圍。它反映了平臺(tái)可以跟隨驅(qū)動(dòng)信號(hào)的速度。漂移：位置隨時(shí)間的變化，包括溫度變化和其他環(huán)境的影響。漂移可能來(lái)自于機(jī)械系統(tǒng)和電子設(shè)備。摩擦。摩擦被定義為運(yùn)動(dòng)過(guò)程中接觸面之間的阻力。因?yàn)樗麄兪褂脧澢?，所以摩擦可能是恒定的或與速度有關(guān)。而Piezoconcept的納米定位器是無(wú)摩擦的。滯后：前向掃描和后向掃描之間的定位誤差。閉環(huán)控制是這個(gè)問(wèn)題的理想解決方案，通過(guò)使用高分辨率硅傳感器網(wǎng)絡(luò)提供反饋信號(hào)來(lái)完成。正交性誤差:兩個(gè)定義的運(yùn)動(dòng)軸的角度偏移，使其相互之間成為正交。它可以被解釋為串?dāng)_的一部分。階躍響應(yīng)時(shí)間：階躍響應(yīng)時(shí)間是納米定位器從指令值的10%到指令值的90%所需的時(shí)間。階躍響應(yīng)時(shí)間反映了系統(tǒng)的動(dòng)態(tài)特性。壓電陶瓷和納米應(yīng)用前沿