和分別位于二級精餾塔5塔內(nèi)、純氪塔6塔內(nèi)、粗氙塔7塔內(nèi)、純氙塔8塔內(nèi),以不同比例低溫氮?dú)馀c常溫氮?dú)饣旌虾蟮玫降妮^低溫氣體為冷源的第二冷凝蒸發(fā)器10、第三冷凝蒸發(fā)器11、第四冷凝蒸發(fā)器12、第五冷凝蒸發(fā)器13;用于匯總從各冷凝蒸發(fā)器出來的氮?dú)獠?fù)熱的主換熱器3;以及用于接受復(fù)熱后的氮?dú)獠⒃鰤旱难h(huán)壓縮機(jī)1;其中,所述一級精餾塔4與所述二級精餾塔5連接;所述二級精餾塔5分別與所述純氪塔6和所述粗氙塔7連接;所述粗氙塔7與所述純氙塔8連接;所述分餾塔2與所述主換熱器3連接。所述循環(huán)壓縮機(jī)1分別與所述分餾塔2和所述主換熱器3連接。氪氙混合物經(jīng)前端氪氙粗制設(shè)備濃縮后(kr:~%,xe:~%,其余為氧、氮、碳?xì)浠衔铩⒎锏?經(jīng)過管道或者容器加入到分餾塔2內(nèi)的一級精餾塔4中(操作壓力~,溫度收壓力及組分變動影響,一般為-125~-170℃),在去除低沸點(diǎn)組分(一般為混入的氧氣、氮?dú)獾?后,送入二級精餾塔5,二級精餾塔5的操作壓力比一級精餾塔4略低,一般在~,雜質(zhì)含量減少,操作溫度會比較穩(wěn)定,一般為-130℃。在其中分離為高沸點(diǎn)的粗氙氣和低沸點(diǎn)的粗氪氣,其中粗氪氣送入純氪塔6(操作壓力為~,操作溫度為:-135℃),在純氪塔6中,高沸點(diǎn)組分??捎梢簯B(tài)空氣分離得到,在真空管內(nèi)發(fā)出淡紅色輝光,用于電燈中 [neon]——元素符號Ne。四川工業(yè)氖
每個晶體根據(jù)自己的相位匹配角均存在一個比較好工作溫度,當(dāng)偏離比較好工作溫度時,將會使得頻率轉(zhuǎn)換效率降低,當(dāng)偏離溫度過多,如超過10℃甚至更高,頻率轉(zhuǎn)換將不發(fā)生,激光將無改變的通過非線性晶體,且由于晶體對各個波長的透過率非常高,功率損耗很小可忽略。當(dāng)非線性晶體321、322、323全部都工作在自己的比較好溫度時,各個非線性過程均有發(fā)生,輸出全部激光波長,分別為1064nm、532nm、355nm、266nm;當(dāng)使得非線性晶體321和323工作在比較好溫度、非線性晶體322遠(yuǎn)偏離比較好溫度時,輸出三種波長,分別為1064nm、532nm、266nm;當(dāng)使得非線性晶體321和322工作在比較好溫度、非線性晶體323遠(yuǎn)偏離比較好溫度時,輸出三種波長,分別為1064nm、532nm、355nm;當(dāng)使得非線性晶體321工作在比較好溫度、非線性晶體322、323遠(yuǎn)偏離比較好溫度時,輸出兩種波長,分別為1064nm、532nm;當(dāng)使得非線性晶體321遠(yuǎn)偏離比較好溫度時,輸出一種波長,為1064nm;各波長輸出情況可參見表1。當(dāng)使某一非線性晶體工作在其比較好工作時,可使此非線性晶體產(chǎn)生的波長的激光輸出功率比較大,若稍微調(diào)離比較好工作溫度時,可使此晶體對應(yīng)產(chǎn)生的波長功率降低,從而可以調(diào)節(jié)各個波長輸出的比例。液態(tài)氖氣廠家價格氖氣具有很高的導(dǎo)熱性,常用于制冷和冷卻設(shè)備中。
氖氣是一種無色、無臭的惰性氣體,具有以下性質(zhì):1、非常穩(wěn)定:氖氣是一種六原子氣體,具有非常高的穩(wěn)定性,不易與其他物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)。2、低溶解度:氖氣在水中的溶解度非常低,幾乎不與水反應(yīng)。3、高導(dǎo)熱性:氖氣具有很高的導(dǎo)熱性,常用于制冷和冷卻設(shè)備中。4、易受電離:在高電壓下,氖氣可被激發(fā)為氖的等離子體狀態(tài),發(fā)出紅色橙色的熒光。
氖氣的主要用途包括:1、照明:氖氣***用于制造熒光燈、霓虹燈和放電管等照明設(shè)備,因其發(fā)出明亮的橙紅色熒光而得名。2、氣體激光:氖氣可用于產(chǎn)生氖氣激光器,用于科學(xué)研究、醫(yī)療***和材料加工等領(lǐng)域。3、制冷和冷卻:氖氣具有很高的導(dǎo)熱性,常用于制冷和冷卻系統(tǒng)中,特別是在高溫設(shè)備的散熱方面。
輸出鏡,鍍有各個波長的部分透過膜;以及多個溫控爐,用于分別安放所述二倍頻非線性晶體、三倍頻非線性晶體并進(jìn)行加熱,通過控制溫控爐溫度,實(shí)現(xiàn)調(diào)節(jié)輸出光中各個波長激光的比例。所述二倍頻非線性晶體的比較好工作溫度為148℃;所述三倍頻非線性晶體的比較好工作溫度為60℃;431為諧振腔的全反鏡,鍍有全部波長的全反膜,鍍1064nm、532nm、355nm的高反膜。411為激光晶體,即激光器的工作物質(zhì),用于產(chǎn)生基頻光1064nm波長。421為二倍頻非線性晶體,用于二倍頻過程產(chǎn)生532nm波長。422為三倍頻非線性晶體,用于三倍頻過程產(chǎn)生355nm波長。432為二倍頻諧波鏡,鍍有1064nm高透膜和532nm的高透膜。433為三倍頻諧波鏡,鍍有1064nm、532nm的高透膜和355nm的高反膜。434為輸出鏡,鍍有各個波長的部分透過膜,可是各個波長均有一定的反射率,在腔內(nèi)形成振蕩。同樣,非線性晶體421、422均已經(jīng)調(diào)節(jié)到比較好工作位置,且每個晶體均固定在精確溫度控制的溫控爐內(nèi),溫控爐統(tǒng)一由驅(qū)動控制器控制溫度要求。如二倍頻非線性晶體比較好工作溫度為150℃,三倍頻非線性晶體比較好工作溫度為50℃。當(dāng)偏離比較好工作溫度時,將會使得頻率轉(zhuǎn)換效率降低,當(dāng)偏離溫度過多,如超過10℃甚至更高。工業(yè)氣體液氖具有沸點(diǎn)低、蒸發(fā)潛熱較高、使用安全等特點(diǎn)。
包括伴隨的權(quán)利要求、摘要和附圖)中公開的所有特征以及如此公開的任何方法或者設(shè)備的所有過程或單元進(jìn)行組合。除非另外明確陳述,本說明書(包括伴隨的權(quán)利要求、摘要和附圖)中公開的每個特征可以由提供相同、等同或相似目的的替代特征來代替。并且,在列舉了若干裝置的單元權(quán)利要求中,這些裝置中的若干個可以是通過同一個硬件項(xiàng)來具體體現(xiàn)。類似地,應(yīng)當(dāng)理解,為了精簡本公開并幫助理解各個公開方面中的一個或多個,在上面對本公開的示例性實(shí)施例的描述中,本公開的各個特征有時被一起分組到單個實(shí)施例、圖、或者對其的描述中。然而,并不應(yīng)將該公開的方法解釋成反映如下意圖:即所要求保護(hù)的本公開要求比在每個權(quán)利要求中所明確記載的特征更多的特征。更確切地說,如下面的權(quán)利要求書所反映的那樣,公開方面在于少于前面公開的單個實(shí)施例的所有特征。因此,遵循具體實(shí)施方式的權(quán)利要求書由此明確地并入該具體實(shí)施方式,其中每個權(quán)利要求本身都作為本公開的單獨(dú)實(shí)施例。以上所述的具體實(shí)施例,對本公開的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說明,所應(yīng)理解的是,以上所述*為本公開的具體實(shí)施例而已,并不用于限制本公開,凡在本公開的精神和原則之內(nèi)。液態(tài)相對密度1. 204(-245.9℃)。熔點(diǎn)-248. 67℃,沸點(diǎn)- 245.9℃。臨界溫度- 228. 66℃,臨界壓力26.9×105 Pa,。山東普氖提取
具有非常高的穩(wěn)定性,不易與其他物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)。四川工業(yè)氖
還可將經(jīng)過冷液氮回流流的其他部分作為回流流引導(dǎo)至低壓塔并且/或者將其看作液氮產(chǎn)物流。附圖說明雖然本發(fā)明的結(jié)論是申請人視為他們的發(fā)明內(nèi)容且清楚地指出發(fā)明主題的權(quán)利要求,但相信本發(fā)明在結(jié)合附圖考慮時將得到更好的理解。其中:圖1是具有本發(fā)明的不可冷凝氣體回收系統(tǒng)的實(shí)施方案的低溫空氣分離單元的局部示意圖;圖2是圖1的不可冷凝氣體回收系統(tǒng)的更詳細(xì)示意圖;圖3是具有不可冷凝氣體回收系統(tǒng)的另選實(shí)施方案的低溫空氣分離單元的局部示意圖;圖4是圖3的不可冷凝氣體回收系統(tǒng)的一個實(shí)施方案的更詳細(xì)示意圖;圖5是圖3的不可冷凝氣體回收系統(tǒng)的另一實(shí)施方案的更詳細(xì)示意圖;圖6是具有本發(fā)明的不可冷凝氣體回收系統(tǒng)的又一實(shí)施方案的低溫空氣分離單元的局部示意圖;圖7是圖6的不可冷凝氣體回收系統(tǒng)的更詳細(xì)示意圖;并且圖8是圖6的不可冷凝氣體回收系統(tǒng)的更詳細(xì)示意圖。具體實(shí)施方式現(xiàn)在轉(zhuǎn)到圖1、圖3和圖6,示出了通常也稱為空氣分離單元10的低溫空氣分離設(shè)備的簡化例示。從廣義上講,所描繪的空氣分離單元包括主進(jìn)料空氣壓縮機(jī)組20、渦輪空氣回路30、增壓器回路40、主或初級換熱器系統(tǒng)50、基于渦輪的致冷回路60以及蒸餾塔系統(tǒng)70。如本文所用。四川工業(yè)氖