純水設備，它采用的是主要是反滲透膜技術。它的工作原理是對水施加一定的壓力，使水分子和離子態(tài)的礦物質元素通過反滲透膜，而溶解在水中的絕大部分無機鹽(包括重金屬)、有機物以及細菌、病毒等無法透過反滲透膜，從而使?jié)B透過的純凈水和無法滲透過的濃縮水嚴格的分開;反滲透膜上的孔徑只有0.0001微米,而病毒的直徑一般有0.02-0.4微米,普通細菌的直徑有0.4-1微米。一、用途不同（一）超純水設備的用途：1、超純材料和超純試劑的生產(chǎn)和清洗。2、電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗。3、電池產(chǎn)品的生產(chǎn)。4、半導體產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗。超純水設備可以提供低細菌和病毒的水源。山東半導體用超純水金屬離子超標

光學材料生產(chǎn)用超純水設備水質手機面板、光學鏡片、光學玻璃清洗對超純水水質要求高，帶電力離子和污垢會對鏡片產(chǎn)生不可逆損害,終端水質要求≥17.5MΩ*cm（25℃）。三、光學材料生產(chǎn)用超純水設備技術光電光學玻璃行業(yè)的超純水設備主要是為玻璃清洗時給超聲波提供超純水，鍍膜玻璃鏡片清洗超純水設備設計上，采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO＋EDI＋SMB除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質出水電阻率達到18.2MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用主流可靠產(chǎn)品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統(tǒng)自動化程度高，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。山東半導體用超純水金屬離子超標超純水設備可以去除水中的雜質和污染物。

用途不同一超純水設備的用途超純材料和超純試劑的生產(chǎn)和清洗。2、電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗。3、電池產(chǎn)品的生產(chǎn)。4、半導體產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗。5、電路板的生產(chǎn)和清洗。6、其他高科技精細產(chǎn)品的生產(chǎn)。（二）純水設備的用途：1、電廠化學水處理2、電子、半導體、精密機械行業(yè)超純水3、食品、飲料、飲用水的制備4、小型純水站，團體飲用純水5、精細化工、精尖學科用水6、其他行業(yè)所需的高純水制備7、制藥工業(yè)工藝用水8、海水、苦咸水的淡化

第二種采用反滲透作為預處理再配上離子交換設備，其特點為初投次比采用離子交換樹脂方式要高，但離子設備再生周期相對要長，耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。但對環(huán)境還是有一定的破壞性。3、第三種采用反滲透作預處理再配上電去離子(EDI)裝置，這是目前制取超純水經(jīng)濟，環(huán)保用來制取超純水的工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續(xù)制取超純水，對環(huán)境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。●應用場合1.半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路;2.超純材料和超純化學試劑;3.實驗室和中試車間4.汽車、家電表面拋光處理;5.其他高科技精微產(chǎn)品超純水設備可以提供高純度的水源。

預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(工藝)。4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(工藝)。5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)。（二）純水設備的工藝流程為：1、采用離子交換方式原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點超純水設備可以提供低硝酸鹽的水供應。寧波超聲波清洗用超純水設備的常見故障

半導體產(chǎn)業(yè)所要求的超純水是100%的理論純水，不含溶解在水中的離子類、有機物、活菌、微粒等。山東半導體用超純水金屬離子超標

采用兩級反滲透方式原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→級反滲透→PH調節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點3、采用EDI方式原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點超純水設備是采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備。山東半導體用超純水金屬離子超標