【真空鍍膜的膜層結(jié)構(gòu)分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍, 要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材; 底漆:UV底漆,對基材表面做預(yù)處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚; 膜層:靶材蒸發(fā)的結(jié)果,VM膜層可導(dǎo)電,NCVM鍍層不導(dǎo)電,且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。 面漆:面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時對真空膜層起保護(hù)作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度 一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚 。 真空鍍膜機(jī)抽真空步驟。河南蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)
【機(jī)械泵分類】機(jī)械泵有很多種,常用的有滑閥式、活塞往復(fù)式、定片式和旋片式四種類型。 機(jī)械泵是從da氣開始工作的,它的主要參數(shù)有極限真空,抽氣速率,此為設(shè)計(jì)與選用機(jī)械泵的重要依據(jù)。單級泵可以將容器從da氣抽到1.0*10-1PA的極限真空,雙級機(jī)械泵可以將容器從da氣抽到6.7*10-2帕,甚至更高。抽氣速率,是指旋片泵按額定轉(zhuǎn)數(shù)運(yùn)轉(zhuǎn)時,單位時間內(nèi)所能排出氣體的體積,可以用下公式計(jì)算:Sth=2nVs=2nfsL fs表示吸氣結(jié)束時空腔截面積,L表示空腔長度,系數(shù)表示轉(zhuǎn)子每旋轉(zhuǎn)一周有兩次排氣過程,Vs表示當(dāng)轉(zhuǎn)子處于水平位置的時候,吸氣結(jié)束,此時空腔內(nèi)的體積*da,轉(zhuǎn)速為n。機(jī)械泵排氣的效果還與電機(jī)的轉(zhuǎn)速及皮帶的松緊度有關(guān)系,當(dāng)電機(jī)的皮帶比較松,電機(jī)轉(zhuǎn)速很慢的時候,機(jī)械泵的排氣效果也會變差,所以要經(jīng)常保養(yǎng),點(diǎn)檢,機(jī)械泵油的密封效果也需要常常點(diǎn)檢,油過少,達(dá)不到密封效果,泵內(nèi)會漏氣,油過多,把吸氣孔堵塞,無法吸氣和排氣,一般,在油位在線下0.5厘米即可。 江蘇真空鍍膜機(jī)什么品牌好廣東真空鍍膜機(jī)廠家。
【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子轟擊材料表面,使其濺射出進(jìn)入氣相,可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快,以Cu,Au,Ag等*高,Ti,Mo,Ta,W等*低。一般在0.1-10原子/離子。 離子可以直流輝光放電(glow discharge)產(chǎn)生,在10-1—10 Pa真空度,在兩極間加高壓產(chǎn)生放電,正離子會轟擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材,而鍍至被鍍物上。 正常輝光放電(glow discharge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類壓力等有關(guān)。濺鍍時應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。 任何材料皆可濺射鍍膜,即使高熔點(diǎn)材料也容易濺鍍,但對非導(dǎo)體靶材須以射頻(RF)或脈沖(pulse)濺射;且因?qū)щ娦暂^差,濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達(dá)10W/cm2,非金屬<5W/cm2。
【真空鍍膜機(jī)常見故障】: 一、 當(dāng)正在鍍膜室真空突然下降 1. 蒸發(fā)源水路膠圈損壞(更換膠圈) 2. 坩堝被打穿(更換坩堝) 3. 高壓電極密封處被擊穿(更換膠圈) 4. 工轉(zhuǎn)動密封處膠圈損壞(更換膠圈) 5. 預(yù)閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞(更換二位五通閥) 6. 高閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞(更換二位五通閥) 7. 機(jī)械泵停機(jī)可能是繼電器斷開(檢查繼電器是否工作正常) 8. 烘烤引入線電極密封處被擊穿(更換膠圈) 9. 擋板動密封處膠圈損壞(更換膠圈) 10. 玻璃觀察視鏡出現(xiàn)裂紋、炸裂(更換玻璃) 二、長期工作的鍍膜機(jī)抽真空的時間很長且達(dá)不到工作真空、恢復(fù)真空、極限真空、保真空: 1. 蒸發(fā)室有很多粉塵(應(yīng)清洗) 2. 擴(kuò)散泵很久未換油(應(yīng)清洗換油) 3. 前級泵反壓強(qiáng)da太機(jī)械泵真空度太低(應(yīng)清洗換油) 4. 各動密封膠圈損壞(更換膠圈) 5. 由于蒸發(fā)室長期溫度過高使其各密封膠圈老化(更換膠圈) 6. 蒸發(fā)室各引入水路密封處是否有膠圈損壞(更換膠圈) 7. 各引入座螺釘、螺母有無松動現(xiàn)象(重新壓緊) 8. 高低預(yù)閥是否密封可靠(注油) PVD真空鍍膜機(jī)的公司。
【真空鍍膜技術(shù)專業(yè)詞匯】真空鍍膜vacuum coating:在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。 基片substrate:膜層承受體。 試驗(yàn)基片testing substrate:在鍍膜開始、鍍膜過程中或鍍膜結(jié)束后用作測量和(或)試驗(yàn)的基片。 鍍膜材料coating material:用來制取膜層的原材料。 蒸發(fā)材料evaporation material:在真空蒸發(fā)中用來蒸發(fā)的鍍膜材料。 濺射材料sputtering material:有真空濺射中用來濺射的鍍膜材料。 膜層材料(膜層材質(zhì))film material:組成膜層的材料。 蒸發(fā)速率evaporation rate:在給定時間間隔內(nèi),蒸發(fā)出來的材料量,除以該時間間隔 濺射速率sputtering rate:在給定時間間隔內(nèi),濺射出來的材料量,除以該時間間隔。 沉積速率deposition rate:在給定時間間隔內(nèi),沉積在基片上的材料量,除以該時間間隔和基片表面積。 鍍膜角度coating angle:入射到基片上的粒子方向與被鍍表面法線之間的夾角。 錦成國泰真空鍍膜機(jī)怎么樣?廣西真空鍍膜機(jī)
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【真空鍍膜機(jī)真空檢漏方法之靜態(tài)升壓法】 靜態(tài)升壓法屬于真空檢漏法中的一種,也是*簡單易行的真空系統(tǒng)檢漏方法,因?yàn)樗恍枰妙~外特殊的儀器或者特殊物質(zhì),通過測量規(guī)管就可以檢測真空系統(tǒng)的總漏率,從而確定真空系統(tǒng)或部件是否滿足工作要求。雖然勝在簡單,但也存在局限。如果真空系統(tǒng)或容器存在漏孔的話,靜態(tài)升壓法是無法確定漏孔所在的。因此在確定系統(tǒng)是否有漏孔的同時還需要確定其位置的話,就需要配合其他方法來進(jìn)行了。 靜態(tài)升壓法的操作只要將被檢容器抽空至相應(yīng)的壓力范圍,再關(guān)閉閥門,隔離真空泵與真空容器,然后用真空計(jì)測量記錄真空容器中壓力隨時間的變化過程,即可得出泄漏數(shù)據(jù)。《真空系統(tǒng)抽氣達(dá)不到工作壓力有哪些原因》中,螺桿真空泵廠家介紹的判斷方法即是通過靜態(tài)升壓法實(shí)現(xiàn)的,比較方便。當(dāng)然在應(yīng)用過程中,要提高準(zhǔn)確性就要減少其他因素干擾,需要在檢測之前對容器進(jìn)行凈化清洗并烘干,或者用氮?dú)膺M(jìn)行沖洗。更嚴(yán)格一點(diǎn)可以在測量規(guī)管與容器之間設(shè)置冷阱,處理釋放的可凝氣體,而對可能存在的漏孔所漏進(jìn)的空氣不會造成影響。 河南蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)
成都國泰真空設(shè)備有限公司是一家一般項(xiàng)目:泵及真空設(shè)備制造‘泵及真空設(shè)備銷售;機(jī)械設(shè)備銷售;機(jī)械零件、零部件銷售;光學(xué)儀器銷售;光學(xué)玻璃銷售;功能玻璃和新型光學(xué)材料銷售;電子元器件批發(fā);技術(shù)服務(wù)、技術(shù)開發(fā)、技術(shù)咨詢、技術(shù)交流、技術(shù)轉(zhuǎn)讓、技術(shù)推廣。的公司,是一家集研發(fā)、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)和銷售為一體的專業(yè)化公司。國泰真空深耕行業(yè)多年,始終以客戶的需求為向?qū)?,為客戶提?**的光學(xué)鍍膜設(shè)備,真空鍍膜設(shè)備,光學(xué)真空鍍膜機(jī),紅外鍍膜設(shè)備。國泰真空致力于把技術(shù)上的創(chuàng)新展現(xiàn)成對用戶產(chǎn)品上的貼心,為用戶帶來良好體驗(yàn)。國泰真空始終關(guān)注自身,在風(fēng)云變化的時代,對自身的建設(shè)毫不懈怠,高度的專注與執(zhí)著使國泰真空在行業(yè)的從容而自信。