【磁控濺射鍍光學膜的技術路線】 （a）陶瓷靶濺射：靶材采用金屬化合物靶材，可以直接沉積各種氧化物或者氮化物，有時候為了得到更高的膜層純度，也需要通入一定量反應氣體）； （b）反應濺射：靶材采用金屬或非金屬靶，通入稀有和反應氣體的混合氣體，進行濺射沉積各種化合物膜層。 （c）離子輔助沉積：先沉積一層很薄的金屬或非金屬層，然后再引入反應氣體離子源，將膜層進行氧化或者氮化等。 采用以上三種技術方案，在濺射沉積光學膜時，都會存在靶中毒現(xiàn)象，從而導致膜層沉積速度非常慢，對于上節(jié)介紹各種光學膜來說，膜層厚度較厚，膜層總厚度可達數百納米。這種沉積速度顯然增加了鍍膜成本，從而限制了磁控濺射鍍膜在光學上的應用。 光學鍍膜設備技術教程。廣東直銷光學鍍膜設備

【光學鏡片鍍膜的膜形核過程之單層生長模式（層狀生長）】單層上的形核生長模式（Stranki-Krastanov型），又稱作斯特朗斯基一克拉斯坦諾型，是層島混合模式。光學鏡片鍍膜按這種方式形成時，首先于基底上形成具有膺結構的單層膜（層狀生長），接著于單層膜上生成三維的形核生長（島狀生長）。以這種模式形成鍍膜的材料與基片的組合較少。這種膜生長一般是在真空鍍膜的基底原子和沉積原子的相互作用力大，加上沉積原子本身的凝聚力也大的情況下，鍍膜就按這種方式來形成。 光學鏡片鍍膜可作防反射或防眩光處理，這樣的鍍膜可以有效助于鏡片的使用壽命延長的同時，光學鏡片鍍膜的便利性和保護性也是非常出se的。鍍上合適的材料可幫助鏡片抵御劃傷和污漬，并具有減少眩光、附加安全系數。使用光學鏡片鍍膜設備，讓鏡片鍍層消除眩光、減少反射，對于在辦公室環(huán)境中使用計算機工作、經常開車以及許多使用數字媒體產品的人來說，鏡片鍍膜就是很好的存在。用廣東振華科技光學鍍膜設備鍍上特殊鍍料，還能做到不影響清晰度的同時，減少夜間的遠光車燈等強光的眩光影響，是夜間眼鏡鍍膜的理想選擇。 貴州濺射光學鍍膜設備光學鍍膜設備產業(yè)集群。

【多層反射膜】在玻璃基板上交替重復地蒸鍍折射率較高的電介質膜和折射率較低的電介質膜時，可以得到反射率非常高的反射膜。高折射率和低折射率的分界面會產生很少的反射。由于每層的電介質膜的厚度都調節(jié)為λ/4的光程(折射率n×膜厚d)，在各層上反射的光線的相位相同，反射將相互合成加強。相反，經過多重反射向透過方向前進的光線則相互抵消變?yōu)榱?。如果電介質膜的層數足夠多，入射光線會逐漸減弱，變得幾乎不能透過。衰減的光線將全部轉為反射光。由于電解質膜沒有吸收，入射的光線將沒有損失，成為100%的反射光。

【濾光片術語】 入射角度：入射光線和濾光片表面法線之間的夾角。當光線正入射時，入射角為0°。 光譜特性：濾光片光譜參數(透過率T，反射率R，光密度OD，位相，偏振狀態(tài)s，p等相對于波長變化的特性)。 中心波長：帶通濾光片的中心稱為中心波長（CWL）。通帶寬度用*大透過率 一半處的寬度表示（FWHM），通常稱為半寬。 有效孔徑：光學系統(tǒng)中有效利用的物理區(qū)域。通常于濾光片的外觀尺寸相似，同心，尺寸略小些。 截止位置/前-后：cut-on對應光譜特性從衰減到透過的50%點，cut-off對應光譜特性從透過到衰減的50%點。有時也可定義為峰值透過率的5%或者10%點。 公差Tolerance：:任何產品都有制造公差。以帶通濾光片為例，中心波長要有公差，半寬要有公差，因此定購產品時一定要標明公差范圍。濾光片實際使用過程中并非公差越小越好，公差越小，制造難度越大，成本越高，用戶可以根據實際需要，提出合理公差范圍。 光學鍍膜設備培訓資料。

【光學真空鍍膜機如何保養(yǎng)】 一、定期更換擴散泵油，擴散泵油使用一段時間，約二個月，因在長期高溫環(huán)境，雖然較高真空時才啟動擴散泵，但仍殘留氧氣及其它成份使之與擴散泵油起反應，擴散泵油在高溫下也可能產生裂解，使其品質下降，而延長抽氣時間。在我們認為時間延長得太多時，應予更換； 二、真空泵。機械泵油、維持泵油在使用二個月，油質會發(fā)生變化。因油可能抽入水分、雜質及其它原因，而使用油粘性變差，真空下降，故需要更換。如為新設備，在使用頭半個月即應更換，因在磨合期，油含磨合鐵粉較多，會加劇磨損。 三、要注意清潔衛(wèi)生。定期將設備及其周圍環(huán)境衛(wèi)生搞好，常保持設備內外清潔，將設備周圍環(huán)境整理有條，有一個好的工作環(huán)境，以保安全。 光學鍍膜設備國內有哪些產商？陜西濺射光學鍍膜設備

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【磁控濺射光學鍍膜設備及鍍膜方法】設備包含真空鍍膜室、磁控濺射靶組件、立式旋轉鼓，真空鍍膜室為立式圓筒形結構，立式旋轉鼓位于真空鍍膜室內，繞垂直軸線旋轉，立式旋轉鼓中心設置有旋轉密封箱，旋轉密封箱內設置有膜厚測量儀表，旋轉密封箱的上部連接有旋轉軸，旋轉密封箱內的氣氛與真空鍍膜室隔離。多組磁控濺射靶組件設置在立式旋轉鼓wai圍的真空鍍膜室的側壁上。鍍膜方法包括將需要鍍膜的工件裝卡到鍍膜設備的立式旋轉鼓的側面，對鍍膜設備抽真空；轉動立式旋轉鼓達到設定的轉速；啟動射頻離子源；交替啟動第一種材料的磁控靶靶和第二種材料的磁控靶，按工藝要求鍍制膜層。 廣東直銷光學鍍膜設備

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