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上海磁控真空鍍膜機

來源: 發(fā)布時間:2022-02-23

【真空鍍膜之電解拋光】電拋光是一種電化學過程,其中浸沒在電解質(zhì)中的工件的原子轉(zhuǎn)化成離子,并由于電流的通過而從表面移除,從而達到工件表面除去細微毛刺和光亮度增da的效果。 適用材料: 多數(shù)金屬都可以被電解拋光,其中*常用于不銹鋼的表面拋光(尤其適用于奧氏體核級不銹鋼)。 2.不同材料不可同時進行電解拋光,甚至不可以放在同一個電解溶劑里。 工藝成本:電解拋光整個過程基本由自動化完成,所以人工費用很低。環(huán)境影響:電解拋光采用危害較小的化學物質(zhì),整個過程需要少量的水且操作簡單,另外可以延長不銹鋼的屬性,起到讓不銹鋼延緩腐蝕的作用。 真空鍍膜機參數(shù)怎么調(diào)?上海磁控真空鍍膜機

【真空鍍膜機之輔助抽氣系統(tǒng)】真空腔各部分有連接閥,用來連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統(tǒng):排氣系統(tǒng)為鍍膜機真空系統(tǒng)的重要部分,主要有由機械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴散泵三da部分組成。此排氣系統(tǒng)采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。排氣流程為:機械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態(tài),為擴散泵后繼抽真空提供前提,之后當擴散泵抽真空腔的時候,機械泵又配合油擴散泵組成串聯(lián),以這樣的方式完成抽氣動作。四川實驗室用真空鍍膜機真空鍍膜機的操作視頻。

【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環(huán)境要注意清潔的問題。3、鍍膜一段時間后,真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料,必須要做到嚴格合乎工藝要求。5、工作人員有專門的服裝,操作要戴手套、腳套等。6、適當?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度,有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。7、技術上明確允許的*da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數(shù)量的上限da致是多少。8、室內(nèi)空氣流動性低、地面干凈,如果是裸露的水泥地,需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質(zhì)涂料粉刷。

【真空鍍膜機電控柜的操作】 1、玻璃真空鍍膜機開水泵、氣源 2、開總電源 3、開維持泵、真空計電源,真空計檔位置V1位置,等待其值小于10后,再進入下一步操作。約需5分鐘。 4、開機械泵、予抽,開渦輪分子泵電源、啟動,真空計開關換到V2位置,抽到小于2為止,約需20分鐘。 5、觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達250以后,關予抽,開前機和高閥繼續(xù)抽真空,抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭,觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子qiang電源。 真空鍍膜機品牌有很多,你如何選擇?

【真空鍍膜機之卷繞式鍍膜機】鍍膜產(chǎn)品廣fan用于裝飾、包裝、電容器等領域中,可鍍光學、電學、電磁、導電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%~2%,紙含水量更da,一般為5%-7%,經(jīng)涂布烘干后,含水量仍有3%。由于基材含水量高,故鍍膜室由初始的單室發(fā)展到目前雙室或多室結構。蒸發(fā)源可以是電阻式、感應式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結構應用普遍,其優(yōu)點是:①可以蒸鍍放氣量較da的紙基材,并能保障鍍膜質(zhì)量。紙放出的da量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小,使放出來的氣體不易進入蒸鍍室中;②單室結構必須配置較da的排氣系統(tǒng)才能保障蒸鍍時的工作壓力,而雙室結構中的蒸鍍室氣體量較小,可配小型抽氣機組,使設備成本降低,并節(jié)約能源;③卷繞室與蒸鍍室分別抽氣,可縮短抽氣時間。   卷繞式真空鍍膜機在結構上除了有一般鍍膜機所有的結構外,必須有一個為了實現(xiàn)連續(xù)鍍膜而設置的卷繞機構。由于被鍍基體是紙或塑料,放氣量較da,因此,在真空室的結構上又有單室和多室之分。 紅外真空鍍膜機制造商。上海磁控真空鍍膜機

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【真空鍍膜設備設計原則及常用技術指標】 真空設備設計原則:(1)先功能,后結構。先給出指標參數(shù)、生產(chǎn)要求、功能;(2)先核xin后輔助。由內(nèi)向外。先決定靶尺寸、靶基距;(3)先局部,后整體。再由整體,定局部。(4)先設計,后校核。由粗到細。 鍍膜機常用技術指標:鍍膜方法:CVD,PVD(蒸發(fā)、濺射、離子鍍、復合鍍);被鍍工件的形狀、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生產(chǎn)方式:連續(xù)、半連續(xù)、周期式。生產(chǎn)周期。生產(chǎn)量。生產(chǎn)速率。技術參數(shù);設備極限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作氣氛;漏率、抽空時間、恢復真空時間。工作(烘烤)溫度;(熱處理爐、凍干機)膜厚不均勻程度;功率;*高電壓。 上海磁控真空鍍膜機

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