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江西二手真空光學鍍膜機

來源: 發(fā)布時間:2022-03-12

    【光學鍍膜機電子qiang打火問題】電子qiang在蒸鍍時,由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發(fā)材料的蒸汽發(fā)生碰撞產生的離子轟擊帶負電高壓電極及其引線,即產生打火。另外,若這些帶負高壓電的部分有塵粒等雜物,會使該處電場集中了容易打火。故電子束蒸鍍設備的高壓電源都附有高壓自動滅弧復位裝置,在打火非常嚴重時才會自動切斷高壓,然后又自動恢復,切斷與恢復的時間愈短,愈不會影響蒸鍍工藝。高壓引線應盡量短,并用接地良好的不銹鋼板屏蔽住,不要追求美觀把引線彎來彎去。qiang頭金屬件和引線定期用細砂紙打光,然后用丙tong清洗干凈。上螺釘?shù)穆菘锥ㄆ谟媒z錐攻螺孔,以便螺釘上下方便并保證壓的很緊。所有陶瓷件污染后應予更換。電子qiang體應可靠接地。對放氣量大的材料應充分預熱以徹底除氣。蒸鍍時功率要合適,不可過高造成材料飛濺。高壓饋線與高壓絕緣子金屬件的接線一定要可靠并經常檢查,以免增大接觸電阻造成發(fā)熱而燒壞。 光學鍍膜機日常怎么維護?江西二手真空光學鍍膜機

    【光學鍍膜之何為濺射鍍】用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面,沉積在基片上。通常將欲沉積的材料制成板材──靶,固定在陰極上?;糜谡龑Π忻娴年枠O上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入10~1帕的氣體(通常為氬氣),在陰極和陽極間加幾千伏電壓,兩極間即產生輝光放電。放電產生的正離子在電場作用下飛向陰極,與靶表面原子碰撞,受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。①反應濺射法:即將反應氣體(O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應氣體及其離子與靶原子或濺射原子發(fā)生反應生成化合物(如氧化物、氮化物等)而沉積在基片上,適用濺射化合物膜。②高頻濺射法?;b在接地的電極上,絕緣靶裝在對面的電極上。高頻電源一端接地,一端通過匹配網(wǎng)絡和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后,高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負半周分別打到絕緣靶上沉積。由于電子遷移率高于正離子,絕緣靶表面帶負電,在達到動態(tài)平衡時,靶處于負的偏置電位,從而使正離子對靶的濺射持續(xù)進行,適用濺射絕緣膜。 新疆光學鍍膜機品牌國產光學鍍膜機廠商推薦。

光學鍍膜機主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組及電柜(控制電柜、電子槍電柜)組成,其廣泛應用于微電子、光學成膜、民用裝飾、表面工程等領域。振華光學鍍膜設備在防止油污染和縮短工作周期等方面具有***的性能。光學鍍膜設備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當?shù)臏囟龋牧鲜軣岷笳舭l(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大,蒸發(fā)出來的蒸汽分子向四處直射,碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。光學鍍膜機維護與保養(yǎng)主要包換電子槍安裝與維護、光路的檢修與維護、設備的清洗與保養(yǎng)。

【濺射鍍膜的特點】濺射鍍膜不受膜材熔點的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質。濺鍍具有電鍍層與基材的結合力強,電鍍層致密,均勻等優(yōu)點。濺射粒子幾不受重力影響,靶材與基板位置可自由安排,薄膜形成初期成核密度高,可生產10nm以下的極薄連續(xù)膜,靶材的壽命長,可長時間自動化連續(xù)生產。靶材可制作成各種形狀,配合機臺的特殊設計做更好的控制及*有效率的生產 濺鍍利用高壓電場做發(fā)生等離子鍍膜物質,使用幾乎所有高熔點金屬,合金和金屬氧化物,如:鉻,鉬,鎢,鈦,銀,金等.但加工成本相對較高。光學鍍膜機機組是怎樣的?

    三、方法和材料的區(qū)別1、真空鍍膜的方法材料:(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達到約,凝結而成薄膜。(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內,保持壓強約~,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學氣相沉積:通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物,獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍:實質上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合,兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點。 光學鍍膜機真空度多少?中國臺灣光學鍍膜機開發(fā)

光學鍍膜機的主要應用。江西二手真空光學鍍膜機

    【光學鍍膜之鍍腱反射膜技術】有機鏡片鍍膜的難度要比玻璃鏡片高。玻璃材料能夠承受300°C以上的高溫,而有機鏡片在超過100°C時便會發(fā)黃,隨后很快分解??梢杂糜诓AхR片的減反射膜材料通常采用氟化鎂(MgF2),但由于氟化鎂的鍍膜工藝必須在高于200°C的環(huán)境下進行,否則不能附著于鏡片的表面,所以有機鏡片并不采用它。20世紀90年代以后,隨著真空鍍膜技術的發(fā)展,利用離子束轟擊技術,使得膜層與鏡片的結合,膜層間的結合得到了改良。而且提煉出的象氧化鈦,氧化鋯等高純度金屬氧化物材料可以通過蒸發(fā)工藝鍍于樹脂鏡片的表面,達到良好的減反射效果。ling先的真空鍍膜設備及工藝解決方案供應商-??翟垂鈱W納米薄膜技術(深圳)有限公司致力于研發(fā)和加工光學鏡片,上百套工藝供您選擇,免fei專業(yè)培訓指導技術操作,卓yue品質,服務全球! 江西二手真空光學鍍膜機

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