【光學(xué)鍍膜之何為物理蒸鍍】物理蒸鍍就是把物質(zhì)加熱揮發(fā)，然后將其蒸氣沉積在預(yù)定的基材上。由于蒸發(fā)源須加熱揮發(fā)，又是在真空中進(jìn)行，故亦稱(chēng)為熱蒸鍍或真空蒸鍍。 其可分為三個(gè)步驟 (1)凝態(tài)的物質(zhì)被加熱揮發(fā)成汽相 (2)蒸汽在具空中移動(dòng)一段距離至基材 (3)蒸汽在基材上冷卻凝結(jié)成薄膜 膜厚的量測(cè)方法有哪些呢， 大致上可分為原位量測(cè)、離位量測(cè)兩類(lèi)：原位星測(cè)系指鍍膜進(jìn)行中量測(cè)，普遍使用在物理qi相沉積，如微天平、光學(xué)、電阻量測(cè)。 離位量測(cè)系指鍍膜完成后量測(cè)，對(duì)電鍍膜的行使較為普遍，具有了解電鍍效率的目的，如質(zhì)量、剖面計(jì)、掃描式電子顯微鏡。光學(xué)鍍膜機(jī)的主要應(yīng)用。中國(guó)臺(tái)灣光學(xué)鍍膜機(jī)開(kāi)發(fā)

    【光學(xué)薄膜的研究新進(jìn)展之軟X射線多層膜】意大利、英國(guó)、法國(guó)、美國(guó)和俄羅斯等國(guó)對(duì)軟X射線多層膜開(kāi)展了廣fan研究，軟X射線的光譜區(qū)為1～30nm，據(jù)報(bào)道，不同波長(zhǎng)的各種軟X射線多層膜都取得了可喜的成績(jī)。采用離子束濺射和磁控濺射等鍍膜技術(shù)制備的軟X射線多層膜，在X光激光器、X射線望遠(yuǎn)鏡等高技術(shù)方面得到應(yīng)用；近年來(lái)，X射線天文學(xué)、軟X射線顯微術(shù)、軟X射線投影光刻以及軟X射線激光均取得了很好的發(fā)展，其中軟X射線多層膜起著關(guān)鍵作用。意大利和荷蘭聯(lián)合研制并成功發(fā)射了探測(cè)X射線的衛(wèi)星以及發(fā)射了“多面鏡X射線觀測(cè)衛(wèi)星”，均使用了軟X射線多層膜；美國(guó)已多次發(fā)射帶有正入射的X射線多層膜系統(tǒng)的衛(wèi)星，得到了～″nm波段的高分辨率太陽(yáng)圖像。 廣東光學(xué)鍍膜機(jī)技術(shù)電子束蒸發(fā)光學(xué)鍍膜機(jī)是什么？

真空鍍膜和光學(xué)鍍膜有什么區(qū)別：一、概念的區(qū)別1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。2、光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過(guò)程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。

    【光學(xué)鍍膜之何為化學(xué)氣相蒸鍍，主要的優(yōu)缺點(diǎn)有哪些】化學(xué)氣相蒸鍍乃使用一種或多種氣體，在一加熱的固體基材上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，并鍍上一層固態(tài)薄膜。優(yōu)點(diǎn):(1)真空度要求不高，甚至可以不需要真空，例如熱噴覆(2)沉積速率快，大氣CVD可以達(dá)到1μm/min(3)與PVD比較的話(huà)?；瘜W(xué)量論組成或合金的鍍膜較容易達(dá)成(4)鍍膜的成份多樣化，如金屬、非金屬、半導(dǎo)體、光電材料、鉆石薄膜等等(5)可以在復(fù)雜形狀的基材鍍膜，甚至滲入多孔的陶瓷(6)厚度的均勻性良好，低壓CVD甚至可以同時(shí)鍍數(shù)十芯片缺點(diǎn):(1)熱力學(xué)及化學(xué)反應(yīng)機(jī)制不易了解或不甚了解(2)需要在高溫下進(jìn)行，有些基材不能承受，甚至和鍍膜產(chǎn)生作用(3)反應(yīng)氣體可能具腐蝕性、毒性或baozha性，處理時(shí)需小心(4)反應(yīng)生成物可能殘余在鍍膜上，成為雜質(zhì)。 光學(xué)鍍膜機(jī)故障解決方法？

【減反射膜的原理】 減反射膜是以光的波動(dòng)性和干涉現(xiàn)象為基礎(chǔ)的。二個(gè)振幅相同，波長(zhǎng)相同的光波疊加，那么光波的振幅增強(qiáng)；如果二個(gè)光波原由相同，波程相差，如果這二個(gè)光波疊加，那么互相抵消了。 1）振幅條件：膜層材料的折射率必須等于鏡片片基材料折射率的平方根。 2）位相條件：膜層厚度應(yīng)為基準(zhǔn)光的1/4波長(zhǎng)。d=λ/4 λ=555nm時(shí)，d=555/4=139nm 對(duì)于減反射膜層，許多眼鏡片生產(chǎn)商采用人眼敏感度較高的光波（波長(zhǎng)為555nm)。當(dāng)鍍膜的厚度過(guò)薄（〈139nm),反射光會(huì)顯出淺棕黃色，如果呈藍(lán)色則表示鍍膜的厚度過(guò)厚（ 〉139nm）。鍍膜反射膜層的目的是要減少光線的反射，但并不可能做到?jīng)]有反射光線。鏡片的表面也總會(huì)有殘留的顏色，我們也會(huì)發(fā)現(xiàn)殘留顏色在鏡片凸面與凹面的曲率不同也使鍍膜的速度不同，因此在鏡片中yang部分呈綠色，而在邊緣部分則為淡紫紅色或其它顏色。 3）鍍減反射膜技術(shù) ：有機(jī)鏡片鍍膜的難度要比玻璃鏡片高。玻璃材料能夠承受300 °C以上的高溫，而有機(jī)鏡片在超過(guò)100 °C時(shí)便會(huì)發(fā)黃，隨后很快分解。光學(xué)鍍膜機(jī)技術(shù)教程。江西二手真空光學(xué)鍍膜機(jī)

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【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空磁控濺射法】磁控濺射法的生產(chǎn)方式包括間歇式和連續(xù)式生產(chǎn)法，其中連續(xù)式生產(chǎn)法又可分為水平和垂直連續(xù)式生產(chǎn)兩種。其中，水平連續(xù)式生產(chǎn)法是玻璃基片在水平輸送過(guò)程中完成全部加工工藝的生產(chǎn)方式，以具有3個(gè)濺射室的雙端機(jī)。 磁控濺射鍍膜的優(yōu)點(diǎn)主要有：①對(duì)靶材的面積和形狀不作要求，且可實(shí)現(xiàn)大面積鍍膜，且膜層均勻性好、膜厚可控、濺射工藝重復(fù)性好；②可用的膜材廣fan，只要能做成靶材的任何材料都可實(shí)現(xiàn)濺射，因此可制備絕大多數(shù)材料的薄膜，包括合金和化合物等；③薄膜與基片的附著力強(qiáng)，膜層純度高、致密；④成膜速度快，生產(chǎn)效率高。中國(guó)臺(tái)灣光學(xué)鍍膜機(jī)開(kāi)發(fā)

成都國(guó)泰真空設(shè)備有限公司致力于機(jī)械及行業(yè)設(shè)備，是一家生產(chǎn)型公司。公司自成立以來(lái)，以質(zhì)量為發(fā)展，讓匠心彌散在每個(gè)細(xì)節(jié)，公司旗下光學(xué)鍍膜設(shè)備，真空鍍膜設(shè)備，光學(xué)真空鍍膜機(jī)，紅外鍍膜設(shè)備深受客戶(hù)的喜愛(ài)。公司將不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力，努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識(shí)，遵守行業(yè)規(guī)范，植根于機(jī)械及行業(yè)設(shè)備行業(yè)的發(fā)展。國(guó)泰真空憑借創(chuàng)新的產(chǎn)品、專(zhuān)業(yè)的服務(wù)、眾多的成功案例積累起來(lái)的聲譽(yù)和口碑，讓企業(yè)發(fā)展再上新高。